【技术实现步骤摘要】
一种单晶硅炉用加热器SiC
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ZrC
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B4C
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ZrB2
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BN复合涂层及制备方法
[0001]本专利技术属于非金属晶体制造设备领域,尤其涉及一种单晶硅炉用加热器SiC
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ZrC
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B4C
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ZrB2
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BN复合涂层及制备方法。
技术介绍
[0002]直拉法是制造单晶硅的一种重要方法,具有工艺简单、生产高效、易于控制等优点。目前,直拉法制造单晶硅的加热器所用材质多采用石墨材料。在制造单晶硅的过程中,单晶炉内为富硅气氛,使得加热部件受到侵蚀,使得加热器使用寿命大大缩短,一步增加了生产成本。
[0003]申请公布号为CN 103570377 A的专利技术专利公开的“一种石墨发热体加热炉内碳素材料表面制备SiC涂层的方法”介绍了一种用碳毡和SiO2粉末在石墨发热体表面制备SiC涂层的方法,该方法过程相对简单,易操作,重复性好。
[0004]申请公布号为CN 209497618 U的技术专利公开的“带涂层的石墨发热体”介绍了一种用浆料法在石墨加热体表面制备碳化硼涂层的方法,改善了石墨发热体的抗氧化性,延长其使用寿命。
[0005]文献“王凯凯,李争显,汪欣,李伟,相远帆.石墨和C/C复合材料表面ZrB2‑
SiC陶瓷涂层的研究进展[J].表面技术,2020,49(01):103
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112.”介绍了利用不同方法在石墨和C/C复合材料表 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种单晶硅炉用加热器SiC
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ZrC
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B4C
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ZrB2‑
BN复合涂层,其特征在于:所述SiC
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ZrC
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B4C
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ZrB2‑
BN复合涂层覆于单晶硅炉用加热器的加热部件的表面。2.根据权利要求1所述的单晶硅炉用加热器SiC
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ZrC
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B4C
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ZrB2‑
BN复合涂层,其特征在于:所述SiC
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ZrC
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B4C
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ZrB2‑
BN复合涂层的厚度为10~1000μm。3.一种单晶硅炉用加热器SiC
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ZrC
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B4C
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ZrB2‑
BN复合涂层的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:(1)将Si粉、Zr粉、B4C粉、ZrB2粉、氮化硼粉、石墨粉和ZrO2粉放入球磨机中研磨,得到混合粉体;(2)将单晶硅炉用加热器的加热部件置于石墨盒中,将步骤(1)得到的混合粉末覆盖加热部件;(3)将步骤(2)的石墨盒置于真空炉中进行包埋渗处理,得到覆在加热部件表面的SiC
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ZrC
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B4C
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ZrB2‑
BN复合涂层。4.根据权利要求3所述的单晶硅炉用加热器SiC
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ZrC
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B4C
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ZrB2‑
BN复合涂层的制备方法,其特征在于:所述步骤(1)中,按照质量百分比,各原料的含量为:40~80%的Si粉,5~15%的Zr粉,0~...
【专利技术属性】
技术研发人员:单彩霞,陈正,樊宇,陈强,张平,时晓,顾申翔宇,徐杰,吴亚娟,郑加镇,
申请(专利权)人:中国矿业大学,
类型:发明
国别省市:
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