【技术实现步骤摘要】
嵌入式管芯封装件中的框架设计
示例实施例涉及嵌入式管芯封装,并且特别地涉及改善其各种属性。
技术介绍
集成电路封装通常是半导体器件制造的最后阶段,其中一个或多个集成电路管芯被包封到通常称为封装件的整体结构中。已经发展出了具有更新方法的各种类型的封装,特别是适合于具有减小尺寸的应用,进行嵌入式管芯封装。正如术语“嵌入式”所暗示的那样,这种封装在多层的(或层压)基板内包括一个或多个集成电路管芯以及可能的相关组件。其他组件(诸如无源器件)可以附贴在封装件的外部。该技术中的早期基板由类似于印刷电路板(PCB)中使用的材料形成,并且因此,有时将这些基板称为PCB。最近,将其中嵌入有组件的层称为基板,没有PCB含义。管芯(或“芯片”)通常位于基板内的核心材料中,并且在管芯的相邻的两个主表面(例如,上部或下部)填充、形成和/或定位一个或多个层或材料(诸如,金属或有机物),从而完成具有嵌入其中的管芯的基板。在嵌入多个管芯的地方,它们通常并排放置,而不是堆叠放置,通常有助于实现小形状因子,可靠的互连和高性能。嵌入式管芯封装继续发展,但是在当前形式下已经显示出结构上的脆弱性。例如,在多个管芯封装件中,在管芯处或管芯之间施加的负载可能导致弯曲力并且在管芯附近或之间的点处在基板中建立物理断裂点。断裂点可能会干扰封装件的互连性或其他结构或电功能方面,从而降低产量,增加成本并危害系统功能。本文提供了示例实施例,其改进了某些上述概念,如下面进一步详细描述的。
技术实现思路
在一个示例中,存在嵌入式管芯封装件。该 ...
【技术保护点】
1.一种嵌入式管芯封装件,其包含:/n具有暴露边界的层,其中所述暴露边界的至少一部分包含有机材料;/n至少一个集成电路管芯,其位于所述层中并在所述暴露边界内;以及/n电介质材料,其位于所述层中并且在所述至少一个集成电路和与所述至少一个集成电路相邻的结构之间。/n
【技术特征摘要】
20191031 US 16/669,6661.一种嵌入式管芯封装件,其包含:
具有暴露边界的层,其中所述暴露边界的至少一部分包含有机材料;
至少一个集成电路管芯,其位于所述层中并在所述暴露边界内;以及
电介质材料,其位于所述层中并且在所述至少一个集成电路和与所述至少一个集成电路相邻的结构之间。
2.根据权利要求1所述的嵌入式管芯封装件,其进一步包含导电构件,所述导电构件在所述层中并且在所述暴露边界内。
3.根据权利要求2所述的嵌入式管芯封装件,其中所述导电构件包含非镀覆的导电构件。
4.根据权利要求3所述的嵌入式管芯封装件,其进一步包含电介质材料,所述电介质材料位于所述层中并且在所述暴露边界和所述非镀覆的导电构件之间。
5.根据权利要求4所述的嵌入式管芯封装件,其进一步包含电介质材料,所述电介质材料位于所述层中并且在所述至少一个集成电路管芯和所述非镀覆的导电构件之间。
6.根据权利要求3所述的嵌入式管芯封装件,其进一步包含电介质材料,所述电介质材料位于所述层中并且在所述至少一个集成电路管芯和所述非镀覆的导电构件之间。
7.根据权利要求2所述的嵌入式管芯封装件,其进一步包含电介质材料,所述电介质材料位于所述层中并且在所述至少一个集成电路管芯和所述导电构件之间。
8.根据权利要求7所述的嵌入式管芯封装件,其进一步包含电介质材料,所述电介质材料位于所述层中并且在所述至少一个集成电路管芯和所述导电构件之间。
9.根据权利要求2所述的嵌入式管芯封装件,其中所述层包含第一层,并且进一步包含:
第一金属导体,其在与所述第一层分开的第一金属层中,所述第一金属导体电耦合到所述导电构件;以及
第二金属导体,其在与所述第一层分开的第二金属层中,所述第二金属导体电耦合到所述导电构件。
10.根据权利要求9所述的嵌入式管芯封装件,其中所述第一金属导体通过导电填充的通孔电耦合到所述导电构件。
11.根据权利要求9所述的嵌入式管芯封装件,其中所述第一金属导体通过金属镀覆的区域电耦合到所述导电构件。
12.根据权利要求2所述的嵌入式管芯封装件,其进一步包含有机材料,所述有机材料位于所述层中并且在所述至少一个集成电路管芯和所述导电构件之间。
13.根据权利要求1所述的嵌入式管芯封装件,其中所述至少一个集成电路管芯包含第一集成电路管芯,并且进一步包含位于所述层中并且在所述暴露边界内的第二集成电路管芯。
14.根据权利要求13所述的嵌入式管芯封装件,其进一步包含有机材料,所述有机材料位于所述层中并且在所述第一集成电路管芯和所述第二集成电路管芯之间。
15.根据权利要求1所述的嵌入式管芯封装件,其中所述至少一个集成电路管芯包括氮化镓或碳化硅中的一种。
16.根据权利要求1所述的嵌入式管芯封装件,其中整个所述暴露边界包含有机材料。
17.一种嵌入式管芯封装件,其包含:
具有暴露边界的层,其中所述暴露边界的至少一部分包含金属;
至少一个集成电路管芯,其与所述层对齐并在所述暴露边界内;以及
电介质材料,其位于所述层中并且在所述至少一个集成电路和与所述至少一个集成电路相邻的结构之间。
...
【专利技术属性】
技术研发人员:W·金,M·玛塔苏拉,M·松本,K·奥亚,H·T·阮,V·K·阿罗拉,A·波达尔,H·松下,
申请(专利权)人:德克萨斯仪器股份有限公司,
类型:发明
国别省市:美国;US
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。