示例包括流体模具。流体模具包括场效应晶体管阵列,该阵列包括第一尺寸的场效应晶体管和第二尺寸的场效应晶体管。至少一个连接构件将场效应晶体管阵列的至少一些场效应晶体管互连。流体模具还包括连接到第一组场效应晶体管的第一流体致动器,该第一组场效应晶体管具有至少一个第一尺寸的场效应晶体管。模具包括第二流体致动器,该第二流体致动器连接到第二相应的场效应晶体管组,该第二相应的场效应晶体管组具有与阵列的至少一个其他场效应晶体管互连的第二尺寸的第一相应的场效应晶体管。管互连的第二尺寸的第一相应的场效应晶体管。管互连的第二尺寸的第一相应的场效应晶体管。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】连接的场效应晶体管
技术介绍
[0001]流体模具可以处理小体积流体。例如,流体模具的喷嘴可以有助于喷射液滴。在一些流体模具中,各种电气部件可用于分析、输送和/或执行用于流体模具的流体的其他这样的过程。因此,电气部件的各种布置可以在流体模具中实施,以实现和控制这种过程的性能。一些示例性流体模具可以是流体喷射模具,其中可以经由流体喷射模具的喷嘴可控地喷射液滴。
附图说明
[0002]图1是图示示例性流体模具的一些部件的框图。
[0003]图2是图示示例性流体模具的一些部件的框图。
[0004]图3是图示示例性流体模具的一些部件的逻辑图。
[0005]图4是图示示例性流体模具的一些部件的框图。
[0006]图5是图示示例性流体模具的一些部件的框图。
[0007]图6是图示示例性流体模具的一些部件的逻辑图。
[0008]图7是图示示例性流体模具的一些部件的逻辑图。
[0009]图8是图示示例性流体模具的一些部件的框图。
[0010]图9是图示示例性流体模具的一些部件的框图。
[0011]图10是图示示例性流体模具的一些部件的框图。
[0012]图11是图示示例性流体模具的一些部件的框图。
[0013]图12是图示示例过程的示例操作序列的流程图。
[0014]图13是图示示例过程的示例操作序列的流程图。
[0015]图14A
‑
C是图示示例过程的框图。
[0016]在所有附图中,相同的附图标记表示相似但不一定相同的元件。附图不一定按比例绘制,并且一些部分的尺寸可能被放大以更清楚地说明所示的示例。此外,附图提供了与描述一致的示例和/或实施方式;然而,描述不限于附图中提供的示例和/或实施方式。
具体实施方式
[0017]流体模具的示例可以包括流体致动器。流体致动器可包括基于压电膜的致动器、基于热敏电阻器的致动器、静电膜致动器、机械/冲击驱动的膜致动器、磁致伸缩驱动致动器或可响应于电致动而引起流体位移的其他这种元件。为了控制这种流体致动器的致动,示例可以进一步包可以连接到流体致动器的场效应晶体管(FET)。因此,连接的FET的电气控制可以实现流体模具的流体致动器的选择性控制。
[0018]流体致动器可以布置在相应的流体致动器组中,其中每个这样的流体致动器组可以被称为“基元(primitive)”或“点火基元(firing primitive)”。基元通常包括流体致动器的集合,每个致动器具有唯一的致动地址。在一些示例中,流体模具的电气和流体约束可以限制对于给定的致动事件,每个基元的哪些流体致动器可以被同时致动。因此,基元有助
于寻址和随后致动流体喷射器子集,这些子集可以针对给定的致动事件被同时致动。为了在基元内寻址流体致动器,场效应晶体管可以类似地布置。因此,通过使能场效应晶体管的栅极来寻址场效应晶体管,可以引起连接到场效应晶体管的流体致动器的电致动。 因此,对于流体致动器的每个基元,流体模具可以包括场效应晶体管的基元。
[0019]如本文所使用的,流体模具可以对应于各种类型的集成装置,利用这种装置,小体积(皮升体积、纳升体积、微升体积等)流体可以被泵送、混合、分析、喷射等。这种流体模具可以包括流体喷射模具,诸如打印头、添加剂制造分配器部件、数字滴定部件和/或其他这样的装置,利用这些装置可以选择性地且可控地喷射一定体积的流体。流体模具的其他示例包括流体传感器装置、芯片实验室装置和/或在其中可以分析和/或处理流体的其他这样的装置。
[0020]在一些示例性流体模具中,流体致动器可以设置在流体腔室中,其中流体腔室可以流体联接到喷嘴。在一些示例中,流体腔室可以被称为“压力腔室”。流体致动器可以被致动,使得流体腔室中的流体发生位移,并且这种位移可以导致液滴经由喷嘴孔喷射。因此,设置在流体腔室中的流体致动器可被称为“流体喷射器”,该流体腔室流体联接到喷嘴。此外,包括流体致动器、流体腔室和喷嘴的流体部件可以被称为“液滴发生器”。
[0021]本文描述的示例流体模具可包括其中可设置有流体致动器的微流体通道。在这样的实施方式中,设置在微流体通道中的流体致动器的致动可以在微流体通道中产生流体位移。因此,设置在微流体通道中的流体致动器可被称为“流体泵”。流体致动器的实施方式之间的区别是不同流体致动器类型的示例。例如,与实施为流体泵的流体致动器相比,实施为流体喷射器的流体致动器可以被认为是不同的流体致动器类型。
[0022]微流体特征(诸如微流体通道或流体腔室)可以通过在流体模具的基底中或基底上执行蚀刻、微制造(例如,光刻)、沉积、微机加工工艺或它们的任何组合形成。一些示例基底可以包括硅基基底、玻璃基基底、砷化镓基基底和/或用于微制造装置和结构的其他这种合适类型的基底。因此,微流体通道、腔室、喷嘴、孔和/或其他这样的特征可以由制造在基底中的表面和/或沉积在流体模具的基底上的材料来限定。此外,如本文所使用的,微流体通道可以对应于足够小尺寸(例如,纳米尺寸的尺度、微米尺寸的尺度、毫米尺寸的尺度等)的通道,以有助于小体积(例如,皮升尺度、纳升尺度、微升尺度、毫升尺度等)流体的输送。
[0023]由于可以在示例性流体模具中实施的流体致动器的各种布置和配置,对于流体模具的流体致动器,这种流体致动器和连接到这种流体致动器的控制逻辑的电气约束和要求可能不同。因此,连接到流体模具的流体致动器的FET的电气特性可以不同,其中,连接的FET的电气特性可以至少部分地基于FET可以连接到的流体致动器的操作参数。如本文所使用的,流体致动器的操作参数可包括例如电流、电压和/或功率水平,在该水平下,流体致动器可被操作以执行流体位移。在一些流体模具中,连接到每个流体致动器的FET和相关联的逻辑可以被设计成流体模具的流体致动器的规格。然而,在一些情况下,包括FET和相关联的逻辑的基底可以用于多于一个的流体模具设计中,其中流体模具设计的流体致动器的操作参数可以不同。
[0024]因此,通过使用其上形成有场效应晶体管的灵活布置的基底,可以提高流体模具加工效率。在形成和加工基底以形成流体通道、腔室、流体致动器、喷嘴和/或其他部件期间,灵活场效应晶体管布置可以被设置成其中可以实施基底的流体模具的设计规格。例如,
互连层可以被配置成用于FET的布置,以向各种不同类型的流体致动器输送最佳能量。这种互连层的配置可以包括连接一些连接构件以将一些FET互连以及将FET连接到流体致动器。
[0025]本文提供的示例可包括流体模具和用于产生流体模具的过程,其中当形成流体模具的流体特征和部件时,可设定场效应晶体管的配置。示例性流体模具可以包括场效应晶体管阵列,其中场效应晶体管阵列可以包括第一尺寸的场效应晶体管,并且该阵列可以进一步包括第二尺寸的场效应晶体管。如本文所使用的,场效应晶体管的尺寸可以指场效应晶体管的电气特性。例如,第一尺寸的场效应晶体管可以具有电流、电压和功率范围和极限。场效应晶体管的物理特性可以对应于这样的电流、本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种流体模具,包括:场效应晶体管阵列,其包括第一尺寸的场效应晶体管,并且还包括第二尺寸的场效应晶体管;至少一个连接构件,其将所述场效应晶体管阵列的至少一些场效应晶体管互连;第一流体致动器,其连接到具有至少一个第一尺寸的场效应晶体管的第一相应的场效应晶体管组;和第二流体致动器,其连接到第二相应的场效应晶体管组,所述第二相应的场效应晶体管组包括与所述阵列的至少一个其它场效应晶体管互连的第二尺寸的第一相应的场效应晶体管。2.根据权利要求1所述的流体模具,其中,所述第二相应的场效应晶体管组包括与第一尺寸的第二相应的场效应晶体管互连的第二尺寸的第一相应的场效应晶体管。3.根据权利要求1所述的流体模具,其中,所述第二相应的场效应晶体管组包括与第二尺寸的第二相应的场效应晶体管互连的第二尺寸的第一相应的场效应晶体管。4.根据权利要求1所述的流体模具,其中,至少两个第二尺寸的场效应晶体管被布置成对应于一个第一尺寸的场效应晶体管,并且所述场效应晶体管阵列被布置成一列,使得相应的至少两个第二尺寸的场效应晶体管集合被设置在相应的第一尺寸的场效应晶体管之间。5.根据权利要求1所述的流体模具,其中,所述场效应晶体管阵列包括第三尺寸的场效应晶体管,并且与一个第三尺寸的场效应晶体管互连的一个第二尺寸的场效应晶体管对应于一个第一尺寸的场效应晶体管。6.根据权利要求1所述的流体模具,进一步包括:第一流体腔室,其中设置有所述第一流体致动器,所述第一流体腔室对应于第一液滴尺寸;和第二流体腔室,其中设置有所述第二流体致动器,所述第二流体腔室对应于不同于所述第一液滴尺寸的第二液滴尺寸,其中,相应的第二场效应晶体管组包括与第一尺寸的第二相应的场效应晶体管互连的第二尺寸的第一相应的场效应晶体管。7.根据权利要求1所述的流体模具,其中,所述第一流体致动器是第一流体致动器尺寸,并且所述第二流体致...
【专利技术属性】
技术研发人员:E,
申请(专利权)人:惠普发展公司,有限责任合伙企业,
类型:发明
国别省市:
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