蒸镀装置和显示装置的制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种基板与蒸镀掩模的间隙的调节时间缩短的蒸镀装置和显示装置的制造方法。此外，本发明专利技术提供一种蒸镀工序中的不良情况减少的蒸镀装置和显示装置的制造方法。显示装置的制造方法使用蒸镀掩模向基板蒸镀有机材料，其中，与基板相对地配置蒸镀掩模，检测第一位置的基板与上述蒸镀掩模之间的第一间隙(l

【技术实现步骤摘要】
蒸镀装置和显示装置的制造方法
本专利技术的一个实施方式涉及蒸镀装置。此外，本专利技术的一个实施方式涉及使用蒸镀装置的显示装置的制造方法。
技术介绍
作为显示装置，已知在显示区域的发光元件(有机EL元件)中使用有机电致发光材料(有机EL材料)的有机EL显示装置(OrganicElectroluminescenceDisplay：有机电致发光显示器)。有机EL显示装置是通过使有机EL材料发光而实现显示的所谓的自发光型显示装置。有机EL元件在阳极(anode)与阴极(cathode)之间包含有机EL材料。作为有机EL材料，已知低分子材料或高分子材料，但多使用能够用蒸镀法形成薄膜的低分子材料。作为在蒸镀法中使用的蒸镀装置之一，已知在蒸镀装置内竖立配置基板的纵型蒸镀装置(例如参照专利文献1和专利文献2)。纵型蒸镀装置将大型基板竖立起来处理，因此与横型蒸镀装置相比，有能够减小蒸镀装置的占有面积这样的优点。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2012-84544号公报。专利文献2：日本特开2014-70239号公报。
技术实现思路
在纵型蒸镀装置中，与横型蒸镀装置不同，将基板和蒸镀掩模沿纵方向(铅垂方向、重力方向)竖立配置。因此，纵型蒸镀装置有与横型蒸镀装置不同的问题。例如，在基板和蒸镀掩模的位置对准中，利用磁力将蒸镀掩模吸引到基板附近，在横型蒸镀装置的情况下，因为磁力的方向与重力的方向一致，所以位置对准中的重力的影响小。另一方面，在纵型蒸镀装置的情况下，因为磁力的方向和重力的方向不同，所以发生由重力的影响导致的位置偏移。当基板大型化时，位置对准中的位置偏移的量变得显著。本专利技术的专利技术人们反复专心研究后，发现在纵型蒸镀装置中，基板和蒸镀掩模的位置对准前的基板与蒸镀掩模的距离(间隙)，与位置偏移之间存在相关性。此外，本专利技术的专利技术人们发现，通过控制基板与蒸镀掩模的间隙，能够减少由纵型蒸镀装置中的位置偏移导致的不良情况。在横型蒸镀装置中，即使手动进行基板与蒸镀掩模的间隙的调节，也充分能够进行位置偏移的调节。但是，在纵型蒸镀装置中，在利用手动调节基板与蒸镀掩模的间隙的情况下，需要多次进行微调节，过于耗费时间，因此难以按每个基板调节间隙。鉴于上述问题，本专利技术的目的之一为提供一种基板与蒸镀掩模的间隙的调节时间缩短的蒸镀装置和显示装置的制造方法。此外，本专利技术的课题之一为提供一种蒸镀工序中的不良情况减少的蒸镀装置和显示装置的制造方法。本专利技术的一个实施方式的显示装置的制造方法使用蒸镀掩模向基板蒸镀有机材料，其中，与基板相对地配置蒸镀掩模，检测第一位置的基板与上述蒸镀掩模之间的第一间隙(l1)，检测第二位置的基板与蒸镀掩模之间的第二间隙(l2)，将上述第一间隙(l1)和上述第二间隙(l2)调节为满足式3。此外，本专利技术的一个实施方式的蒸镀装置包括：与基板相对地配置蒸镀掩模的机构；检测第一位置的基板与蒸镀掩模之间的第一间隙(l1)的第一检测部；检测第二位置的基板与蒸镀掩模之间的第二间隙(l2)的第二检测部；调节第一间隙(l1)的第一调节部；和调节第二间隙(l2)的第二调节部，第一调节部和第二调节部将第一间隙(l1)和第二间隙(l2)调节为满足式9。此处，式3和式9中的L12为第一位置与上述第二位置之间的距离。此外，本专利技术的一个实施方式的显示装置的制造方法使用蒸镀掩模向基板蒸镀有机材料，其中，与基板相对地配置蒸镀掩模，将基板和蒸镀掩模以彼此相对的面朝向与铅垂方向交叉的方向的方式配置，检测第一位置的基板与蒸镀掩模之间的第一间隙，检测第二位置的基板与蒸镀掩模之间的第二间隙，同时调节第一位置和第二位置，使得第一间隙与第二间隙之差变小。此外，本专利技术的一个实施方式的蒸镀装置包括：与基板相对地配置蒸镀掩模，将基板和蒸镀掩模以彼此相对的面朝向与铅垂方向交叉的方向的方式配置的机构；检测第一位置的基板与蒸镀掩模之间的第一间隙的第一检测部；检测第二位置的基板与蒸镀掩模之间的第二间隙的第二检测部；调节第一间隙的第一调节部；和调节第二间隙的第二调节部，第一调节部和第二调节部同时调节第一位置和第二位置，使得第一间隙与第二间隙之差变小。根据本专利技术的一个实施方式，能够缩短基板与蒸镀掩模的间隙的调节时间。附图说明图1A是第一实施方式的蒸镀装置中使用的蒸镀掩模的正面图。图1B是第一实施方式的蒸镀装置中使用的蒸镀掩模的截面图。图1C是第一实施方式的蒸镀装置中使用的蒸镀掩模的部分放大图。图2A是表示第一实施方式的蒸镀装置中进行的、蒸镀掩模相对于基板的位置被固定前的状态的示意图。图2B是表示第一实施方式的蒸镀装置中进行的、蒸镀掩模相对于基板的位置被固定后的状态的示意图。图3是表示在第一实施方式中，相对于蒸镀次数，Δ间隙和蒸镀工序的成品率的相关关系的图表。图4是第一实施方式的蒸镀装置的截面示意图。图5是第一实施方式的蒸镀装置的俯视示意图。图6是第二实施方式的显示装置的制造方法中的蒸镀工序的流程图。图7是第二实施方式的显示装置的示意图。图8是第二实施方式的显示装置的像素的电路图。图9是第二实施方式的显示装置的像素的截面图。附图标记说明100：蒸镀装置，110：蒸镀源，120：支承部，130：基板用夹具，130-1：第一基板用夹具，130-2：第二基板用夹具，140：光学传感器，140-1：第一光学传感器，140-2：第二光学传感器，140-3：第三光学传感器，140-4：第四光学传感器，140-5：第五光学传感器，140-6：第六光学传感器，150：蒸镀掩模用夹具，150-1：第一蒸镀掩模用夹具，150-2：第二蒸镀掩模用夹具，150-3：第三蒸镀掩模用夹具，150-4：第四蒸镀掩模用夹具，150-5：第五蒸镀掩模用夹具，150-6：第六蒸镀掩模用夹具，160：调节部，160-1：第一调节部，160-2：第二调节部，160-3：第三调节部，160-4：第四调节部，160-5：第五调节部，160-6：第六调节部，170：磁铁部，180：位置对准用摄像机，190：基板侧调节部，190-1：第一基板侧调节部，190-2：第二基板侧调节部，200：蒸镀掩模，210：掩模框，220：金属掩模，230：开口部，300：基板，700：显示装置，701：基板，701a：第一树脂层，701b：无机层，701c：第二树脂层，702：偏光片，703：第一区域，704：扫描线驱动电路，706：驱动IC，707：端子，708：柔性印制电路板，709：像素，710：第二区域，711：扫描线，712：信号线，714：驱动电源线，716：基准电源线，730：弯折区域，740：发光元件，802：底涂层，802a：氧化硅层，802b：氮化硅层，802c：氧化硅层，803：无机层，804：半导体层，804a：沟道区域，804b：低浓度杂质区域，804d：源极区域，804e：漏极区域，805：栅极本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示装置的制造方法，使用蒸镀掩模来向基板蒸镀有机材料，该显示装置的制造方法的特征在于：/n与所述基板相对地配置所述蒸镀掩模，/n检测第一位置的所述基板与所述蒸镀掩模之间的第一间隙(l

