本发明专利技术实施例公开了一种降噪装置和降噪系统，所述降噪系统包括降噪装置和麦克风阵列，所述降噪装置包括吸声主体结构，所述吸声主体结构包括至少一个第一吸声结构和至少一个第二吸声结构，其中，所述第一吸声结构包括至少一个方形单胞，所述方形单胞包括依次连接的前面板、中间层和背板，所述第二吸声结构包括由固定支架固定的膜结构，由此，本实施例可以通过同时降低室外噪声和室内噪声，提高了降噪效果和鲁棒性。噪效果和鲁棒性。噪效果和鲁棒性。
【技术实现步骤摘要】
一种降噪装置和降噪系统
[0001]本专利技术涉及语音处理
，更具体地，涉及一种降噪装置和降噪系统。
技术介绍
[0002]噪声在人们生活中无处不在，会严重妨碍人们正常休息、学习和生活。另外，噪声也会对汽车、高铁、喷气式飞机等交通工具的零部件产生破坏。因此，减少噪声对人类和环境的影响尤为重要。
技术实现思路
[0003]有鉴于此，本专利技术实施例提供了一种降噪装置和降噪系统，以提高降噪效果和降噪系统的鲁棒性。
[0004]第一方面，本专利技术实施例提供一种降噪装置，所述降噪装置包括吸声主体结构，所述吸声主体结构包括至少一个第一吸声结构和至少一个第二吸声结构；
[0005]其中，所述第一吸声结构包括至少一个方形单胞，所述方形单胞包括依次连接的前面板、中间层和背板，所述第二吸声结构包括由固定支架固定的膜结构。
[0006]可选的，所述第一吸声结构和所述第二吸声结构并行排列。
[0007]可选的，所述第一吸声结构和第二吸声结构并行排列在同一平面上。
[0008]可选的，所述第一吸声结构和第二吸声结构位于不同的平面上，且所述第一吸声结构与所述第二吸声结构的垂直投影不重叠。
[0009]可选的，所述第一吸声结构和所述第二吸声结构沿远离被覆盖面的方向依次排列。
[0010]可选的，所述第二吸声结构还包括位于所述模结构上的质量块，所述质量块被配置为调节所述第二吸声结构的吸声频率和吸声系数。
[0011]可选的，所述质量块位于所述膜结构的中心位置。
[0012]可选的，所述中间层上设置有第二通孔和至少一个以所述第二通孔为起点的螺线管，所述背板上设置有第三通孔，所述第三通孔的位置与所述螺线管的终点位置相对应。
[0013]可选的，所述吸声主体结构还包括声波探测单元，所述声波探测单元被配置为检测噪声信息。
[0014]可选的，所述方形单胞还包括结构控制器，所述结构控制器被配置为调整所述第一吸声结构的吸声频段。
[0015]可选的，所述结构控制器包括调节管和驱动装置，所述调节管的数量与所述第三通孔的数量相同，所述驱动装置被配置为根据预设频段和所述噪声信息控制所述对应的调节管进入螺线管的长度，以调节吸声频段。
[0016]可选的，至少一个所述螺线管的分布方式为共面盘绕分布或螺旋非共面分布。
[0017]可选的，所述降噪装置还包括位于所述吸声主体结构外侧的保护层。
[0018]可选的，所述保护层为网格结构。
[0019]可选的，所述第二吸声结构的膜为橡胶膜。
[0020]第二方面，本专利技术实施例提供了一种降噪系统，所述系统包括：
[0021]如本专利技术实施例第一方面所述的降噪装置；以及
[0022]麦克风阵列，位于所述降噪装置内部，所述麦克风阵列被配置为采集声音信号，并对所述声音信号进行降噪处理。
[0023]本专利技术实施例的降噪系统包括降噪装置和麦克风阵列，所述降噪装置包括吸声主体结构，所述吸声主体结构包括至少一个第一吸声结构和至少一个第二吸声结构，其中，所述第一吸声结构包括至少一个方形单胞，所述方形单胞包括依次连接的前面板、中间层和背板，所述第二吸声结构包括由固定支架固定的膜结构，由此，本实施例可以通过同时降低室外噪声和室内噪声，提高了降噪效果和鲁棒性。
附图说明
[0024]通过以下参照附图对本专利技术实施例的描述，本专利技术的上述以及其它目的、特征和优点将更为清楚，在附图中：
[0025]图1是本专利技术实施例的降噪系统的示意图；
[0026]图2是本专利技术实施例的一种吸声主体结构的示意图；
[0027]图3是本专利技术实施例的另一种吸声主体结构的示意图；
[0028]图4是本专利技术实施例的又一种吸声主体结构的示意图；
[0029]图5是本专利技术实施例的第一吸声结构的方形单胞的示意图；
[0030]图6是本专利技术实施例的一种中间层的示意图；
[0031]图7是本专利技术实施例的第二吸声结构的示意图；
[0032]图8是本专利技术实施例的降噪方法的流程图。
具体实施方式
