一种抑制蓝紫边胶合防红曝滤光膜及滤光片制造技术

本实用新型专利技术涉及一种抑制蓝紫边胶合防红曝滤光膜，由39层膜层依次堆叠而成。本实用新型专利技术的抑制蓝紫边胶合双通滤光膜能有效截止短波400nm以下的蓝紫光色散，在白天可见光420‑650nm和夜晚补光灯近红外830‑950nm波长具有高的透过率，对于700‑780nm的在白天易产生“红曝”光谱的近红外光具有较好的截止。

【技术实现步骤摘要】
一种抑制蓝紫边胶合防红曝滤光膜及滤光片
本技术涉及一种抑制蓝紫边胶合防红曝滤光膜及滤光片。
技术介绍
日夜兼用的滤波器又称为双通道滤波器，它可以同时通过可见光和近红外光，白天拍摄时能保证足够强的自然光进入相机成像系统，而在夜晚使用补光灯在近红外850nm或940nm波长同样能有效接收，获得清晰的黑白图像。因此双通道滤波器被广泛应用于数码相机、监控摄像机、手机摄像、安防监控、生物医药等领域。传统的滤波器是在相机或者摄像机的接收端增加一枚平板双通滤光片，其占用体积较大。另外，进入数码时代之后，CCD或cmos传感器代替了原来的银盐胶片，它的敏感光谱更宽，镜头蓝紫边问题暴露无遗。蓝紫边的产生主要是因为光学镜片折射率色散导致，不同波长的光通过光学镜片折射后出现分离散开的现象。从光路设计来看，设计者更多的是关注可见光420-680nm的折射率色散，忽略了短波420nm前的色散。而折射率色散变化最大的就在于蓝紫光。目前市面上解决蓝紫边的方法主要有：光路设计时加入很多日本、德国产低色散玻璃镜片，但其成本高；采用非球面镜片通过特别设计的镜片结构来减少色差；通过相机后期处理软件补偿色差来调整蓝紫边问题。以上方法在成本上都没有优势，鉴于目前镜头蓝紫边问题，采用镜头内置蓝紫光截止滤光膜将成为今后光路设计的一大趋势。
技术实现思路
本技术提供一种抑制蓝紫边胶合防红曝滤光膜、滤光片。本技术的滤光膜能有效截止短波400nm以下的蓝紫光色散，在白天可见光420-650nm和夜晚补光灯近红外830-950nm波长具有高的透过率，对于700-780nm的在白天易产生“红曝”光谱的近红外光具有较好的截止。本技术通过以下技术方案实现：一种抑制蓝紫边胶合防红曝滤光膜，由如下39层膜层依次堆叠而成：第一Ta2O5膜层、第一SiO2膜层、第二Ta2O5膜层、第二SiO2膜层、第三Ta2O5膜层、第三SiO2膜层、第四Ta2O5膜层、第四SiO2膜层、第五Ta2O5膜层、第五SiO2膜层、第六Ta2O5膜层、第六SiO2膜层、第七Ta2O5膜层、第七SiO2膜层、第八Ta2O5膜层、第八SiO2膜层、第九Ta2O5膜层、第九SiO2膜层、第十Ta2O5膜层、第十SiO2膜层、第十一Ta2O5膜层、第十一SiO2膜层、第十二Ta2O5膜层、第十二SiO2膜层、第十三Ta2O5膜层、第十三SiO2膜层、第十四Ta2O5膜层、第十四SiO2膜层、第十五Ta2O5膜层、第十五SiO2膜层、第十六Ta2O5膜层、第十六SiO2膜层、第十七Ta2O5膜层、第十七SiO2膜层、第十八Ta2O5膜层、第十八SiO2膜层、第十九Ta2O5膜层、第十九SiO2膜层和第二十Ta2O5膜层。进一步地，所述的第一Ta2O5膜层的物理厚度为12.41～13.01nm，第一SiO2膜层的物理厚度为53.4～55.4nm，第二Ta2O5膜层的物理厚度为17.29～17.89nm，第二SiO2膜层的物理厚度为192.18～196.18nm，第三Ta2O5膜层的物理厚度为9.8～10.2nm，第三SiO2膜层的物理厚度为183.39～187.39nm，第四Ta2O5膜层的物理厚度为128.07～130.07nm，第四SiO2膜层的物理厚度为31.54～32.54nm，第五Ta2O5膜层的物理厚度为142.78～146.78nm，第五SiO2膜层的物理厚度为38.27～39.27nm，第六Ta2O5膜层的物理厚度为136.22～140.22nm，第六SiO2膜层的物理厚度为51.29～53.29nm，第七Ta2O5膜层的物理厚度为130.19～133.19nm，第七SiO2膜层的物理厚度为63.44～65.44nm，第八Ta2O5膜层的物理厚度为129.51～131.51nm，第八SiO2膜层的物理厚度为57.57～59.57nm，第九Ta2O5膜层的物理厚度为129.34～132.34nm，第九SiO2膜层的物理厚度为57.75～59.75nm，第十M2膜层的物理厚度为128.28～131.28nm，第十SiO2膜层的物理厚度为63.39～65.39nm，第十一Ta2O5膜层的物理厚度为126.69～128.69nm，第十一SiO2膜层的物理厚度为61.18～63.18nm，第十二Ta2O5膜层的物理厚度为128.36～130.36nm，第十二SiO2膜层的物理厚度为63.69～65.69nm，第十三Ta2O5膜层的物理厚度为131.47～134.47nm，第十三SiO2膜层的物理厚度为53.74～55.74nm，第十四Ta2O5膜层的物理厚度为130.57～133.57nm，第十四SiO2膜层的物理厚度为47.58～49.58nm，第十五Ta2O5膜层的物理厚度为136.24～138.24nm，第十五SiO2膜层的物理厚度为40.03～42.03nm，第十六Ta2O5膜层的物理厚度为116.25～118.25nm，第十六SiO2膜层的物理厚度为155.38～159.38nm，第十七Ta2O5膜层的物理厚度为215.58～219.58nm，第十七SiO2膜层的物理厚度为199.49～203.49nm，第十八Ta2O5膜层的物理厚度为22.76～23.76nm，第十八SiO2膜层的物理厚度为65.01-66.01nm，第十九Ta2O5膜层的物理厚度为11.83～12.43nm，第十九SiO2膜层的物理厚度为118.54～120.54nm，第二十层Ta2O5膜层的物理厚度为9.46～10.06nm。一种抑制蓝紫边胶合防红曝滤光膜的制备方法，包括如下步骤：选择高折射率材料Ta2O5和低折射率材料SiO2作为镀膜材料；对第一玻璃基底层进行抛光和超声波清洗，然后烘干；使用射频离子源对清洗后的玻璃基底刻蚀10-15分钟；使用离子源辅助沉积法在经过步骤处理的第一玻璃基底层表面从里向外依次交替镀制如下39层膜层，第一Ta2O5膜层、第一SiO2膜层、第二Ta2O5膜层、第二SiO2膜层、第三Ta2O5膜层、第三SiO2膜层、第四Ta2O5膜层、第四SiO2膜层、第五Ta2O5膜层、第五SiO2膜层、第六Ta2O5膜层、第六SiO2膜层、第七Ta2O5膜层、第七SiO2膜层、第八Ta2O5膜层、第八SiO2膜层、第九Ta2O5膜层、第九SiO2膜层、第十Ta2O5膜层、第十SiO2膜层、第十一Ta2O5膜层、第十一SiO2膜层、第十二Ta2O5膜层、第十二SiO2膜层、第十三Ta2O5膜层、第十三SiO2膜层、第十四Ta2O5膜层、第十四SiO2膜层、第十五Ta2O5膜层、第十五SiO2膜层、第十六Ta2O5膜层、第十六SiO2膜层、第十七Ta2O5膜层、第十七SiO2膜层和第十八Ta2O5膜层、第十八SiO2膜层和第十九Ta2O5膜层、第十九SiO2膜层和第二十Ta2O5膜层。还包括将第二玻璃基底层胶合在步骤镀制好的39层膜层上。步骤刻蚀时，采用两束纯度为99.99％的氩气作为反应气体进行刻蚀，其中一束氩气Ar1流量为3-5SCCM，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种抑制蓝紫边胶合防红曝滤光膜，其特征在于：由如下39层膜层依次堆叠而成：第一Ta

