一种基于CCD感知的发光强度及均匀度的检测方法技术

技术编号:28378886 阅读:16 留言:0更新日期:2021-05-08 00:06
本发明专利技术涉及一种基于CCD感知的发光强度及均匀度的检测方法,包括标定步骤和检测步骤,所述检测步骤包括以下步骤:步骤a1、取待测发光面,设置CCD的参数,使其与标定步骤的CCD参数相同;步骤a2、在暗室环境中,对待测发光面做成像,得到成像图像I;步骤a3、提取成像图像I的亮度特征矩阵M和均匀度特征U;步骤a4、根据标定步骤建立并学习亮度模型,得到学习后的亮度模型;步骤a5、根据学习后的亮度模型和亮度特征矩阵计算待测发光面的亮度A;根据均匀度特征矩阵U,计算待测发光面的均匀度u。本发明专利技术能够实现不同发光材质的亮度和均匀检测,而且能实现不同发光位置、不同发光尺寸的检测,能够抗噪声干扰,且简单易实行。

【技术实现步骤摘要】
一种基于CCD感知的发光强度及均匀度的检测方法
本专利技术涉及发光面检测
,具体讲的是一种基于CCD感知的发光强度及均匀度的检测方法。
技术介绍
随着平板显示器的升级换代的加快,用户对显示设备的显示效果要求越来越高,以及批量生产过程中对生产效率的高要求,使得传统的点式亮度计无法满足测试要求。传统的亮度和均匀度检测方法主要是5点,9点法等,这就导致如果需要进行全屏检测时,效率及其低下,无论是自动还是半自动产线,都需要很长的时间,无法满足产线需要。另外,传统的方法对于小范围的发光亮度检测不佳,有些方法标定过程复杂,对于不同的产品,标定方式单一,不能很好的适应不同的显示设备。有些设备不能实现任意一点处发光亮度的测量。在显示设备的自动化检测中,显示设备亮度变化呈现一定的趋势,传统算法无法很好针对特定产品拟合这种趋势,无法实现特定产品的精准检测。有些检测设备很容易受到噪声干扰。因此,能够做到全屏检测,不同发光面积检测,降低噪声干扰,适应不同产线,不同产品的检测设备,将很有必要。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是针对以上不足,提供一种基于CCD感知的发光强度及均匀度的检测方法。为解决以上技术问题,本专利技术采用以下技术方案:一种基于CCD感知的发光强度及均匀度的检测方法,包括以下步骤:步骤a1、取待测发光面,设置CCD的参数,使其与标定步骤的CCD参数相同;步骤a2、在暗室环境中,对待测发光面做成像,得到成像图像I;步骤a3、提取成像图像I的亮度特征矩阵M和均匀度特征U;步骤a4、根据标定步骤建立并学习亮度模型,得到学习后的亮度模型;步骤a5、根据学习后的亮度模型和亮度特征矩阵计算待测发光面的亮度A;根据均匀度特征矩阵U,计算待测发光面的均匀度u。进一步的,所述步骤a3具体包括以下步骤:步骤a31、生成成像图像I的k层金字塔G,表示为:G={G1…Gj},j=1,2,…,k;步骤a32、将Gj分为相同大小的m*n区域,j=1,2,…,k;步骤a34、依次提取Gj,j=1,2,…,k上相同位置的灰度值Gj(p,q),(p,q)为位置点的坐标,p=1,2,…,m;q=1,2,…,n,构成尺度一致局部直方图,表示为:Hp,q(j)=Gj(p,q);j=1,2,…,k;p=1,2,…,m;q=1,2,…,n;步骤a35、将所有尺寸一致局部直方图Hp,q(j)进行合并,得到成像图像I的多维特征矩阵H,表示为:H={Hp,q(j)|j=1,2,…,k;p=1,2,…,m;q=1,2,…,n}则,成像图像I的亮度特征矩阵M表示为:步骤a36、将多维特征矩阵H做归一化处理,表示为:生成成像图像I的均匀度特征矩阵U,表示为:进一步的,所述标定步骤包括以下步骤:步骤b1、选取与待测发光面相同的N个发光面样品,按照等差变换规律设置N个发光面样品的亮度值;步骤b2、将每个发光面样品分成m*n个区域,用高精度测量工具对发光面样品的各个区域做亮度测量,N个发光面样品的亮度标准值,表示为:其中,Ai为第i个发光面样品的亮度标准值,i=1、2……N;步骤b3、设置CCD的参数;步骤b4、在暗室环境中,将N个发光面样品依次放置于CCD的正下方,并对其进行成像,生成N个成像图像Bi,i=1,2,…,N,得到对应的成像图像序列{Bi}i=1,2,…,N;步骤b5、提取成像图像序列{Bi}中每个成像图像Bi的亮度特征矩阵Mi,提取步骤与步骤a3相同;步骤b6、建立亮度模型:其中Mi为成像图像Bi的亮度特征矩阵,Ai为第i个发光面样品的亮度标准值,α、β和γ为亮度模型中的待训练值;步骤b7、将所有成像Bi的亮度特征矩阵Mi代入亮度模型中,训练亮度模型,得到训练后的亮度模型。进一步的,所述步骤b4中,计算待测发光面的均匀度的公式为:其中u为待测发光面的均匀度,U为均匀度矩阵。本专利技术采用以上技术方案后,与现有技术相比,具有以下优点:本专利技术能够实现不同发光材质的亮度和均匀检测,而且能实现不同发光位置、不同发光尺寸的检测,能够抗噪声干扰,且简单易实行;本专利技术的检测方法通过标定过程建立亮度学习模型,并选取多个样品发光面对学习模型进行训练,提高学习模型数值的准确度,以提高检测精度;本专利技术通过CCD进行检查,检测效率高,成本较低便于推广。下面结合附图和实施例对本专利技术进行详细说明。附图说明图1为与待检测发光面一致的,按照等差数列显示亮度的发光面样品(即标定样品);图2为构建高斯金字塔得到亮度矩阵和均匀度协方差矩阵的示意图;图3为成像系统示意图。具体实施方式以下结合附图对本专利技术的原理和特征进行描述,所举实例只用于解释本专利技术,并非用于限定本专利技术的范围。一种基于CCD感知的发光强度及均匀度的检测方法,包括以下步骤:步骤a1、取待测发光面,设置CCD的参数,包括焦距f、光圈F、增益GA、白平衡参数BA、曝光时间T和工作距离L等参数,使其与标定步骤的GCD参数相同;步骤a2、在暗室环境中,对待测发光面做成像,得到成像图像I;步骤a3、提取成像图像I的亮度特征矩阵M和均匀度特征U,提取过程具体包括以下步骤:步骤a31、如图2所示,生成成像图像I的k层金字塔G,表示为:G={G1…Gj},j=1,2,…,k;步骤a32、将Gj分为相同大小的m*n区域,j=1,2,…,k;步骤a34、依次提取Gj,j=1,2,…,k上相同位置的灰度值Gj(p,q),(p,q)为位置点的坐标,p=1,2,…,m;q=1,2,…,n,构成尺度一致局部直方图,表示为:Hp,q(j)=Gj(p,q);j=1,2,…,k;p=1,2,…,m;q=1,2,…,n;步骤a35、将所有尺寸一致局部直方图Hp,q(j)进行合并,得到成像图像I的多维特征矩阵H,表示为:H={Hp,q(j)|j=1,2,…,k;p=1,2,…,m;q=1,2,…,n}则,成像图像I的亮度特征矩阵M表示为:步骤a36、将多维特征矩阵H做归一化处理,表示为:生成成像图像I的均匀度特征矩阵U,表示为:步骤a4、根据标定步骤建立并学习亮度模型,得到学习后的亮度模型;步骤a5、根据学习后的亮度模型和亮度特征矩阵计算待测发光面的亮度A,将亮度特征矩阵M代入学习后的亮度模型得到发光面亮度A,表示为:A=αM2+βM+γ;根据均匀度特征矩阵U,计算待测发光面的均匀度u,计算待测发光面的均匀度的公式为:其中u为待测发光面的均匀度,U为均匀度矩阵。标定步骤包括以下步骤:步骤b1、如图1所示,选取与待测本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基于CCD感知的发光强度及均匀度的检测方法,其特征在于,包括以下步骤:/n步骤a1、取待测发光面,设置CCD的参数,使其与标定步骤的CCD参数相同;/n步骤a2、在暗室环境中,对待测发光面做成像,得到成像图像I;/n步骤a3、提取成像图像I的亮度特征矩阵M和均匀度特征U;/n步骤a4、根据标定步骤建立并学习亮度模型,得到学习后的亮度模型;/n步骤a5、根据学习后的亮度模型和亮度特征矩阵计算待测发光面的亮度A;根据均匀度特征矩阵U,计算待测发光面的均匀度u。/n