【技术特征摘要】
20191107 JP 2019-2026421.一种显示装置的制造方法，使用蒸镀掩模来向基板蒸镀有机材料，该显示装置的制造方法的特征在于：
与所述基板相对地配置所述蒸镀掩模，
检测第一位置的所述基板与所述蒸镀掩模之间的第一间隙(l1)，
检测第二位置的所述基板与所述蒸镀掩模之间的第二间隙(l2)，
将所述第一间隙(l1)和所述第二间隙(l2)调节为满足式3，



其中，L12为所述第一位置与所述第二位置之间的距离。


2.如权利要求1所述的显示装置的制造方法，其特征在于：
满足式4，





3.如权利要求1或2所述的显示装置的制造方法，其特征在于：
还检测第三位置的所述基板与所述蒸镀掩模之间的第三间隙(l3)，
将所述第一间隙(l1)和所述第三间隙(l3)调节为满足式5，



其中，L13为所述第一位置与所述第三位置之间的距离。


4.如权利要求3所述的显示装置的制造方法，其特征在于：
满足式6，





5.如权利要求1所述的显示装置的制造方法，其特征在于：
所述基板和所述蒸镀掩模以彼此相对的面朝向与铅垂方向交叉的方向的方式配置，
在所述铅垂方向上，所述第一位置位于所述第二位置的上方。


6.如权利要求1所述的显示装置的制造方法，其特征在于：
所述第一位置和所述第二位置各自为所述基板的四角附近的任一角附近。


7.如权利要求1所述的显示装置的制造方法，其特征在于：
所述第一间隙(l1)和所述第二间隙(l2)各自同步地进行调节。


8.一种显示装置的制造方法，其使用蒸镀掩模来向基板蒸镀有机材料，该显示装置的制造方法的特征在于：
与所述基板相对地配置所述蒸镀掩模，
将所述基板和所述蒸镀掩模以彼此相对的面朝向与铅垂方向交叉的方向的方式配置，
检测第一位置的所述基板与所述蒸镀掩模之间的第一间隙，
检测第二位置的所述基板与所述蒸镀掩模之间的第二间隙，
同时调节所述第一位置和所述第二位置，使得所述第一间隙与所述第二间隙之差变小。


9.如权利要求8所述的显示装置的制造方法，其特征在于：
具有包含所述第一位置和所述第二位置的n个检测位置，检测从所述第一位置到第n位置的所述基板与所述蒸镀掩模的各间隙，
同时调节所述第一位置至所述第n位置，使得所述各间隙中的最大值与最小值之差变小，
其中，n为3以上的自然数。


10.如权利要求9所述的显示装置的制造方法，其特征在于：
所述第一位置至所述第n位置设置在所述基板的端部附近。


11.如权利要求10所述的显示装置的制造方法，其特征在于：
所述基板为矩形，所述第一位置至所述第n位置的全部或一部分设置在所述基板的四角。


12.一种蒸镀装置，其特征在于，包括：
与基板相对地配置蒸镀掩模的机构；
检测第一位置的所述基板与所述蒸镀掩模之间的第一间隙(l1)的第一检测部；
检测第二位置的所述基板与所述蒸镀掩模之间的第二间隙(l2)的第二检测部；
调节所述第一间隙...

【专利技术属性】
技术研发人员：上村孝明，平田教行，水越宽文，
申请(专利权)人：株式会社日本显示器，
类型：发明
国别省市：日本;JP