一种CVD金刚石散射片制造技术

本发明专利技术公开了一种CVD金刚石散热片装置，包括金刚石散射片、水循环驱动装置、散射片水冷装置和金刚石散射片外框，所述金刚石散射片设于金刚石散射片外框内，所述散射片水冷装置固接设于金刚石散射片外框外表面，所述水循环驱动装置设于散射片水冷装置内，所述金刚石散射片外框包括水冷上水槽、水冷下水槽、水冷循环管道和散热铜管，所述水冷下水槽和水冷上水槽设于金刚石散射片外框上，所述水冷循环管道一端接于水冷下水槽侧面，另一端接于水冷上水槽侧面，所述散热铜管设于水冷下水槽与水冷上水槽的侧面，所述金刚石散射片由CVD金刚石单晶制成。本发明专利技术属于光学与光学工程领域，具体是指一种有效提高散热片阈值的CVD金刚石散热片装置。片装置。片装置。

【技术实现步骤摘要】
一种CVD金刚石散射片


[0001]本专利技术属于光学与光学工程
，具体是指一种CVD金刚石散射片装置。

技术介绍

[0002]目前散射片主要用于衍射和折射的应用中，但是在使用过程中，射入散射片中的激光一部分被散射片表面散射，另一部分在另一表面发生二次散射，二次散射激光的能量会导致散射片温度升高，从而导致散射片耐受激光功率阈值低。
[0003]申请号为CN201880005732.6的专利申请公开了一种光散射片，光散射片(光散射体)由在树脂中分散有光散射粒子的树脂成形体形成。光散射粒子为稀土类磷酸盐的粒子。该光散射片在使用过程中，仍然没有解决因为温度上升而导致散射片耐受激光红功率不搞的问题。

技术实现思路

[0004]为了解决上述难题，本专利技术提供了一种可以快速散热并且提高激光阈值的CVD金刚石散射片装置。
[0005]为了实现上述功能，本专利技术采取的技术方案如下：一种CVD金刚石散射片装置，包括金刚石散射片、水循环驱动装置、散射片水冷装置和金刚石散射片外框，所述金刚石散射片设于金刚石散射片外框内，所述散射片水冷装置设于金刚石散射片外框外表面，所述水循环驱动装置设于散射片水冷装置内，所述金刚石散射片外框包括水冷上水槽、水冷下水槽、水冷循环管道和散热铜管，所述水冷下水槽和水冷上水槽固接设于金刚石散射片外框两相对端的外表面上，所述水冷循环管道一端设于水冷下水槽侧面，所述水冷循环管道另一端设于水冷上水槽侧面，所述散热铜管均匀设于设于水冷下水槽与水冷上水槽的侧面，用于散发热量，控制水槽的温度,所述金刚石散射片由CVD金刚石单晶制成，直径为1英寸，厚度为5mm。
[0006]进一步地，所述水循环驱动装置包括水冷驱动电机、水冷驱动电机保护罩和圆形螺旋桨，所述水冷驱动电机保护罩设于水冷下水槽内侧壁上，所述水冷驱动电机设于水冷驱动电机保护罩内，用于保证电机不直接接触水，所述圆形螺旋桨设于水冷驱动电机的转动轴上。
[0007]进一步地，所述金刚石片散射片外框为中空圆柱体结构设置。
[0008]进一步地，所述水冷上水槽和水冷下水槽为中空结构。
[0009]进一步地，所述水冷循环管道为中空弧形圆柱体结构。
[0010]进一步地，所述金刚石散射片内设有水冷镜面通道。
[0011]进一步地，所述金刚石散射片上底面和下底面经过机械粗磨表面粗糙度为100um。
[0012]本专利技术采取上述结构取得有益效果如下：本专利技术一种CVD金刚石散射片装置，散射片由CVD金刚石制成，CVD金刚石热导率高，热量可以快速在散射片内传输，通过在散射片内设置水冷镜面通路，通过水冷为主的方法控制散热片温度，并且在水冷上水槽和水冷下水
槽的侧面设置散热铜管，以便于水冷装置内的热量通过散热铜管散发到空气中，增强水冷装置的效果散发到从而提高激光功率阈值。
附图说明
[0013]图1为本专利技术一种CVD金刚石散射片装置的整体结构图；
[0014]图2为本专利技术一种CVD金刚石散射片装置左视图。
[0015]其中，1、金刚石散射片，2、散射片水冷装置，3、水循环驱动装置，4、金刚石散射片外框，5、水冷镜面通道，6、水冷上水槽，7、水冷下水槽，8、散热铜管，9、水冷循环管道，10、水冷驱动电机保护罩，11、水冷驱动电机，12、圆形螺旋桨。
具体实施方式
[0016]下面结合具体实施对本专利技术的技术方案进行进一步详细地说明，本专利技术所述的技术特征或连接关系没有进行详细描述的部分均为采用的现有技术。
[0017]以下结合附图，对本专利技术做进一步详细说明。
[0018]如图1-2所述，本专利技术一种CVD金刚石散射片装置，包括金刚石散射片1、水循环驱动装置3、散射片水冷装置2和金刚石散射片外框4，所述金刚石散射片1设于金刚石散射片外框4内，所述散射片水冷装置2固接设于金刚石散射片外框4外表面，所述水循环驱动装置3设于散射片水冷装置2内，所述金刚石散射片外框4包括水冷上水槽6、水冷下水槽7、水冷循环管道9和散热铜管8，所述水冷下水槽7和水冷上水槽6设于金刚石散射片外框4两相对端的外表面上，所述水冷循环管道9一端接于水冷下水槽7侧面，所述水冷循环管道9另一端接于水冷上水槽6侧面，所述散热铜管8均匀设于所述水冷下水槽7与水冷上水槽6的侧面，所述金刚石散射片1由CVD金刚石单晶制成。
[0019]所述水循环驱动装置3包括水冷驱动电机11、水冷驱动电机保护罩10和圆形螺旋桨12，所述水冷驱动电机保护罩10设于水冷下水槽7内侧壁上，所述水冷驱动电机11设于水冷驱动电机保护罩10内，所述圆形螺旋桨12设于水冷驱动电机11的转动轴上。
[0020]所述金刚石片散射片外框4为中空圆柱体结构设置。
[0021]所述水冷上水槽6和水冷下水槽7为中空结构。
[0022]所述水冷循环管道9为中空弧形圆柱体结构。
[0023]所述金刚石散射片1内设有水冷镜面通道5。
[0024]所述金刚石散射片1上底面和下底面经过机械粗磨表面粗糙度为100um。
[0025]具体使用时，激光与垂直入射金刚石散射片1时，能量部分被表面散射，部分透射，透射部分在另一表面二次散射，由于CVD金刚石热导率高，热量可以快速在金刚石散射片1内传输，启动水冷驱动电机11，水冷驱动电机11带动圆形螺旋桨12转动，进而带动水冷液体流动，液体通过水冷镜面通路5，降低金刚石散射片1温度，自身通过设置在水冷上槽体6和水冷下槽体7侧面的散热铜管8，将热量传递到空气中，保持自身温度稳定，进而起到温度控制的作用，从而提高激光功率阈值。
[0026]以上对本专利技术及其实施方式进行了描述，这种描述没有限制性，附图中所示的也只是本专利技术的实施方式之一，实际的结构并不局限于此。总而言之如果本领域的普通技术人员受其启示，在不脱离本专利技术创造宗旨的情况下，不经创造性的设计出与该技术方案相
似的结构方式及实施例，均应属于本专利技术的保护范围。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种CVD金刚石散热片装置，其特征在于：包括金刚石散射片、水循环驱动装置、散射片水冷装置和金刚石散射片外框，所述金刚石散射片设于金刚石散射片外框内，所述散射片水冷装置固接设于金刚石散射片外框外表面，所述水循环驱动装置设于散射片水冷装置内，所述金刚石散射片外框包括水冷上水槽、水冷下水槽、水冷循环管道和散热铜管，所述水冷下水槽和水冷上水槽设于金刚石散射片外框两相对端的外表面上，所述水冷循环管道一端接于水冷下水槽侧面，所述水冷循环管道另一端接于水冷上水槽侧面，所述散热铜管均匀设于水冷下水槽与水冷上水槽的侧面，所述金刚石散射片由CVD金刚石单晶制成。2.根据权利要求1所述的一种CVD金刚石散热片装置，其特征在于：所述水循环驱动装置包括水冷驱动电机、水冷驱动电机保护罩和圆形螺旋桨，...

【专利技术属性】
技术研发人员：蒋荣方，刘宏明，王骏，赵芬霞，
申请(专利权)人：湖州中芯半导体科技有限公司，
类型：发明
国别省市：