利用脚本剖析工具自动生成和/或处理光掩模订单的系统和方法技术方案

一种生成光掩模订单（２５５）的方法，包括：生成通用信息用户界面（２１０），其提示用户输入关于发出该订单的客户的通用数据（２１７）；以及生成特定订单用户界面（２２０），其提示该用户基于该通用数据（２１７）和／或先前输入的确定数据（２２２）来输入完成该光掩模订单（２５５）所需的确定数据（２２２）。基于属性文件（２２２）访问命令脚本文件（２３７），其中该属性文件（２２２）是基于该确定数据（２２２）生成的。利用命令脚本文件（２３７）生成光掩模订单（２５５）。另一实施例利用通用信息（２１７）和特定信息（２２２）输入界面来收集关于新的或潜在的光掩模客户的信息，从而为光掩模订单（２５５）处理系统生成配置文件（２３７）。另一实施例生成关于该光掩模制造过程的消息。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】例
本专利技术主要涉及利用脚本剖析工具生成和/或处理光掩模订单的系统和方法。特别地，本专利技术涉及可生成光掩模订单的软件化应用，其中该光掩模订单可转换为光掩模制造商的处理系统以制造光掩模。
技术介绍
光掩模为包含精微电子电路图像的高精度板。光掩模通常由一侧具有铬层的石英或玻璃的极平片制成。在铬中蚀刻为电子电路设计的一部分。掩模上的电路设计也称为“几何构型”。在半导体器件制造中使用的典型光掩模由“空白的”或“未显影的”光掩模形成。如图1所示，典型的空白光掩模10包含3或4层。第一层11为石英或其它全透明材料层，一般被称作衬底。下一层通常为例如Cr之类不透明材料12的层，其常常包括例如CrO之类为抗反射材料13的第三层。在任何给定的光掩模中，可包括也可不包括抗反射层。顶层通常为光敏抗蚀剂材料14的层。已知且常用的其它类型光掩模包括但不限于相移掩模、嵌入式衰减相移掩模(embedded attenuated phase shift mask，“EAPSM”)、以及交替孔径相移掩模(alternating aperture phase shift mask，“AAPSM”)。制造光掩模的过程包括很多步骤，并可能是耗费时间的。关于这点，为了制造光掩模，待产生在光掩模10上的不透明材料12的期望图案通常由载入到曝光系统的电子数据文件来定义，该曝光系统通常扫描以光栅或矢量方式穿过空白光掩模的电子束(E-beam)或激光束。在Collier的美国专利No.3,900,737中，介绍了这种光栅扫描曝光系统的一个实例。独特的曝光系统均具有自身特有的用于处理数据的软件和格式，以在曝光空白光掩模时指示设备。当电子束或激光束被扫描穿过空白光掩模10时，曝光系统将电子束或激光束指向由电子数据文件所定义的光掩模上的可寻址位置。曝光于电子束或激光束的光敏抗蚀剂材料区域变成可溶的，而未曝光部分保持为不可溶-->的。为了确定电子束或激光束应该曝光空白光掩模10上的光致抗蚀剂14的哪一部分以及不应该曝光哪一部分，需要为处理设备提供作业卡片组(jobdeck)形式的适当指示。如图2所示，在曝光系统已将期望图像扫描在光敏抗蚀剂材料14上之后，通过现有技术中已知的手段来去除可溶的光敏抗蚀剂材料，而未曝光的、不可溶的光敏抗蚀剂材料14′仍然粘附于不透明材料13和12。这样，待形成在光掩模10上的图案通过剩余的光敏抗蚀剂材料14′形成。该图案随后经由已知的蚀刻工艺从剩余的光致抗蚀剂材料14′转移到光掩模10，以移除没被剩余光致抗蚀剂14′覆盖的区域中的抗反射材料13和不透明材料12。现有技术中已知有品种繁多的蚀刻工艺，包括干蚀刻和湿蚀刻，并因此有品种繁多的设备被用来执行这些蚀刻。在完成蚀刻之后，剥去或移除剩余光致抗蚀剂材料14′，从而完成了光掩模，如图3所示。在完成的光掩模中，由剩余的抗反射材料13′和不透明材料12′先前所反射的图案，位于在前面的步骤中在移除可溶材料之后保留有剩余光致抗蚀剂14′的区域内。为了确定在特定光掩模中是否存在任何无法接受的缺陷，有必要检查该光掩模。缺陷为任何影响几何构型的裂纹。这包括不合需要的铬区(铬点，铬延伸，几何形状之间的铬桥)或不想要的漏光区(针孔，漏光点延伸，漏光点分裂)。缺陷可引发客户的电路不能运行。客户将在光掩模缺陷说明书中指出会影响他们工艺的缺陷尺寸。所有具有等于或大于该尺寸的缺陷必须被修复；或者如果它们不能被修复，则掩模须被丢弃或重写。典型地，例如由KLA-Tencor或应用材料公司制造的自动掩模检查系统被用来检测缺陷。这种自动系统将照明光束指向光掩模，并检测通过光掩模传输并从光掩模反射回的光束部分的强度。随后，将所检测的光强度与期望光强度进行比较，并且任何偏差都将记录为缺陷。可在KLA-Tencor的美国专利No.5,563,702中找到一个相关系统的细节。通过检查之后，为完成的光掩模清除污染物。接下来，可对完成的光掩模涂覆薄膜，以保护光掩模的关键图案区免受空气污染。随后可执行穿过薄膜的缺陷检查。在一些情况下，光掩模可在涂覆薄膜之前或之-->后被切割。在完成了上述制造步骤之后，完成的光掩模被发送给客户以用来制造半导体及其它产品。具体地，光掩模通常应用在半导体产业中，以将定义半导体电路的微型图像转移到硅或砷化镓衬底或晶片上。用于从光掩模转移图像至硅衬底或晶片的过程通常被称为光刻或微光刻。典型地，如图4所示，半导体制造过程包括沉积步骤、光刻步骤、以及蚀刻步骤。在沉积步骤中，在硅晶片的表面上沉积电绝缘层或导电材料层(如金属、多晶硅或氧化物)。这个材料接着被涂覆一层光敏抗蚀剂。随后，与利用照相底片大致相同的方式，利用光掩模来制造照片。光刻包括将光掩模上的图像投射到晶片上。如果光掩模上的图像被并排地投射到晶片上多次，这就是已知的步进(stepping)，且该光掩模被称为分划板(reticle)。如图5所示，为了在半导体晶片20上产生图像21，光掩模10插入在半导体晶片20与光学系统22之间，其中半导体晶片20包括光敏材料层。由通常被称为步进器(Stepper)的能量源23产生的能量被禁止通过光掩模10中不透明材料所在的区域。来自步进器23的能量通过石英衬底11的透明部分，该透明部分未被不透明材料12以及抗反射材料13所覆盖。光学系统22将不透明材料12和13的图案的标度图像(scaledimage)24投射到半导体晶片20上，并在半导体晶片上引起光敏材料中的反应。在曝光于能量的区域中，光敏材料的可溶性发生改变。在正性光刻工艺的情况下，被曝光的光敏材料变成可溶的，并且能被移除。在负性光刻工艺的情况下，被曝光的光敏材料变成不可溶的，而未曝光的光敏材料被移除。在移除可溶的光敏材料之后，通过现有技术中通常被称为蚀刻的已知工艺，将形成在不可溶的光敏材料中的图像或图案转移到衬底。一旦将图案蚀刻在衬底材料上，就移除剩余的抗蚀剂，结果得到完成的产品。随后，新的材料和抗蚀剂层被沉积在晶片上，并且下一光掩模上的图像被投射在其上。再次对晶片进行显影和蚀刻。重复这个过程，直至完成电路。为了执行上述的各制造步骤，半导体制造商(例如，客户)必须先向光掩模制造商提供与待制造的光掩模有关的不同类型的数据。关于这-->点，客户通常提供光掩模订单，该光掩模订单包括制造和处理光掩模所需的各种类型的信息和数据，例如，包括：涉及光掩模设计的数据、待使用的材料、交付日期、计费信息、以及其它处理该订单和制造该光掩模所需的信息。在光掩模制造中长期存在的问题是，从客户处接收到光掩模订单到制造光掩模要耗费一定的时间。因此处理光掩模订单以及制造光掩模所耗费的总时间可能很长，由此导致光掩模的总产量没有最大化。这个问题部分可归因于这样一个事实，即定购光掩模的很多客户经常以各种不同的格式发出他们的订单，而这些格式经常与光掩模制造商的计算机系统和/或生产设备互不兼容。相应地，光掩模制造商经常需要重新格式化订单数据和条件，将订单数据和条件转换为和/或补充到与其计算机系统和/或生产设备兼容的不同格式，这可能耗费大量的时间，并因此延迟制造光掩模所需的时间。在解决这些问题的尝试中，光掩模产业已开发了可放置光掩模订单的各种标准光掩模订单格式。例如，SEMI P-10本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种生成光掩模订单的方法，包括下列步骤：生成通用信息用户界面，该通用信息用户界面提示用户输入关于发出该光掩模订单的客户的通用数据；生成定制订单用户界面，该定制订单用户界面提示该用户基于所述通用数据和／或先前输入的确定数据，来 输入完成该光掩模订单所需的确定数据；基于所述确定数据生成属性文件；基于该属性文件访问用于生成光掩模订单的命令脚本文件；以及利用该命令脚本文件生成光掩模订单。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】US 2005-5-27 11/139,7411.一种生成光掩模订单的方法，包括下列步骤：生成通用信息用户界面，该通用信息用户界面提示用户输入关于发出该光掩模订单的客户的通用数据；生成定制订单用户界面，该定制订单用户界面提示该用户基于所述通用数据和/或先前输入的确定数据，来输入完成该光掩模订单所需的确定数据；基于所述确定数据生成属性文件；基于该属性文件访问用于生成光掩模订单的命令脚本文件；以及利用该命令脚本文件生成光掩模订单。2.如权利要求1所述的方法，其中，所述通用数据包括用于识别该客户的信息。3.如权利要求2所述的方法，其中，所述通用数据包括登录名和密码。4.如权利要求1所述的方法，其中，所述确定数据包括下列各项中的至少一个：计费信息、货运信息、产品类型信息、步进器设备信息、最终产品信息、器件名称、掩模标题、到期日、CD数、数字化数据品质信息、工具规格。5.如权利要求1所述的方法，其中，所述确定数据包括预先填入的数据。6.如权利要求5所述的方法，其中，该预先填入的数据包括由该用户可编辑的数据。7.如权利要求1所述的方法，其中，由该定制订单用户界面提示的确定数据包括与标准光掩模订单的数据不同的数据。8.如权利要求1所述的方法，其中，该属性文件与多种光掩模订单生成系统中的至少一种兼容使用。9.如权利要求1所述的方法，其中，以多种专有和标准光掩模订单格式中的至少一种格式生成该光掩模订单。10.如权利要求1所述的方法，其中，该光掩模订单为标准光掩模订单格式或专有光掩模订单格式的完整订单。11.如权利要求1所述的方法，其中，该光掩模订单为标准光掩模订单格式或专有光掩模订单格式的非完整订单。12.如权利要求1所述的方法，还包括步骤：验证由该用户输入的确定数据。13.如权利要求12所述的方法，还包括步骤：当验证步骤表明在所述确定数据的输入中存在错误时，提示该用户输入正确的数据。14.如权利要求1所述的方法，还包括步骤：将该光掩模订单提交至光掩模制造商计算机系统，以用于进一步处理。15.如权利要求14所述的方法，还包括步骤：从该光掩模制造商计算机接收用以确认该光掩模订单的状态的消息。16.如权利要求14所述的方法，还包括步骤：从该光掩模制造商计算机接收用以识别该光掩模订单中的至少一个错误的消息。17.如权利要求14所述的方法，还包括步骤：从该光掩模制造商计算机接收用以确认该光掩模订单已被正确且完整地提交的消息。18.如权利要求14所述的方法，其中，利用下列协议之一来提交该光掩模订单：FTP、HTTP、SMTP以及任何应用程序支持的传输协议。19.如权利要求14所述的方法，还包括步骤：校验该光掩模订单的有效性、可行性、以及合意性中的至少之一。20.如权利要求19所述的方法，还包括步骤：基于校验步骤的结果修改所述确定数据。21.如权利要求20所述的方法，其中，自动修改所述确定数据。22.如权利要求20所述的方法，其中，由该用户手动修改所述确定数据。23.如权利要求1所述的方法，其中，该通用信息用户界面为在计算机上生成的通用信息输入屏幕。24.如权利要求23所述的方法，其中，该定制订单用户界面为在计算机上生成的定制订单输入屏幕。25.如权利要求24所述的方法，其中，在本地计算机上生成该通用信息输入屏幕和该定制订单输入屏幕。26.如权利要求1所述的方法，其中，该通用信息输入屏幕和该定制订单输入屏幕由与该用户所使用的计算机相隔远程距离的位置上的计算机生成。27.如权利要求24所述的方法，其中，该通用信息输入屏幕和该定制订单输入屏幕由与该用户所使用的计算机一起位于内联网上的计算机生成。28.如权利要求24所述的方法，其中，该通用信息输入屏幕和该定制订单输入屏幕由与该用户所使用的计算机一起位于外联网上的计算机生成。29.一种光掩模订单生成系统，包括：通用数据用户界面生成器，其生成并格式化通用数据用户界面，该通用数据用户界面提示用户输入关于发出光掩模订单的客户的通用数据；定制订单用户界面生成器，其生成并格式化定制订单用户界面，该定制订单用户界面提示该用户基于所述通用数据和/或先前输入的确定数据，来输入关于该光掩模订单的确定数据；脚本生成器，其基于输入到该定制订单输入屏幕的确定数据来访问将运行的适当脚本集；脚本引擎，其运行由该脚本引擎确定的脚本集，以将所述确定数据转换为该光掩模订单的组件；以及光掩模订单生成器，其基于该光掩模订单的组件生成完整或非完整的光掩模订单。30.如权利要求29所述的系统，其中，所述通用数据包括用于识别该客户的信息。31.如权利要求31所述的系统，其中，所述通用数据包括登录名和密码。32.如权利要求29所述的系统，其中，所述确定数据包括下列各项中的至少一个：计费信息、货运信息、产品类型信息、步进器设备信息、最终产品信息、器件名称、掩模标题、到期日，CD数、数字化数据品质信息、工具规格。33.如权利要求29所述的系统，其中，作为确定数据要被输入的至少一个数据是预先填入的。34.如权利要求33所述的系统，其中，所述至少一个数据是由该用户可编辑的。35.如权利要求29所述的系统，其中，该定制订单输入页面提示该用户仅输入与标准光掩模订单中的数据不同的数据。36.如权利要求29所述的系统，还包括属性文件，该属性文件将所述确定数据存储为兼容于该光掩模订单生成器的格式。37.如权利要求35所述的系统，其中，该属性文件为数据库形式。38.如权利要求36所述的系统，其中，该属性文件与多种光掩模订单生成器中的至少一种兼容使用。39.如权利要求29所述的系统，其中，该通用数据用户界面为网页。40.如权利要求29所述的系统，其中，该通用数据用户界面包括一系列链接网页。41.如权利要求29所述的系统，其中，该定制订单用户界面为网页。42.如权利要求29所述的系统，其中，该定制订单用户界面包括一系列链接网页。43.如权利要求36所述的系统，其中，该脚本引擎将该属性文件转换为光掩模订单目标模式。44.如权利要求29所述的系统，其中，该光掩模订单被生成为各种专有和标准光掩模订单格式中的...

【专利技术属性】
技术研发人员：丹尼尔J卡哈兰，查尔斯E克罗克，爱德华J萨蒂尔，
申请(专利权)人：美商福昌公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]