一种铝阳极氧化槽槽液温度平衡调节系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种铝阳极氧化槽槽液温度平衡调节系统，包括设置于阳极氧化槽顶部槽口两对称侧外的总管，每个总管分别通过减压阀与对应的气源连通，每个总管分别旁路连通有多个支管，每个支管分别连通安装有气体流量计，每侧的各个支管分别向上翻过阳极氧化槽顶部槽口对应侧后，然后在阳极氧化槽对应侧内壁与对应侧极板之间缝隙中竖直向下延伸至阳极氧化槽内底部，再水平延伸至从阳极氧化槽对应侧内壁与对应侧极板之间缝隙下方穿出，阳极氧化槽内底部对应每侧的多个支管穿出端位置分别设有气体扩散管，每侧的各个支管穿出端分别旁路连通至气体扩散管。本实用新型专利技术实现了大容量阳极氧化槽内槽液温度均匀分布的目标，具有温度分布均匀的优点。温度分布均匀的优点。温度分布均匀的优点。

【技术实现步骤摘要】
一种铝阳极氧化槽槽液温度平衡调节系统


[0001]本技术涉及LCD加工用电极氧化槽领域，具体是一种铝阳极氧化槽槽液温度平衡调节系统。

技术介绍

[0002]10.5G是目前LCD行业最大尺寸的生产线，相对于8.5/7/6G等，等离子刻蚀工艺所用的上部电极耗材尺寸也是最大的。上部电极应用于TET
‑
LCD等离子刻蚀设备内，大多数为铝制品，表面需进行阳极氧化处理，优质的阳极氧化皮膜赋予上部电极良好的耐电压、阻抗及耐腐蚀性能。
[0003]铝表面阳极氧化处理是在阳极氧化槽中进行，阳极氧化槽槽液温度是阳极氧化一个重要工艺参数，当槽液温度从10℃上升到20℃，则阳极氧化膜的溶解速度增加约3倍，这意味着当槽液温度分布不均匀时阳极氧化皮膜厚度的均匀性也很难满足，因此必须对槽液温度进行控制，维持在适宜温度范围，需要保持在
±
1℃范围内。随着电极尺寸的增大，意味着阳极氧化槽体积也大大增加，对于阳极氧化槽槽液温度控制提出新的挑战。
[0004]当阳极氧化槽槽液温度不均匀时，生成的阳极氧化膜膜厚均匀性也很差，影响上部电极性能，因为膜厚均匀性差的上部电极，表面皮膜厚度较低区域在Dry Etch过程中容易发生Etch过度，引起Paticle、Arcing等不良，直接表现在于基板生产过程中Etch不良甚至报废，上部电极寿命不足下机。因此要想得到膜厚均匀的阳极氧化膜，槽液温度均匀性必须加以控制。
[0005]目前行业的困难点主要是阳极氧化槽两侧的温度总是比中心区域高，导致在客户SPEC范围内，中心区域的皮膜均处于SPEC下限，而四周处于SPEC上限。中心区域皮膜厚度低水平，直接反应在Etch过程中，上部电极中心区域Arcing和Paticle的高发性。导致这一问题的原因主要是因为现阶段维持阳极氧化槽槽液温度稳定通常采用单管空气搅拌的方式，即在阳极氧化槽底部引入单根气体管道，在阳极氧化槽底部分为两支管道，在支管上开距离相等的孔来通入气体至槽内，通过气体来对槽液进行搅拌，从而达到温度均衡的目的。但实际生产中会出现阳极氧化槽中段搅拌明显，两端搅拌不明显，阳极氧化槽两端的槽液温度明显高于中间的情况。产生这种情况的原因如下：
[0006]1.气体流量，因阳极氧化产品是悬挂在导电杆上浸入阳极氧化槽液中，这就要求空气搅拌气体流量不能太大，否则产品会产生摇摆，但在10.5G阳极氧化槽中较小的气体流量会出现槽中段和槽两端气体流量相差较大，导致空气搅拌效果不明显。
[0007]2.空气搅拌不能分段控制，现有的单管式空气搅拌系统不能对特定区域的温度进行调节。

技术实现思路

[0008]本技术的目的是提供一种铝阳极氧化槽槽液温度平衡调节系统，以解决现有技术用于LCD生产的阳极氧化槽由于采用单管空气搅拌导致的两侧的温度比中心区域高的
问题。
[0009]为了达到上述目的，本技术所采用的技术方案为：
[0010]一种铝阳极氧化槽槽液温度平衡调节系统，其特征在于：包括分别设置于阳极氧化槽顶部槽口两对称侧外的总管，总管分别水平平行于阳极氧化槽对应侧，每个总管分别独立配置有气源，每个总管分别通过减压阀与对应的气源连通，每个总管分别旁路连通有多个支管，每个支管靠近与总管旁通处分别连通安装有气体流量计，每侧的各个支管分别向上翻过阳极氧化槽顶部槽口对应侧后，然后在阳极氧化槽对应侧内壁与对应侧极板之间缝隙中竖直向下延伸至阳极氧化槽内底部，再水平延伸至从阳极氧化槽对应侧内壁与对应侧极板之间缝隙下方穿出，阳极氧化槽内底部对应每侧的多个支管穿出端位置分别设有气体扩散管，气体扩散管轴向平行于总管轴向，每侧的各个支管穿出端分别旁路连通至气体扩散管，每个气体扩散管的管壁分别设有多个通向阳极氧化槽内的打气孔。
[0011]所述的一种铝阳极氧化槽槽液温度平衡调节系统，其特征在于：两侧总管所在位置与阳极氧化槽顶部槽口竖直间距相同。
[0012]所述的一种铝阳极氧化槽槽液温度平衡调节系统，其特征在于：两侧总管连通的支管数量相同，且两侧总管连通的支管位置一一对应。
[0013]所述的一种铝阳极氧化槽槽液温度平衡调节系统，其特征在于：两侧的支管从阳极氧化槽对应侧内壁与对应侧极板之间缝隙下方水平穿出的距离相同。
[0014]所述的一种铝阳极氧化槽槽液温度平衡调节系统，其特征在于：每个气体扩散管的打气孔分别分布于气体扩散管的上半圆。
[0015]所述的一种铝阳极氧化槽槽液温度平衡调节系统，其特征在于：每个气体扩散管的打气孔分为平行于轴向的两列，每列包含数量相同的多个打气孔，两列以气体扩散管轴向为中心线相互对称，且两列的多个打气孔位置一一交错。
[0016]本技术将原有的单管一体式供气搅拌改为两侧分段式供气搅拌，考虑到单管一体式供气搅拌会导致阳极氧化槽中段与两端空气搅拌作用有很大差距，本技术采用分段式供气方案，通过装有减压阀的总管(压力0.5～1kg)供气，在总管引出多个支管，每个支管上分别配有气体流量计，可以根据实际情况调节气体流量，将每侧的多个支管等距地引入阳极氧化槽下部，并连接上对应侧的气体扩散管，每个总管分别配置气源，并通过气体扩散管上打气孔的分布结构设计，在通入气体时能够实现槽液整体明显搅拌，并且使温度均匀分布。
[0017]本技术以相对较低的成本，实现了大容量阳极氧化槽内槽液温度均匀分布的目标，使阳极氧化槽内槽液温度可以控制在
±
1℃范围内，具有温度分布均匀的优点。
附图说明
[0018]图1是本技术原理俯视图。
[0019]图2是本技术管路部分结构侧视图。
[0020]图3是本技术管路部分结构俯视图。
[0021]图4是本技术气体扩散管结构示意图。
具体实施方式
[0022]下面结合附图和实施例对本技术进一步说明。
[0023]如图1、图2、图3所示，一种铝阳极氧化槽槽液温度平衡调节系统，包括分别设置于阳极氧化槽1顶部槽口左、右侧外的总管2，总管2分别水平平行于阳极氧化槽1对应侧，即每个总管2的轴向分别沿前后水平方向并平行于阳极氧化槽1对应侧。两侧总管2所在位置与阳极氧化槽1顶部槽口平面竖直间距相同。
[0024]每个总管2分别独立配置有气源3，每个总管2分别通过减压阀4与对应的气源3连通，每个总管2分别旁路连通有三个支管5，每个支管5靠近与总管2旁通处分别连通安装有气体流量计6，左、右侧总管2连通的支管5位置一一对应，从而形成左、右两侧对称分布的气体搅拌系统。
[0025]阳极氧化槽1内部对应左、右侧壁分别平行设置有极板7，极板7与阳极氧化槽1对应侧壁之间有缝隙，左侧的三个支管5分别向上翻过阳极氧化槽1顶部槽口左侧壁后，然后在阳极氧化槽1左侧内壁与左侧极板7之间缝隙中竖直向下延伸至阳极氧化槽1内底部；同样的右侧的三个支管分别向上翻过阳极氧化槽1顶部槽口右侧壁后，然后在阳极氧化槽1右侧内壁与右侧极板之间缝隙中竖直向下延伸至本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种铝阳极氧化槽槽液温度平衡调节系统，其特征在于：包括分别设置于阳极氧化槽顶部槽口两对称侧外的总管，总管分别水平平行于阳极氧化槽对应侧，每个总管分别独立配置有气源，每个总管分别通过减压阀与对应的气源连通，每个总管分别旁路连通有多个支管，每个支管靠近与总管旁通处分别连通安装有气体流量计，每侧的各个支管分别向上翻过阳极氧化槽顶部槽口对应侧后，然后在阳极氧化槽对应侧内壁与对应侧极板之间缝隙中竖直向下延伸至阳极氧化槽内底部，再水平延伸至从阳极氧化槽对应侧内壁与对应侧极板之间缝隙下方穿出，阳极氧化槽内底部对应每侧的多个支管穿出端位置分别设有气体扩散管，气体扩散管轴向平行于总管轴向，每侧的各个支管穿出端分别旁路连通至气体扩散管，每个气体扩散管的管壁分别设有多个通向阳极氧化槽内的打气孔。2.根据权利要求1所述的一种铝阳极氧化槽...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘晓刚，万俊，许杰，
申请(专利权)人：合肥微睿光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：