掩模支撑模板及其制造方法与框架一体型掩模的制造方法技术

本发明专利技术涉及掩模支撑模板及其制造方法与框架一体型掩模的制造方法。根据本发明专利技术的掩模支撑模板的制造方法，该模板(50)用于支撑OLED像素形成用掩模(100)并使其与框架(200)对应，该方法包括以下步骤：(a)准备经轧制生成的掩模金属膜(110')；(b)将掩模金属膜(110')粘合到一面形成有临时粘合部(55)的模板(50)上；(c)缩减模板(50)上粘合的掩模金属膜(110')的厚度；以及(d)通过在掩模金属膜(110)上形成掩模图案(P)来制造掩模(100)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】掩模支撑模板及其制造方法与框架一体型掩模的制造方法
本专利技术涉及掩模支撑模板及其制造方法与框架一体型掩模的制造方法。更具体地，涉及一种可使掩模不发生变形且稳定地得到支撑并移动，而且可使掩模稳定地附着于框架上，且能够使各个掩模之间对准(align)精确的掩模支撑模板及其制造方法与框架一体型掩模的制造方法。
技术介绍
作为OLED(有机发光二极管)制造工艺中形成像素的技术，主要使用FMM(FineMetalMask，精细金属掩模)方法，该方法将薄膜形式的金属掩模(ShadowMask，阴影掩模)紧贴于基板并且在所需位置上沉积有机物。在现有的OLED制造工艺中，将掩模制造成条状、板状等后，将掩模焊接固定到OLED像素沉积框架并使用。一个掩模上可以具备与一个显示器对应的多个单元。另外，为了制造大面积OLED，可将多个掩模固定于OLED像素沉积框架，在固定于框架的过程中，拉伸各个掩模，以使其变得平坦。调节拉伸力以使掩模的整体部分变得平坦是非常困难的作业。特别是，为了使各个单元全部变得平坦，同时对准尺寸仅为数μm至数十μm的掩模图案，需要微调施加到掩模各侧的拉伸力并且实时确认对准状态的高度作业要求。尽管如此，在将多个掩模固定于一个框架的过程中，仍然存在掩模之间以及掩模单元之间对准不好的问题。另外，在将掩模焊接固定于框架的过程中，掩模膜的厚度过薄且面积大，因此存在掩模因荷重而下垂或者扭曲的问题；由于焊接过程中焊接部分产生的皱纹、毛刺(burr)等导致掩模单元的对准错位的问题等。在超高清的OLED中，现有的QHD(QuarterHighDefinition，四分之一高清)画质为500-600PPI(pixelperinch，每英寸像素)，像素的尺寸达到约30-50μm，而4KUHD(UltraHighDefinition，超高清)、8KUHD高清具有比之更高的～860PPI，～1600PPI等的分辨率。如此，考虑到超高清的OLED的像素尺寸，需要将各单元之间的对准误差缩减为数μm程度，超出这一误差将导致产品的不良，收率可能极低。因此，需要开发能够防止掩模的下垂或者扭曲等变形并且使对准精确的技术，以及将掩模固定于框架的技术等。
技术实现思路
技术问题因此，本专利技术是为了解决上述现有技术中的问题而提出的，其目的在于提供使掩模与框架稳定地附着的掩模支撑模板及其制造方法。此外，本专利技术的目的在于提供一种可使掩模不发生变形且稳定地得到支撑并移动的掩模支撑模板及其制造方法。此外，本专利技术的目的在于提供一种能够在掩模上形成细微的掩模图案的掩模支撑模板及其制造方法。此外，本专利技术的目的在于提供一种将掩模附着到框架上时能够改善掩模与框架的粘合性的掩模支撑模板及其制造方法。此外，本专利技术的目的在于提供一种将掩模附着到框架上之后可反复使用的掩模支撑模板及其制造方法。此外，本专利技术的目的在于提供一种使掩模与框架可构成一体式结构的框架一体型掩模的制造方法。此外，本专利技术的目的在于提供一种能够防止掩模下垂或扭曲等的变形且准确地进行对准的框架一体型掩模的制造方法。此外，本专利技术的目的在于提供一种明显缩短制造时间且使收率显著提高的框架一体型掩模的制造方法。技术方案本专利技术的上述目的通过一种掩模支撑模板的制造方法来实现，该模板(template)用于支撑OLED像素形成用掩模并使掩模与框架对应，该方法包括以下步骤：(a)准备掩模金属膜；(b)将掩模金属膜粘合到一面形成有临时粘合部的模板上；(c)缩减模板上粘合的掩模金属膜的厚度；以及(d)通过在掩模金属膜上形成掩模图案来制造掩模。另外，本专利技术的上述目的通过一种掩模支撑模板的制造方法来实现，该模板(template)用于支撑OLED像素形成用掩模并使掩模与框架对应，该方法包括以下步骤：(a)准备掩模金属膜；(b)从掩模金属膜的第一面及与第一面相对的第二面缩减至少一部分厚度；(c)将掩模金属膜粘合到一面形成有临时粘合部的模板上；以及(d)通过在掩模金属膜上形成掩模图案来制造掩模。在步骤(a)中，准备掩模金属膜且从掩模金属膜的第一面缩减至少一部分厚度，在步骤(b)中，将掩模金属膜的第一面粘合到模板上，在步骤(c)中，可以从与掩模金属膜的第一面相对的第二面缩减至少一部分厚度。临时粘合部可以是可通过加热而分离的粘合剂或者粘合片材、可通过照射紫外线而分离的粘合剂或者粘合片材。掩模金属膜的厚度缩减可以通过化学机械抛光(CMP，ChemicalMechanicalPolishing)、化学湿蚀刻(chemicalwetetching)、干蚀刻(dryetching)中任意一个方法进行。当使用化学机械抛光方法缩减掩模金属膜的厚度时，掩模金属膜的一面上的表面粗糙度可减少。当使用化学湿蚀刻、干蚀刻缩减掩模金属膜的厚度时，在后续步骤中可进一步进行抛光，以降低掩模金属膜的一面的表面粗糙度。将掩模金属膜的厚度可缩减至5μm至20μm。步骤(d)可以包括以下步骤：(d1)在掩模金属膜上形成图案化的绝缘部；(d2)通过对绝缘部之间露出的掩模金属膜部分进行蚀刻来形成掩模图案；以及(d3)去除绝缘部。以掩模金属膜的厚度为基准，当第一面为0％且第二面为100％时，掩模可使用相当于掩模金属膜厚度的10％至90％部分的至少一部分。另外，本专利技术的上述目的通过一种掩模支撑模板来实现，该模板用于支撑OLED像素形成用掩模并使掩模与框架对应，该掩模支撑模板包括：模板；临时粘合部，其形成于模板上；以及掩模，其通过夹设临时粘合部来粘合到模板上，且形成有掩模图案，掩模的厚度为5μm至20μm。掩模可包括从经轧制工艺制造的掩模金属膜的上部面及下部面缩减至少一部分厚度而形成的中央部。以掩模金属膜的厚度为基准，当上部面为0％且下部面为100％时，掩模可使用相当于掩模金属膜厚度的10％至90％部分的至少一部分。临时粘合部可以是可通过加热而分离的粘合剂或者粘合片材、可通过照射紫外线而分离的粘合剂或者粘合片材。与掩模的焊接部对应的模板的边缘部部分可形成有激光通过孔。模板的材料可包括晶圆(wafer)、玻璃(glass)、二氧化硅(silica)、耐热玻璃、石英(quartz)、氧化铝(Al2O3)、硼硅酸玻璃(borosilicateglass)中的任意一种。另外，本专利技术的上述目的通过一种框架一体型掩模的制造方法来实现，该框架一体型掩模由至少一个掩模与用于支撑掩模的框架形成为一体，该方法包括以下步骤：(a)将通过所述的制造方法制造的模板装载到具有至少一个掩模单元区域的框架上，以使掩模对应到框架的掩模单元区域；以及(b)将掩模附着到框架。专利技术效果根据如上所述的本专利技术，具有可以使掩模与框架稳定附着的效果。此外，本专利技术具有可使掩模不发生变形且稳定地得到支撑并移动的效果。此外，本专利技术具有能够在掩模上形成细微的掩模图案的效果。此外，本专利技术具有将掩模附着到框架本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩模支撑模板的制造方法，该模板用于支撑OLED像素形成用掩模且使掩模与框架对应，其中，该方法包括以下步骤：/n(a)准备掩模金属膜；/n(b)将掩模金属膜粘合到一面形成有临时粘合部的模板上；/n(c)缩减模板上粘合的掩模金属膜的厚度；以及/n(d)通过在掩模金属膜上形成掩模图案来制造掩模。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20181011 KR 10-2018-0121322;20190531 KR 10-2019-001.一种掩模支撑模板的制造方法，该模板用于支撑OLED像素形成用掩模且使掩模与框架对应，其中，该方法包括以下步骤：
(a)准备掩模金属膜；
(b)将掩模金属膜粘合到一面形成有临时粘合部的模板上；
(c)缩减模板上粘合的掩模金属膜的厚度；以及
(d)通过在掩模金属膜上形成掩模图案来制造掩模。