[0033]以下基于实施例对本专利技术进行描述，但是本专利技术并不仅仅限于这些实施例。在下文对本专利技术的细节描述中，详尽描述了一些特定的细节部分。对本领域技术人员来说没有这些细节部分的描述也可以完全理解本专利技术。为了避免混淆本专利技术的实质，公知的方法、过程、流程、元件和电路并没有详细叙述。
[0034]此外，本领域普通技术人员应当理解，在此提供的附图都是为了说明的目的，并且附图不一定是按比例绘制的。
[0035]除非上下文明确要求，否则在说明书的“包括”、“包含”等类似词语应当解释为包含的含义而不是排他或穷举的含义；也就是说，是“包括但不限于”的含义。
[0036]在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。此外，在本专利技术的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。
[0037]本实施例以降低房间的噪声为例进行说明，应理解，本实施例的降噪系统及降噪装置还可以应用于其他需要降噪的场景，例如将降噪装置应用于零部件生产中，本实施例并不对此进行限制。
[0038]图1是本专利技术实施例的降噪系统的示意图。如图1所示，在房间1部署本实施例的降
噪系统。其中，降噪系统包括降噪装置和麦克风阵列12，麦克风阵列12位于降噪装置的内部。降噪装置包括吸声主体结构11。
[0039]在本实施例中，吸声主体结构11覆盖房间1的墙壁，以吸收房间外部的噪声。麦克风阵列12对采集到的声音信号进行降噪处理，以提高声音的清晰度。可选的，在本实施例的麦克风阵列12可以为双麦克风阵列或者多麦克风阵列，通过对采集到的声音信号进行混响消除、语音增强及定向拾音等处理。其中，混响消除技术能够很好地对房间内的混响情况进行自适应估计，从而进行纯净声音信号的还原，进而提高语音听感和识别效果。语音增强技术是指从含有噪声的声音信号中提取出纯净声音信号的过程。定向拾音技术是指使用麦克风阵列来计算目标声源的角度和距离，从而实现对目标声源的跟踪及声音拾取。应理解，本实施例并不对麦克风阵列中的麦克风数量和排列方式进行限制，其他类型的麦克风阵列均可应用于本实施例中。
[0040]在本实施例中，吸声主体结构11包括至少一个第一吸声结构和至少一个第二吸声结构。可选的，对至少一个第一吸声结构和至少一个第二吸声结构进行封装形成吸声主体结构11。在一种可选的实现方式中，第一吸声结构和第二吸声结构并行排列。可选的，第一吸声结构和第二吸声结构并行排列在同一平面上，或者第一吸声结构和第二吸声结构位于不同的平面上，且第一吸声结构与第二吸声结构的垂直投影不重叠。在另一种可选的实现方式中，第一吸声结构和第二吸声结构沿远离被覆盖面的方向依次排列。应理解，本实施例并不对第一吸声结构和第二吸声结构的具体排布方式进行限制，其可以根据具体应用场景进行设置。本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种降噪装置，其特征在于，所述降噪装置包括吸声主体结构，所述吸声主体结构包括至少一个第一吸声结构和至少一个第二吸声结构；其中，所述第一吸声结构包括至少一个方形单胞，所述方形单胞包括依次连接的前面板、中间层和背板，所述第二吸声结构包括由固定支架固定的膜结构。2.根据权利要求1所述的降噪装置，其特征在于，所述第一吸声结构和所述第二吸声结构并行排列。3.根据权利要求2所述的降噪装置，其特征在于，所述第一吸声结构和第二吸声结构并行排列在同一平面上。4.根据权利要求2所述的降噪装置，其特征在于，所述第一吸声结构和第二吸声结构位于不同的平面上，且所述第一吸声结构与所述第二吸声结构的垂直投影不重叠。5.根据权利要求1所述的降噪装置，其特征在于，所述第一吸声结构和所述第二吸声结构沿远离被覆盖面的方向依次排列。6.根据权利要求1所述的降噪装置，其特征在于，所述第二吸声结构还包括位于所述模结构上的质量块，所述质量块被配置为调节所述第二吸声结构的吸声频率和吸声系数。7.根据权利要求6所述的降噪装置，其特征在于，所述质量块位于所述膜结构的中心位置。8.根据权利要求1所述的降噪装置，其特征在于，所述中间层上设置有第二通孔和至少一个以所述第二通孔为起点的螺线管，所述背板上设置有第三通孔，所述第三通孔的位置与所述螺线管的终点位置相对应。9.根据权利...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈昌儒，
申请(专利权)人：北京大米科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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