一种射频器件量测系统及方法技术方案

本发明专利技术公开了一种射频器件量测系统及方法，包括量测装置、探针台、数据存储服务器以及数据处理服务器，通过将所述探针台依次连接晶圆上的晶粒，在所述探针台连接所述多个晶粒中的目标晶粒时，通过量测装置获取目标晶粒的散射参数并传输至所述数据存储服务器，并使探针台连接下一个晶粒，然后通过数据存储服务器存储所述目标晶粒的散射参数，最后通过所述数据处理服务器根据预设的量测参数数据，对所述数据存储服务器中所述目标晶粒的散射参数进行处理，生成所述量测参数的参数数据，可使现有的量测设备能发挥更高的效率，从而无需投入更多相对昂贵的量测设备，既可满足产能的要求，也能解决现有量测系统造成的资源浪费和量测过程耗时长的缺陷。过程耗时长的缺陷。过程耗时长的缺陷。

【技术实现步骤摘要】
一种射频器件量测系统及方法


[0001]本专利技术涉及信息处理
，尤其涉及一种射频器件量测系统及方法。

技术介绍

[0002]随着半导体工艺的发展，射频器件的尺寸越来越小，相应的单片晶圆上的器件个数越来越多。随着产能的增长，势必对射频器件的量测速度提出更高的要求。现有的量测系统是通过网络分析仪对获取的散射参数进行计算，才能得到量测结果。而采用现有的量测系统，由于网络分析仪的计算过程耗时较长，并且网络分析仪在计算的过程中探针台是一直处于等待状态，从而造成了资源浪费，进而使得整个量测过程耗时过长。
[0003]为了满足产能的要求和解决现有量测系统的缺陷，可以投入更多的量测设备。但由于相关的量测设备如探针台、网络分析仪等设备所需的成本比较高，而通过投入更多量测设备的这种方式则需要大量的资金投入。因此需要寻找一种成本较低的方式来提高对射频器件的量测速度。

技术实现思路

[0004]本专利技术的基本思想如下：由于投入更多的量测设备如探针台、网络分析仪等设备所需的成本比较高，与此同时，随着计算机技术的发展，存储资源和计算资源越来越富余，因此可通过在现有的量测系统中，增加额外的存储资源和计算资源来存储和计算射频器件的散射参数，可使现有的量测设备能发挥更高的效率，从而无需投入更多相对昂贵的量测设备，既可满足产能的要求，也能解决现有量测系统造成的资源浪费和量测过程耗时长的缺陷。
[0005]本专利技术实施例的目的是提供一种射频器件量测系统，在不投入更多的量测设备的情况下，能够提高对射频器件的量测效率，并且极大程度的降低了量测成本和时间成本。
[0006]为实现上述目的，本专利技术实施例提供了一种射频器件量测系统，包括量测装置、探针台、数据存储服务器以及数据处理服务器；
[0007]所述探针台，用于依次连接晶圆上的多个晶粒；
[0008]所述量测装置，用于在所述探针台连接所述多个晶粒中的目标晶粒时，获取所述目标晶粒的散射参数并传输至所述数据存储服务器，并使探针台连接下一个晶粒；
[0009]所述数据存储服务器，用于存储所述目标晶粒的散射参数；
[0010]所述数据处理服务器，用于根据预设的量测参数，对所述数据存储服务器中所述目标晶粒的散射参数进行处理，生成所述散射参数的参数数据。
[0011]进一步的，所述数据处理服务器，还用于根据预设的量测参数，从预设的策略池中选择对应的计算策略，以根据所述计算策略对所述目标晶粒对应的散射参数进行计算，生成所述量测参数的参数数据。
[0012]进一步的，所述预设的量测参数包括由至少一个性能参数组成的性能参数集合，所述参数数据包括所述性能参数集合中每个性能参数对应的量测值；
[0013]所述数据处理服务器，还用于根据每个性能参数，从数据存储服务器中获取相应的散射参数，并对获取的散射参数进行处理，生成每个性能参数对应的量测值；
[0014]所述数据存储服务器，还用于存储所述数据处理服务器生成的量测值。
[0015]进一步的，所述数据处理服务器，还用于将每个性能参数对应的量测值与预设相对应的目标值范围进行比较，以判断所述目标晶粒是否合格；
[0016]当每个性能参数对应的量测值都分别在对应的目标值范围内时，生成判断所述目标晶粒合格的判断结果；否则，生成判断所述目标晶粒不合格的判断结果；
[0017]所述数据存储服务器，还用于存储所述数据处理服务器生成的判断结果。
[0018]进一步的，所述数据处理服务器，还用于根据预设的工艺站点参数，从数据存储服务器中获取对应性能参数的量测值，并对获取的量测值进行计算，将计算结果作为所述工艺站点所需的输入数据。
[0019]进一步的，所述数据处理服务器，还用于根据用户对预设的量测参数的更改设置操作，对预设的量测参数进行更改设置，并根据更改设置后的量测参数从所述数据存储服务器中获取目标晶粒对应的散射参数，以对获取到的散射参数进行计算，生成所述更改设置后的量测参数的参数数据。
[0020]进一步的，所述射频器件量测系统，还包括数据展示平台；
[0021]所述数据处理服务器，还用于将所述目标晶粒的量测值和判断结果传输至所述数据展示平台；
[0022]所述数据展示平台，用于将所述目标晶粒的量测值和判断结果进行显示。
[0023]进一步的，所述量测装置为网络分析仪；
[0024]所述网络分析仪，还用于将目标晶粒的散射参数以.SNP文件格式发送至所述数据存储服务器。
[0025]进一步的，所述数据存储服务器，还用于存储所述量测装置获取的目标晶粒所在的晶圆编号和所述目标晶粒的位置坐标；
[0026]所述数据展示平台，还用于将所述目标晶粒所在的晶圆编号和所述目标晶粒的位置坐标进行显示。
[0027]作为本专利技术的优选实施例，本专利技术实施例还提供了一种射频器件量测方法，应用于射频器件量测系统，所述系统包括量测装置、探针台、数据存储服务器以及数据处理服务器，所述方法包括以下步骤：
[0028]控制探针台依次连接晶圆上的多个晶粒；
[0029]在所述探针台连接所述多个晶粒中的目标晶粒时，控制所述量测装置获取目标晶粒的散射参数并传输至所述数据存储服务器，并使探针台连接下一个晶粒；
[0030]控制所述数据存储服务器存储所述目标晶粒的散射参数；
[0031]控制所述数据处理服务器根据预设的量测参数，对所述数据存储服务器中目标晶粒的散射参数进行处理，生成所述量测参数的参数数据。
[0032]进一步的，所述根据预设的量测参数，所述控制所述数据处理服务器根据预设的量测参数，对所述数据存储服务器中目标晶粒的散射参数进行处理，生成所述量测参数的参数数据，包括：
[0033]控制所述数据处理服务器根据预设的量测参数，从预设的策略池中选择对应的计
算策略，以根据所述计算策略对所述目标晶粒对应的散射参数进行计算，生成所述量测参数的参数数据。
[0034]进一步的，所述预设的量测参数包括由至少一个性能参数组成的性能参数集合，所述参数数据包括所述性能参数集合中每个性能参数对应的量测值；
[0035]所述射频器件量测方法，还包括：
[0036]控制所述数据处理服务器根据每个性能参数，从数据存储服务器中获取相应的散射参数，并对获取的散射参数进行处理，生成每个性能参数对应的量测值
[0037]所述射频器件量测方法，还包括：
[0038]控制所述数据存储服务器存储所述数据处理服务器生成的量测值。
[0039]进一步的，所述射频器件量测方法，还包括：
[0040]控制所述数据处理服务器将每个性能参数对应的量测值与预设相对应的目标值范围进行比较，以判断所述目标晶粒是否合格；
[0041]当每个性能参数对应的量测值都分别在对应的目标值范围内时，生成判断所述目标晶粒合格的判断结果；否则，生成判断所述目标晶粒不合格的判断结果；
[0042]控制所述数据本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种射频器件量测系统，其特征在于，包括量测装置、探针台、数据存储服务器以及数据处理服务器；所述探针台，用于依次连接晶圆上的多个晶粒；所述量测装置，用于在所述探针台连接所述多个晶粒中的目标晶粒时，获取所述目标晶粒的散射参数并传输至所述数据存储服务器，并使探针台连接下一个晶粒；所述数据存储服务器，用于存储所述目标晶粒的散射参数；所述数据处理服务器，用于根据预设的量测参数，对所述数据存储服务器中所述目标晶粒的散射参数进行处理，生成所述量测参数的参数数据。2.如权利要求1所述的射频器件量测系统，其特征在于，所述数据处理服务器，还用于根据预设的量测参数，从预设的策略池中选择对应的计算策略，以根据所述计算策略对所述目标晶粒对应的散射参数进行计算，生成所述量测参数的参数数据。3.如权利要求1所述的射频器件量测系统，其特征在于，所述预设的量测参数包括由至少一个性能参数组成的性能参数集合，所述参数数据包括所述性能参数集合中每个性能参数对应的量测值；所述数据处理服务器，还用于根据每个性能参数，从数据存储服务器中获取相应的散射参数，并对获取的散射参数进行处理，生成每个性能参数对应的量测值；所述数据存储服务器，还用于存储所述数据处理服务器生成的量测值。4.如权利要求3所述的射频器件量测系统，其特征在于，所述数据处理服务器，还用于将每个性能参数对应的量测值与预设相对应的目标值范围进行比较，以判断所述目标晶粒是否合格；当每个性能参数对应的量测值都分别在对应的目标值范围内时，生成判断所述目标晶粒合格的判断结果；否则，生成判断所述目标晶粒不合格的判断结果；所述数据存储服务器，还用于存储所述数据处理服务器生成的判断结果。5.如权利要求3所述的射频器件量测系统，其特征在于，所述数据处理服务器，还用于根据预设的工艺站点参数，从数据存储服务器中获取对应性能参数的量测值，...

【专利技术属性】
技术研发人员：张棘勇，章景恒，
申请(专利权)人：武汉衍熙微器件有限公司，
类型：发明
国别省市：