2.一种掩模支撑模板的制造方法，该模板用于支撑OLED像素形成用掩模且使掩模与框架对应，其中，该方法包括以下步骤：
(a)准备掩模金属膜；
(b)从掩模金属膜的第一面及与第一面相对的第二面缩减至少一部分厚度；
(c)将掩模金属膜粘合到一面形成有临时粘合部的模板上；以及
(d)通过在掩模金属膜上形成掩模图案来制造掩模。


3.如权利要求1所述的掩模支撑模板的制造方法，其中，
在步骤(a)中，准备掩模金属膜且从掩模金属膜的第一面缩减至少一部分厚度，
在步骤(b)中，将掩模金属膜的第一面粘合到模板上，
在步骤(c)中，从与掩模金属膜的第一面相对的第二面缩减至少一部分厚度。


4.如权利要求1所述的掩模支撑模板的制造方法，其中，
临时粘合部是可通过加热而分离的粘合剂或者粘合片材、可通过照射紫外线而分离的粘合剂或者粘合片材。


5.如权利要求1所述的掩模支撑模板的制造方法，其中，
掩模金属膜的厚度缩减是通过化学机械抛光、化学湿蚀刻、干蚀刻中任意一个方法进行的。


6.如权利要求5所述的掩模支撑模板的制造方法，其中，
当使用化学机械抛光方法缩减掩模金属膜的厚度时，掩模金属膜的一面上的表面粗糙度降低。


7.如权利要求5所述的掩模支撑模板的制造方法，其中，
当使用化学湿蚀刻、干蚀刻缩减掩模金属膜的厚度时，在后续步骤中进一步进行抛光，以降低掩模金属膜的一面的表面粗糙度。


8.如权利要求1所述的掩模支撑模板的制造方法，其中...

【专利技术属性】
技术研发人员：李炳一，张泽龙，李永浩，金奉辰，
申请(专利权)人：悟勞茂材料公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR