【技术实现步骤摘要】
一种微弧氧化铝合金材料
[0001]本专利技术属于铝或铝合金材料表面处理
,涉及一种封孔处理方法,具体涉及一种铝合金微弧氧化膜封孔方法。
技术背景
[0002]微弧氧化技术是在硬质阳极氧化技术基础上发展起来的一种新技术,可直接在铝、镁、 钛、锆、铌等金属表面原位生长形成具有高耐蚀、高耐磨、高绝缘、耐热冲击等一系列优良 性能的陶瓷膜。在航空、舰船、纺织、汽车等行业中获得广泛的应用。但是在微弧氧化过程 中电弧的作用使表面形成的陶瓷膜发生熔化,在陶瓷膜表面形成气体的共同作用下形成大量 微米级的微孔。这些微孔在陶瓷膜中大量存在,部分微孔与金属基体相连,使液体容易通过 微孔达到金属基体,导致金属腐蚀,严重的会导致氧化膜龟裂、脱落,从而影响微弧氧化膜 的性能。因此必须对微弧氧化膜进行封孔处理。
[0003]目前对微弧氧化膜的封孔方法研究的较少,如采用沸水封孔、树脂喷涂固化封孔或阳极 氧化膜的封孔剂等方法进行封孔。由于微弧氧化膜的孔径较大,部分孔洞贯穿整个氧化膜, 沸水封孔难以实现对微弧氧化膜的有效封孔;树脂喷涂固化封孔设备投入较多,成本较高; 阳极氧化膜封孔剂的种类较多,没有进行相应的微弧氧化膜封孔试验,严重影响微弧氧化膜 封孔质量。
[0004]如CN201210357957西南石油大学,一种常温微弧氧化膜封孔方法,采用硅酸钠、镍盐、溶剂与促进剂配制的溶液作为封孔剂,封孔剂静置至少2小时后在常温下对微弧氧化膜采用浸泡的方式进行封孔,封孔后封孔剂在微弧氧化膜表面的微孔中形成吸附结晶填充物而达到封孔的目的。所 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种微弧氧化铝合金材料,其特征在于所述微弧氧化膜由下至上依次包括有铝基材、2
‑
5μm过渡层、100
‑
300μm低孔密度过渡层、20
‑
40μm表面多孔层,所述多孔层内通过热处理填充有γ氧化铝和勃姆体氧化铝,所述γ氧化铝通过空气下550
‑
580
o
C热处理3
‑
4h获得,所述勃姆体氧化铝通过115
‑
120
o
C过热水蒸气热处理10
‑
15min获得,所述微弧氧化铝合金材料的硬度为2538
±
200Hv,耐腐蚀性3700
±
100h,摩擦系数0.28
±
0.2。2.如权利要求1所述的一种微弧氧化铝合金材料,其特征在于所述低孔密度过渡层的孔隙率为2
‑
5%,所述表面多孔层封孔前的孔隙率为7
‑
10%,封孔后的孔隙率低于1%。3.如权利要求1所述的一种微弧氧化铝合金材料,其特征在于所述微弧氧化膜制备过程如下:铝合金表面预处理: 喷砂
‑
水洗
‑
碱洗
‑
水洗
‑
酸洗
‑
水洗;以经过表面预处理的铝合金为阳极,在电解液中进行微弧氧化,在铝合金表面形成微弧氧化膜,微弧氧化液由氢氧化钠、硅酸钠、丙三醇、乙二胺四乙酸二钠和去离子水组成。4.如权利要求3所述的一种微弧氧化铝合金材料,其特征在于所述喷砂:硬度为385Hv的石英砂,所述石英砂的粒径2
‑
3mm,空气压力为0.3
‑
0.5Mpa;碱洗:NaOH 40
‑
50g/L,酒石酸钠2
‑
4g/L,温度40
‑
55
o
C,时间3
‑
5min;酸洗:HNO3 250
‑
300g/L,温度25
‑
30
o
C,时间3
‑
5min。5.所述微弧氧化包括有1
‑
2g/L氢氧化钠、8
‑
12g/L硅酸钠、3
‑
5ml/L丙三醇、2
‑
4g/L乙二胺四乙酸二钠,电流密度6
‑
10A/dm2,频率为450
‑
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