本申请公开一种气相沉积装置，包括，壳体、料盘、传动轴组件以及驱动装置，其中，所述料盘设置在所述壳体的内腔，所述料盘用于承载工件；传动轴组件设置在所述料盘下方，与所述料盘连接；驱动装置设置在所述壳体外部，与所述传动轴组件远离所述料盘的一端连接，所述驱动装置被配置为：带动所述传动轴组件转动的同时使得所述传动轴组件沿轴向方向移动。本申请提供的气相沉积装置，相较于现有技术而言，可以提高工件表面沉积厚度的均匀性，提高工件表面质量。
【技术实现步骤摘要】
一种气相沉积装置
本申请涉及化学气相沉积
，更具体地说，尤其涉及一种气相沉积装置。
技术介绍
气相沉积技术是利用气相中发生的物理、化学过程，在工件表面形成功能性的金属、非金属或化合物涂层。化学气相沉积是一种制备材料的气相生长方法，它是把一种或者集中含有构成薄膜元素的化合物、单质气体通入放置有基体的反应室，借助空间气相化学反应在基体表面上沉积固态薄膜的技术。目前，化学气相沉积技术已被广泛应用于生产碳-碳、碳-碳化硅、碳化硅-碳化硅等复合材料，而这些复合材料在航天、航空、交通等领域正发挥着重要作用。目前，化学气相沉积一般采用气相沉积装置对工件进行加工，其中，气相沉积装置中的温度和沉积气体的流场对工件表面的沉积效果有很大的影响，但是现有的气相沉积装置中，往往由于气体流场的均匀性和热场均匀性无法得到保证，导致工件表面沉积厚度不均匀，极大地影响了工件的处理质量。因此，在现有技术的基础上，一种能够的化学气相沉积装置是本领域技术人员亟待解决的问题。
技术实现思路
为解决上述技术问题，本申请提供一种气相沉积装置，其可以提高工件表面沉积厚度的均匀性，提高工件表面质量。本申请提供的技术方案如下：一种气相沉积装置，其特征在于，包括，壳体；设置在所述壳体的内腔的料盘；所述料盘用于承载工件；传动轴组件；设置在所述料盘下方，与所述料盘连接的；驱动装置；设置在所述壳体外部，与所述传动轴组件远离所述料盘的一端连接，所述驱动装置被配置为：带动所述传动轴组件转动的同时使得所述传动轴组件沿轴向方向移动。优选地，所述驱动装置，包括，与所述传动轴组件连接，带动所述传动轴组件转动的驱动件；与所述驱动件连接，带动所述驱动件沿所述传动轴组件的轴向方向运动的移动装置。优选地，所述移动装置，包括，滑台，与所述驱动件连接；推杆；使得所述滑台沿所述传动轴组件的轴向方向运动。优选地，所述传动轴组件，包括，与所述料盘连接的第一传动轴，所述第一传动轴的材料是耐高温的材料；以及，与所述驱动装置连接的第二传动轴；所述第二传动轴远离所述驱动装置的一端与所述第一传动轴连接，所述第二传动轴的材料为金属材料。优选地，所述壳体上设置有与进气口，所述进气口设置在所述壳体与所述传动轴组件的连接处。优选地，还包括，还包括，设置在所述壳体与所述传动轴组件连接处的动密封结构。优选地，所述动密封结构设置在所述壳体外；所述动密封结构，包括，密封件；以及，调节所述密封件与所述壳体之间的压缩量的轴向调整结构。优选地，所述驱动件为变频电机，控制所述料盘以1r/min-2r/min的速度均匀转动。优选地，所述内腔的底部形状为喇叭口结构，所述内腔的底部靠近所述驱动装置的一端为所述喇叭口结构的小口径端，所述内腔的底部远离所述驱动装置的一端为所述喇叭口结构的大口径端。优选地，所述料盘上设置有供气体通过的过气孔。本专利技术提供的气相沉积装置，首先，由于设置有壳体、料盘、传动轴组件以及驱动装置，其中，料盘设置在壳体的内腔，用于承载工件，传动轴组件设置在料盘下方且与料盘连接，驱动装置设置在壳体的外部且与传动轴组件连接。在驱动装置的作用下，使得传动轴组件以及与传动轴组件连接的料盘在壳体内腔中转动的同时能够沿传动轴组件的轴向方向移动，料盘和工件以一定的速度均匀转动，使得料盘上的工件能够在内腔与工艺气体均匀接触，工件表面的沉积厚度整体一致。同时，在驱动装置的作用下，料盘能够上下往返运动，一方面，料盘带动了内腔中沉积气体的流动，使得内腔各处的温度一致，工件在加工的过程中各处温度一致，使工件各处沉积厚度一致，另一方面，通过料盘带动工件在壳体内腔中进行上下往返运动，缓冲了沉积气体气流的速度，使气流可以充分与工件进行沉积反应，进而整体提高了工件的沉积效果。因此，能够保证工件沉积质量。由上可知，本专利技术提供的气相沉积装置，可以提高工件表面沉积厚度的均匀性，提高工件表面质量。附图说明为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例提供的气相沉积装置的一种结构示意图。