一种基于酸性氯化铜制备硫酸铜的刻蚀槽结构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种基于酸性氯化铜制备硫酸铜的刻蚀槽结构，包括槽体，所述槽体内侧设有多个滑槽，所述滑槽底部设有伸缩杆，所述伸缩杆上套接有弹簧，所述伸缩杆及弹簧底部固接滑槽底部，顶部固接有滚轴，所述滑槽顶部设有螺丝，所述螺丝穿过槽体进入滑槽内，且底部接触滚轴，所述滚轴两端固定有两个固定杆，所述滚轴位于固定杆内侧滚动连接有主辊轮，所述固定杆另一端滚动连接有副辊轮。本实用新型专利技术工作过程中当硅片向前移动时，硅片尾部会离开主辊轮2，从而接触到副辊轮，在副辊轮的帮助下，避免了尾部接触到蚀刻液内，避免了尾部过刻的现象；使用过程中可以根据液面高度通过螺丝对主辊轮、副辊轮位置进行调整，方便调整辊轮到合适的位置。

【技术实现步骤摘要】
一种基于酸性氯化铜制备硫酸铜的刻蚀槽结构
本技术涉及刻蚀槽领域，具体为一种基于酸性氯化铜制备硫酸铜的刻蚀槽结构。
技术介绍
刻蚀是指利用蚀刻液对扩散后硅片下表面和边缘进行腐蚀，去除边缘的N型硅，使得硅片上下表面相互绝缘，经过刻蚀工序，硅片边缘带有的磷会被去除干净，避免PN结短路造成并联电阻降低。在目前的刻蚀过程中有以下缺陷：1、一般采用硅片在水膜覆盖和下表面与蚀刻液的持续接触，都使得硅片在刻蚀槽中容易受力而弯曲，特别是在硅片尾部，一旦弯曲程度过大，尾部就会由于水膜脱落从而接触蚀刻液，导致过刻，造成浪费；2、使用过程中需要保持液面没过辊轮，而控制液面的操作较为困难。为此我们提出一种基于酸性氯化铜制备硫酸铜的刻蚀槽结构用于解决上述问题。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种基于酸性氯化铜制备硫酸铜的刻蚀槽结构，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种基于酸性氯化铜制备硫酸铜的刻蚀槽结构，包括槽体，所述槽体内侧设有多个滑槽，所述滑槽底部设有伸缩杆，所述伸缩杆上套接有弹簧，所述伸缩杆及弹簧底部固接滑槽底部，顶部固接有滚轴，所述滑槽顶部设有螺丝，所述螺丝穿过槽体进入滑槽内，且底部接触滚轴，所述滚轴两端固定有两个固定杆，所述滚轴位于固定杆内侧滚动连接有主辊轮，所述固定杆另一端滚动连接有副辊轮；所述槽体内侧固接有挡板。优选的，为了实现硅片的平稳运行，所述主辊轮和副辊轮上表面高度一致。优选的，为了保证液面平稳性，所述挡板底部有半圆形开孔，且所述挡板高度低于主辊轮的轴心线。优选的，为了方便使用，所述挡板设有多个，每隔两个主辊轮设置一个挡板。优选的，为了稳固滚轴，所述滚轴位于滑槽内顶部与螺丝接触处设有圆形凹槽。与现有技术相比，本技术的有益效果是：1、本技术工作过程中当硅片向前移动时，硅片尾部会离开主辊轮2，从而接触到副辊轮，在副辊轮的帮助下，避免了尾部接触到蚀刻液内，避免了尾部过刻的现象；2、使用过程中可以根据液面高度通过螺丝对主辊轮、副辊轮位置进行调整，方便调整辊轮到合适的位置。附图说明图1为本技术结构示意图；图2为本技术辊轮处结构放大示意图；图3为本技术辊轮处剖面俯视结构示意图；图4为本技术滑槽处剖面结构放大示意图；图5为本技术使用时硅片尾部离开辊轮时示意图。图中：1槽体、2主辊轮、3副辊轮、4挡板、5滚轴、6固定杆、7硅片、8滑槽、9伸缩杆、10弹簧、11螺丝。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。请参阅图1-5，本技术提供一种技术方案：一种基于酸性氯化铜制备硫酸铜的刻蚀槽结构，包括槽体1，槽体1内侧设有多个滑槽8，滑槽8底部设有伸缩杆9，伸缩杆9上套接有弹簧10，伸缩杆9及弹簧10底部固接滑槽8底部，顶部固接有滚轴5，滑槽8顶部设有螺丝11，螺丝11穿过槽体1进入滑槽8内，且底部接触滚轴5，滚轴5两端固定有两个固定杆6，滚轴5位于固定杆6内侧滚动连接有主辊轮2，固定杆6另一端滚动连接有副辊轮3；槽体1内侧固接有挡板4。如图1、图2及图3所示，主辊轮2和副辊轮3上表面高度一致。如图1所示，挡板4底部有半圆形开孔，且挡板4高度低于主辊轮2的轴心线。如图1及图3所示，挡板4设有多个，每隔两个主辊轮2设置一个挡板4。如图4所示，滚轴5位于滑槽8内顶部与螺丝11接触处设有圆形凹槽。工作原理：本技术使用时，需将硅片置于主辊轮2上，即可进行刻蚀；工作过程中当硅片7向前移动时，硅片尾部会离开主辊轮2，从而接触到副辊轮3，在副辊轮3的帮助下，避免了尾部接触到蚀刻液内，避免了尾部过刻的现象；使用过程中可以根据液面高度通过螺丝11对主辊轮2、副辊轮3位置进行调整，方便调整辊轮到合适的位置。尽管已经示出和描述了本技术的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本技术的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本技术的范围由所附权利要求及其等同物限定。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基于酸性氯化铜制备硫酸铜的刻蚀槽结构，包括槽体(1)，其特征在于：所述槽体(1)内侧设有多个滑槽(8)，所述滑槽(8)底部设有伸缩杆(9)，所述伸缩杆(9)上套接有弹簧(10)，所述伸缩杆(9)及弹簧(10)底部固接滑槽(8)底部，顶部固接有滚轴(5)，所述滑槽(8)顶部设有螺丝(11)，所述螺丝(11)穿过槽体(1)进入滑槽(8)内，且底部接触滚轴(5)，所述滚轴(5)两端固定有两个固定杆(6)，所述滚轴(5)位于固定杆(6)内侧滚动连接有主辊轮(2)，所述固定杆(6)另一端滚动连接有副辊轮(3)；所述槽体(1)内侧固接有挡板(4)。/n

【技术特征摘要】
1.一种基于酸性氯化铜制备硫酸铜的刻蚀槽结构，包括槽体(1)，其特征在于：所述槽体(1)内侧设有多个滑槽(8)，所述滑槽(8)底部设有伸缩杆(9)，所述伸缩杆(9)上套接有弹簧(10)，所述伸缩杆(9)及弹簧(10)底部固接滑槽(8)底部，顶部固接有滚轴(5)，所述滑槽(8)顶部设有螺丝(11)，所述螺丝(11)穿过槽体(1)进入滑槽(8)内，且底部接触滚轴(5)，所述滚轴(5)两端固定有两个固定杆(6)，所述滚轴(5)位于固定杆(6)内侧滚动连接有主辊轮(2)，所述固定杆(6)另一端滚动连接有副辊轮(3)；所述槽体(1)内侧固接有挡板(4)。


2.根据权利要求1所述的一种基于...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴冬梅，
申请(专利权)人：吴冬梅，
类型：新型
国别省市：广东;44