【技术特征摘要】
1.一种抑制蓝紫边胶合防红曝滤光膜，其特征在于：由如下39层膜层依次堆叠而成：第一Ta2O5膜层(2-1)、第一SiO2膜层(2-2)、第二Ta2O5膜层(2-3)、第二SiO2膜层(2-4)、第三Ta2O5膜层(2-5)、第三SiO2膜层(2-6)、第四Ta2O5膜层(2-7)、第四SiO2膜层(2-8)、第五Ta2O5膜层(2-9)、第五SiO2膜层(2-10)、第六Ta2O5膜层(2-11)、第六SiO2膜层(2-12)、第七Ta2O5膜层(2-13)、第七SiO2膜层(2-14)、第八Ta2O5膜层(2-15)、第八SiO2膜层(2-16)、第九Ta2O5膜层(2-17)、第九SiO2膜层(2-18)、第十Ta2O5膜层(2-19)、第十SiO2膜层(2-20)、第十一Ta2O5膜层(2-21)、第十一SiO2膜层(2-22)、第十二Ta2O5膜层(2-23)、第十二SiO2膜层(2-24)、第十三Ta2O5膜层(2-25)、第十三SiO2膜层(2-26)、第十四Ta2O5膜层(2-27)、第十四SiO2膜层(2-28)、第十五Ta2O5膜层(2-29)、第十五SiO2膜层(2-30)、第十六Ta2O5膜层(2-31)、第十六SiO2膜层(2-32)、第十七Ta2O5膜层(2-33)、第十七SiO2膜层(2-34)、第十八Ta2O5膜层(2-35)、第十八SiO2膜层(2-36)、第十九Ta2O5膜层(2-37)、第十九SiO2膜层(2-38)和第二十Ta2O5膜层(2-39)。


2.根据权利要求1所述的一种抑制蓝紫边胶合防红曝滤光膜，其特征在于：所述的第一Ta2O5膜层(2-1)的物理厚度为12.41～13.01nm，第一SiO2膜层(2-2)的物理厚度为53.4～55.4nm，第二Ta2O5膜层(2-3)的物理厚度为17.29～17.89nm，第二SiO2膜层(2-4)的物理厚度为192.18～196.18nm，第三Ta2O5膜层(2-5)的物理厚度为9.8～10.2nm，第三SiO2膜层(2-6)的物理厚度为183.39～187.39nm，第四Ta2O5膜层(2-7)的物理厚度为128.07～130.07nm，第四SiO2膜层(2-8)的物理厚度为31.54～32.54nm，第五Ta2O5膜层(2-9)的物理厚度为142.78～146.78nm，第五SiO2膜层(2-10)的物理厚度为38.27～39.27nm，第六Ta2O5膜层(2-11)的物理厚度为136.22～140.22nm，第六SiO2膜层(2-12)的物理厚度为51.29～53.29nm，第七Ta2O5膜层(2-13)的物理厚度为130.19～133.19nm，第七SiO2膜层(2-14)的物理厚度为63.44～65.44nm，第八Ta2O5膜层(2-15)的物理厚度为129.51～131.51nm，第八SiO2膜层(2-16)的物...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴小春，张智群，
申请(专利权)人：三明福特科光电有限公司，
类型：新型
国别省市：福建;35