其中：1、壳体；2、料盘；3、工件；4、内腔；5、传动轴组件；6、驱动装置；7、进气口；8、动密封结构；9、过气孔；10、排气口；51、第一传动轴；52、第二传动轴；61、驱动件；62、滑台；63、推杆；81、密封件；82、轴向调整结构。具体实施方式为了使本领域的技术人员更好地理解本申请中的技术方案，下面将对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件上，它可以直接在另一个元件上或者间接设置在另一个元件上；当一个元件被称为是“连接于”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或间接连接至另一个元件上。需要理解的是，术语“长度”、“宽度”、“上”、下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申请的描述中，多个”、“若干个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。须知，本说明书附图所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本申请可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本申请所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本申请所揭示的
技术实现思路
得能涵盖的范围内。本专利技术实施例采用递进的方式撰写。请如图1所示，本专利技术实施例提供一种气相沉积装置，主要用于工件的气相沉积加工中，其包括，壳体1、料盘2、传动轴组件5以及驱动装置6。其中，料盘2设置在壳体1的内腔4，用于承载工件3；传动轴组件5与料盘2连接，设置在料盘2下方；驱动装置6设置在壳体1外部，与传动轴组件5远离料盘2的一端连接，且驱动装置6被配置为：带动传动轴组件5转动的同时使得传动轴组件5沿轴向方向移动。气相沉积装置中的温度和沉积本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种气相沉积装置，其特征在于，包括，壳体(1)；/n设置在所述壳体(1)的内腔(4)的料盘(2)，所述料盘(2)用于承载工件(3)；/n设置在所述料盘(2)下方，与所述料盘(2)连接的传动轴组件(5)；/n驱动装置(6)；设置在所述壳体(1)外部，与所述传动轴组件(5)远离所述料盘(2)的一端连接，所述驱动装置(6)被配置为：带动所述传动轴组件(5)转动的同时使得所述传动轴组件(5)沿轴向方向移动。/n
【技术特征摘要】
1.一种气相沉积装置，其特征在于，包括，壳体(1)；
设置在所述壳体(1)的内腔(4)的料盘(2)，所述料盘(2)用于承载工件(3)；
设置在所述料盘(2)下方，与所述料盘(2)连接的传动轴组件(5)；
驱动装置(6)；设置在所述壳体(1)外部，与所述传动轴组件(5)远离所述料盘(2)的一端连接，所述驱动装置(6)被配置为：带动所述传动轴组件(5)转动的同时使得所述传动轴组件(5)沿轴向方向移动。
2.根据权利要求1所述的气相沉积装置，其特征在于，
所述驱动装置(6)，包括，
与所述传动轴组件(5)连接，带动所述传动轴组件(5)转动的驱动件(61)；
与所述驱动件(61)连接，带动所述驱动件(61)沿所述传动轴组件(5)的轴向方向运动的移动装置。
3.根据权利要求2所述的气相沉积装置，其特征在于，
所述移动装置，包括，
滑台(62)，与所述驱动件(61)连接；
推杆(63)；使得所述滑台(62)沿所述传动轴组件(5)的轴向方向运动。
4.根据权利要求1至3中任意一项所述的气相沉积装置，其特征在于，
所述传动轴组件(5)，包括，
与所述料盘(2)连接的第一传动轴(51)，所述第一传动轴(51)的材料是耐高温的材料；以及，
与所述驱动装置(6)连接的第二传动轴(52)；所述第二传动轴(52)远离所述驱动装置(6)的一端与所述第一传动...
【专利技术属性】
技术研发人员：胡祥龙，周岳兵，戴煜，许鹏，王艳艳，
申请(专利权)人：湖南顶立科技有限公司，
类型：发明
国别省市：湖南;43
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