【技术特征摘要】
1.一种基于CCD感知的发光强度及均匀度的检测方法,其特征在于,包括以下步骤:
步骤a1、取待测发光面,设置CCD的参数,使其与标定步骤的CCD参数相同;
步骤a2、在暗室环境中,对待测发光面做成像,得到成像图像I;
步骤a3、提取成像图像I的亮度特征矩阵M和均匀度特征U;
步骤a4、根据标定步骤建立并学习亮度模型,得到学习后的亮度模型;
步骤a5、根据学习后的亮度模型和亮度特征矩阵计算待测发光面的亮度A;根据均匀度特征矩阵U,计算待测发光面的均匀度u。


2.根据权利要求1所述的基于CCD感知的发光强度及均匀度的检测方法,其特征在于,所述步骤a3具体包括以下步骤:
步骤a31、生成成像图像I的k层金字塔G,表示为:
G={G1…Gj},j=1,2,…,k;
步骤a32、将Gj分为相同大小的m*n区域,j=1,2,…,k;
步骤a34、依次提取Gj,j=1,2,…,k上相同位置的灰度值Gj(p,q),(p,q)为位置点的坐标,p=1,2,…,m;q=1,2,…,n,构成尺度一致局部直方图,表示为:
Hp,q(j)=Gj(p,q);j=1,2,…,k;p=1,2,…,m;q=1,2,…,n;
步骤a35、将所有尺寸一致局部直方图Hp,q(j)进行合并,得到成像图像I的多维特征矩阵H,表示为:
H={Hp,q(j)|j=1,2,…,k;p=1,2,…,m;q=1,2,…,n}
则,成像图像I的亮度特征矩阵M表示为:



步骤a36、将多维特征矩阵H做归一化...

【专利技术属性】
技术研发人员:胡伦庭林碧云
申请(专利权)人:武汉海微科技有限公司
类型:发明
国别省市:湖北;42

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