用于生成冷等离子体的包括电极和电介质的设备制造技术

本发明专利技术涉及一种使用介质阻挡等离子体、用于待处理身体表面的处理设备（1），所述处理设备包括连接至头件（11）的高压发生器（100），所述头件包括至少部分地被电介质壁（14）屏蔽的导电元件（12），所述电介质壁形成端壁（15）的、面对所述待处理表面的至少一个部分。面对所述待处理表面的至少一个部分。面对所述待处理表面的至少一个部分。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于生成冷等离子体的包括电极和电介质的设备


[0001]本专利技术涉及一种使用介质阻挡等离子体、用于待处理身体表面的处理设备，该设备包括头件，该头件具有端壁和电极，该电极通过电介质与待处理表面隔绝。
[0002]本专利技术还涉及一种包括使该处理设备在皮肤上移动的方法、以及该处理设备用于预防和/或处理健康头皮或健康皮肤的美学障碍的用途。
[0003]“化妆品产品”是指如2009年11月30日欧洲议会和理事会关于化妆品产品的第1223/2009号法规（EC）中定义的任何产品。

技术介绍

[0004]提供大气压冷等离子体的系统已经在医学领域的比如杀菌和感染伤口处理等应用中使用多年。这些系统主要基于所谓的DBD（介质阻挡放电）等离子体产生技术。已知应用于空气的这些DBD系统会产生氧活性物和氮活性物，这些活性物会对活细胞产生作用、包括抗菌作用。
[0005]已经提交了几项专利，这些专利描述用于确保施用器与皮肤之间的气隙的系统。
[0006]KR 101662156描述了一种用于使用等离子体来处理患处的皮肤处理装置，该装置通过在患处与等离子体发生器之间引发介质阻挡放电从而产生软等离子体来使用等离子体。该皮肤处理装置使用球型等离子体发生器，该球型等离子体发生器通过使接触患处的部分呈球形头件的形式来促进患处的杀菌和肉芽组织的生长。球型等离子体发生器平滑地移动、并且在细胞的内部和外部同时起作用、并且生成反应物，从而增加反应物的浓度并刺激患处。
[0007]DE 10 2009 060 627描述了一种由柔性平面电极和柔性平面电介质组成的电极布置，其中，该电介质完全包围平面电极并且该电极只有一个连接器以绝缘的方式从该电介质导出以连接至高压发生器。电介质旨在被放置于待处理表面（例如人类或动物身体的皮肤表面）上，并且在接触侧包括柱结构，该柱结构起间隔物的作用，因为可以在柱之间形成气体室，并且在气体室中可以形成介质阻挡等离子体。
[0008]根据DE 10 2012 015 482的一种处理设备配备有类似的电极布置，其中，嵌入有电极的电介质形成处理设备壳体的端壁。由包含可柔性嵌入的平面电极的柔性电介质制成的柔性电极布置通过位于该电极布置后面的弹性挤压装置压在待处理表面上，由此，提高了电极布置对待处理表面（尤其是皮肤表面）的轮廓的适应性。
[0009]DE 102015111401描述了一种使用介质阻挡等离子体、用于待处理表面的处理设备，该处理设备包括：具有端壁的壳体；电极，该电极通过电介质与待处理表面隔绝，该电介质形成该端壁的至少一个部分。该电极可连接至高压发生器。该端壁具有至少一个间隔物，该至少一个间隔物在其抵靠在待处理表面上时形成至少一个气体室。介质阻挡等离子体是在气体室中形成的。可填充处理剂的储存室布置在端壁的背离待处理表面的那侧。
[0010]通过本专利技术解决的问题是提供一种开始时提到的类型的处理设备，以在比如皮肤等目标上提供更均匀的等离子体施用和生成。

技术实现思路

[0011]为了解决该问题，本专利技术提出了一种使用介质阻挡等离子体、用于待处理身体表面的处理设备，该处理设备包括连接至头件的高压发生器，该头件包括至少部分地被电介质壁屏蔽的导电元件，该电介质壁形成端壁的、面对该待处理表面的至少一个部分，其特征在于，该导电元件设置有一个或多个突出导电元件并且该电介质壁适形于这些突出导电元件的形状。
[0012]根据本专利技术，该导电元件可以是电极或被电场电离的惰性气体。在已电离的惰性气体的情况下，该设备包括形成安瓿或气泡（bleb）的头件。
[0013]因此，根据本专利技术的处理设备使得能够避免以下情况：皮肤突入根据现有技术的间隔物之间的空间，这具有通过剥夺施用器的空气来堵塞施用器、因此阻止生成等离子体的结果。
[0014]因此，不管每个突出导电元件在皮肤中的凹陷情况如何，介质阻挡与皮肤之间始终存在气隙，从而确保皮肤与用于生成等离子体的高压电极之间有足够的距离。
[0015]在屏蔽电极的电介质与待处理表面之间形成中间空间。介质阻挡等离子体经由对存在于其中的气体或空气的电离形成气体室或空气室。当然，在待处理表面与被电介质阻碍的电极之间生成了直流电流。因此，只有位移电流可能用于形成等离子体。
[0016]等离子体的形成可以通过使用DC高压来进行，这种情况下仅产生初始位移电流和维持等离子体的电势差。然而，如果高压电势在正电压与负电压之间切换，则优选的是使用AC高压。在这种情况下，优选的是待处理表面（例如皮肤表面或身体）充当所谓的浮动对电极。它仅能缓慢地跟随AC电压的电势变化，并且由于频率不断变化，因此基本保持在将成为接地电势的平均电势。
[0017]本专利技术的另一个主题是一种用于使用介质阻挡等离子体来处理身体表面的美容方法，根据本专利技术的设备在该身体表面上移动。本专利技术的方法是动态方法。然后施用器的动态路线允许在皮肤上均匀地施用等离子体。而且，施用器的元件的圆度促进了该动态路线。
[0018]本专利技术的另一个主题是根据本专利技术的设备用于预防和/或处理健康头皮或健康皮肤的美学障碍的用途。
[0019]主要定义“轴线A”是指纵向轴线A。
[0020]“具有轴线A的纵向截面”是平行于该部件的轴线A的截面。
[0021]“具有轴线A的部件的截面”是垂直于该部件的轴线A的截面。
[0022]表述“部件x的纵向轴线”表示连接部件x的截面的所有质心的线。
[0023]术语“部件A的长度”指定具有轴线A的部件的纵向方向，并且术语“宽度”指定垂直方向。
[0024]例如，“电极在纵向截面上的长度”指的是电极的纵向轴线。
[0025]“凸出部”包括突出到表面之外的多个部件。
[0026]“电介质壁的厚度”通过垂直于电介质壁的外壁的切线来测量。
[0027]“等离子体”是也可以生成活性物的已电离气体，所述已电离气体是通过进行会产生等离子体的放电而产生的。冷大气压等离子体是不会对暴露于等离子体的基板造成任何过度加热的等离子体。
[0028]可使用三类冷大气压等离子体，即直接等离子体、间接等离子体和混合等离子体。
[0029]在直接等离子体的情况下，基板充当产生等离子体所需的对电极；因此等离子体是在电极与基板之间生成的。主要的直接等离子体技术之一是称为DBD（介质阻挡放电）的等离子体。
[0030]出于本专利技术的目的，术语“预防”是指降低所讨论的现象的表现风险。
[0031]绝缘材料或电介质是具有非常高的电阻率的材料：10
8 Ω.m到10
16 Ω.m，因为它们几乎不包含自由电子。根据本专利技术，电介质壁是固体材料。
[0032]根据本专利技术的可用的电介质材料的示例是玻璃、陶瓷、云母、纸、织物、有机树脂。
[0033]优选实施方式根据本专利技术的其他有利方面，该设备包括以下特征中的一个或多个特征，这些特征是独立地或以任何技术上可能的组合来考虑的：
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种使用介质阻挡等离子体、用于待处理身体表面的处理设备（1），所述处理设备包括连接至头件（11）的高压发生器（100），所述头件包括至少部分地被电介质壁（14）屏蔽的导电元件（12），所述电介质壁形成端壁（15）的、面对所述待处理表面的至少一个部分，其特征在于，所述导电元件（12）设置有一个或多个突出导电元件（16）并且所述电介质壁（14）适形于所述突出导电元件（16）的形状。2.根据权利要求1所述的处理设备，其特征在于，所述导电元件（12）是电极。3.根据前述权利要求中任一项所述的处理设备，其特征在于，所述导电元件（12）是已电离的惰性气体。4.根据前述权利要求中任一项所述的处理设备，其特征在于，所述端壁（15）的外表面设置有多个凸出部（13）。5.根据前述权利要求中任一项所述的处理设备，其特征在于，当所述端壁（15）压在所述待处理身体表面上时，所述端壁（15）与所述待处理表面界定一个或多个气体室（17），所述介质阻挡等离子体是在所述气体室（17）中生成的。6.根据前述权利要求中任一项所述的处理设备，其特征在于，所述电介质元件（14）的厚度在所述端壁（15）面对所述待处理表面的整个表面上是恒定的。7.根据前述权利要求中任一项所述的处理设备，其特征在于，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：T，
申请(专利权)人：莱雅公司，
类型：发明
国别省市：