盖构件和具有该盖构件的构件供给组件制造技术

本发明专利技术的盖构件为配置于包括具有开口的面的对象物的该面，防止异物经过上述开口的构件，该盖构件具有：保护膜，该保护膜具有在该盖构件配置于上述面时覆盖上述开口的形状；以及第1基材层，其与保护膜的一个主面接合。第1基材层具有包含两个以上的基材薄膜的层叠构造，并且在盖构件配置于上述面时，位于保护膜与上述面之间。所述两个以上的基材薄膜具有非发泡薄膜和发泡薄膜。本发明专利技术的盖构件适合于从构件供给用的片材进行剥离的剥离性的改善。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】盖构件和具有该盖构件的构件供给组件
本专利技术涉及配置于包括具有开口的面的对象物的该面并且防止异物经过上述开口的盖构件和用于供给该构件的构件供给组件。
技术介绍
公知一种配置于包括具有开口的面的对象物的该面并防止异物经过上述开口的盖构件。在专利文献1中公开了一种防水透气构件，其具有防水透气膜、与防水透气膜的表面的周缘部接合的第1双面粘合带以及与防水透气膜的与上述表面相反的一侧的表面的周缘部接合的第2双面粘合带，第1双面粘合带的基材为发泡体。现有技术文献专利文献专利文献1：国际公开第2015/064028号
技术实现思路
专利技术要解决的问题盖构件通常在配置于内衬片材等构件供给用的片材的状态下供给。在该状态下供给的盖构件在从片材剥离之后，配置于对象物的面。此时，通过吸附、把持来掀起盖构件的最远离片材的层，从而将盖构件从片材剥离，在这样的状态下直接将盖构件配置于保持对象物的面较为高效。最远离的层例如是保护膜、突耳薄膜(日文：タブフィルム)。然而，若从片材剥离盖构件的剥离性较低，则有时掀起盖构件的力集中，导致保护膜破损。破损尤其容易在这样的盖构件中产生，即，该盖构件包含在厚度方向上具有较高的透气性的保护膜。本专利技术的目的在于提供从构件供给用的片材进行剥离的剥离性优异的盖构件。用于解决问题的方案本专利技术提供一种盖构件，其配置于包括具有开口的面的对象物的该面，防止异物经过所述开口，其中，该盖构件具有：保护膜，该保护膜具有在所述盖构件配置于所述面时覆盖所述开口的形状；以及第1基材层，其与所述保护膜的一个主面接合，所述第1基材层具有包含两个以上的基材薄膜的层叠构造，并且在所述盖构件配置于所述面时，位于所述保护膜与所述面之间，所述两个以上的基材薄膜具有非发泡薄膜和发泡薄膜。从其他的方面来看，本专利技术提供一种构件供给组件，其中，该构件供给组件具有构件供给用的片材和配置于所述片材上的盖构件，所述盖构件为上述本专利技术的盖构件，所述盖构件的所述第1基材层面向所述片材。专利技术的效果在本专利技术的盖构件中，具有包含非发泡薄膜和发泡薄膜的两个以上的基材薄膜的层叠构造的第1基材层与保护膜接合。第1基材层在配置于对象物的面时，位于保护膜与该面之间。在此，通过内衬片材等构件供给用的片材供给的盖构件通常配置为，与片材接触的一侧与对象物的面接触。因此，在通过片材进行供给时，第1基材层位于片材侧。在从片材进行剥离时，欲使盖构件弯折的力进行作用。若盖构件在该力的作用下过度变形，则不易剥离，保护膜容易破损。然而，若构件不弯折一定程度，则剥离不会顺畅进行。在本专利技术的盖构件中，第1基材层具有：非发泡薄膜，其相对坚硬，能够防止过度的变形，并且能够将上述力作为剥离构件的力高效地向盖构件传递；以及发泡薄膜，其相对柔软，允许位于片材侧的第1基材层的适度的变形。本专利技术的盖构件具有适合于从构件供给用的片材进行剥离的剥离性的改善的构造。附图说明图1A是示意性地表示本专利技术的盖构件的一个例子的剖视图。图1B是从保护膜所处一侧观察图1A的盖构件的俯视图。图2是示意性地表示本专利技术的盖构件的另一个例子的剖视图。图3是示意性地表示本专利技术的盖构件的又一个例子的剖视图。图4是示意性地表示本专利技术的盖构件的再一个例子的剖视图。图5是示意性地表示本专利技术的盖构件的与上述不同的一个例子的剖视图。图6A是示意性地表示本专利技术的盖构件的与上述不同的一个例子的剖视图。图6B是从第2基材层所处一侧观察图6A的盖构件的俯视图。图7是示意性地表示本专利技术的盖构件的与上述不同的一个例子的剖视图。图8A是示意性地表示本专利技术的盖构件的与上述不同的一个例子的剖视图。图8B是从突耳薄膜所处一侧观察图8A的盖构件的俯视图。图9是表示本专利技术的盖构件相对于对象物配置的一个例子的示意图。图10是表示本专利技术的盖构件相对于对象物配置的其他的一个例子的示意图。图11是示意性地表示本专利技术的构件供给组件的一个例子的俯视图。图12是示意性地表示本专利技术的盖构件相对于构件供给用的片材配置的一个例子的剖视图。图13是示意性地表示本专利技术的盖构件相对于构件供给用的片材配置的其他的一个例子的剖视图。具体实施方式以下参照附图来说明本专利技术的实施方式。本专利技术并不限定于以下的实施方式。[盖构件]在图1A和图1B中示出本专利技术的盖构件的一个例子。图1B是从保护膜2所处一侧观察图1A的盖构件1(1A)的俯视图。图1A表示图1B的A－A剖面。盖构件1A是配置于包括具有开口52的面53的对象物51的面53，且能防止异物经过开口52的构件。图1A和图1B表示处于配置于对象物51的面53的状态的盖构件1A。盖构件1A具有保护膜2和与保护膜2的一个主面相接合的第1基材层3。盖构件1A由包含保护膜2和第1基材层3的层叠体构成。保护膜2具有在盖构件1A配置于面53时覆盖开口52的形状。第1基材层3在盖构件1A配置于面53时，位于保护膜2与面53之间。第1基材层3具有包含两个基材薄膜11的层叠构造。第1基材层3具有由非发泡体构成的非发泡薄膜11A和由发泡体构成的发泡薄膜11B来作为基材薄膜11。发泡薄膜11B位于比非发泡薄膜11A远离保护膜2的位置。在该形态中，在剥离盖构件1A时，由发泡薄膜11B引起的第1基材层3的变形更加适度，能够提高盖构件1A的剥离性。另外，在第1基材层3中位于最远离保护膜2的位置的基材薄膜11为发泡薄膜11B。在该形态中，基于上述适度的变形来提高剥离性变得更加可靠。其中，第1基材层3的层叠构造只要包含非发泡薄膜11A和发泡薄膜11B来作为两个以上的基材薄膜11，则不限定于上述例子。第1基材层3也可以具有两个以上的非发泡薄膜11A和/或两个以上的发泡薄膜11B。在图2中示出第1基材层3的结构不同的变形例。图2的盖构件1A除了第1基材层3的结构不同之外，具有与图1A和图1B的盖构件1A同样的结构。图2的第1基材层3具有两个非发泡薄膜11A、11C和1个发泡薄膜11B来作为基材薄膜11。将非发泡薄膜11A、11C和发泡薄膜11B按该顺序层叠。发泡薄膜11B位于比非发泡薄膜11A、11C远离保护膜2的位置。在第1基材层3中位于最远离保护膜2的位置的基材薄膜11为发泡薄膜11B。第1基材层3中的两个以上的基材薄膜11通常彼此接合。基材薄膜11既可以利用粘合剂或粘接剂彼此接合，也可以通过超声波熔接、热熔接等各种熔接法彼此接合。用于使基材薄膜11彼此接合的粘合剂也可以是层状(粘合剂层)。在该形态中，粘合剂层的柔软性有助于提高剥离性。粘合剂层也可以是无基材的双面粘合带。粘合剂的例子为丙烯酸类粘合剂、硅酮类粘合剂、聚氨酯类粘合剂、环氧类粘合剂以及橡胶类粘合剂。在需要考虑高温下使用盖构件1A的情况下，优选耐热性优异的丙烯酸类粘合剂或硅酮类粘合剂，特别优本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种盖构件，其配置于包括具有开口的面的对象物的该面，防止异物经过所述开口，其中，/n该盖构件具有：/n保护膜，该保护膜具有在所述盖构件配置于所述面时覆盖所述开口的形状；以及/n第1基材层，其与所述保护膜的一个主面接合，/n所述第1基材层具有包含两个以上的基材薄膜的层叠构造，并且在所述盖构件配置于所述面时，位于所述保护膜与所述面之间，/n所述两个以上的基材薄膜具有非发泡薄膜和发泡薄膜。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20190816 JP 2019-1493861.一种盖构件，其配置于包括具有开口的面的对象物的该面，防止异物经过所述开口，其中，
该盖构件具有：
保护膜，该保护膜具有在所述盖构件配置于所述面时覆盖所述开口的形状；以及
第1基材层，其与所述保护膜的一个主面接合，
所述第1基材层具有包含两个以上的基材薄膜的层叠构造，并且在所述盖构件配置于所述面时，位于所述保护膜与所述面之间，
所述两个以上的基材薄膜具有非发泡薄膜和发泡薄膜。


2.根据权利要求1所述的盖构件，其中，
所述发泡薄膜位于比所述非发泡薄膜远离所述保护膜的位置。


3.根据权利要求1或2所述的盖构件，其中，
在所述第1基材层，位于最远离所述保护膜的位置的所述基材薄膜为所述发泡薄膜。


4.根据权利要求1～3中任一项所述的盖构件，其中，
所述保护膜具有厚度方向上的透气性。


5.根据权利要求1～3中任一项所述的盖构件，其中，
所述保护膜包含聚四氟乙烯拉伸多孔质膜。


6.根据权利要求1～5中任一项所述的盖构件，其中，
所述保护膜的内聚力为2.0N/20mm以下。


7.根据权利要求1～6中任一项所述的盖构件，其中，
所述第1基材层在与所述保护膜的主面垂直地看时，具有与所述保护膜的外周一致的外周。


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【专利技术属性】
技术研发人员：菅谷阳辅，木上裕贵，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP