本发明专利技术提供一种自动曝光控制方法及系统，包括：待拍摄物体进入拍摄区域，对待拍摄物体进行图形采集并获取待拍摄部位的位置信息；基于待拍摄物体与平板探测器的相对位置，确定平板探测器的曝光辐照射野；选定平板探测器的曝光辐照射野，对待拍摄部位进行曝光，完成曝光后平板探测器触发图像采集。本发明专利技术通过视觉装置采集信息，计算分析得到辐照射野选择范围，降低了操作人员的主观影响，曝光辐照射野选择更加精准；基于曝光辐照射野区域的曝光剂量检测实现自动曝光控制，结构简单、成本低；通过算法预测曝光剂量，可有效避免曝光剂量误差，实现精准曝光控制，提高成像质量；在检测到曝光结束后立即自动采集图像，缩短了采图周期。缩短了采图周期。缩短了采图周期。
【技术实现步骤摘要】
自动曝光控制方法及系统
[0001]本专利技术涉及平板探测领域，特别是涉及一种自动曝光控制方法及系统。
技术介绍
[0002]平板探测器是上个世纪开始诞生的X射线影像新型检测技术，以成像速度快、分辨率高等特点著称，广泛应用于医疗检测、无损检测、安检、反恐等领域。在工业检测应用中，传统胶片记录曝光辐照图像，价格昂贵，不易保存，数字平板探测器应用于工业检测已成为未来的发展方向。
[0003]在进行曝光前首先需要设置曝光辐照射野，传统的自动曝光控制的曝光辐照射野的数量和位置都是固定的，需要通过调整待检测物体的位置实现待检测部位与曝光辐照射野的匹配，实际操作中非常不方便。近年来，基于平板探测器面板扫描的集成化智能自动曝光控制技术逐渐成熟，通过全面板检测选择曝光辐照射野，但是全面板检测时曝光辐照射野的可选择性范围大，若仅凭借操作者主观选择，对操作者的要求较高，且存在选择不准确的风险。
[0004]因此，如何准确设置曝光辐照射野，简化曝光操作难度，已成为本领域技术人员亟待解决的问题之一。
技术实现思路
[0005]鉴于以上所述现有技术的缺点，本专利技术的目的在于提供一种自动曝光控制方法及系统，用于解决现有技术中曝光辐照射野难以控制的问题。
[0006]为实现上述目的及其他相关目的，本专利技术提供一种自动曝光控制方法，所述自动曝光控制方法至少包括：
[0007]1)待拍摄物体进入拍摄区域，对所述待拍摄物体进行图形采集并获取待拍摄部位的位置信息；
[0008]2)基于所述待拍摄物体与平板探测器的相对位置，确定所述平板探测器的曝光辐照射野；
[0009]3)选定所述平板探测器的曝光辐照射野，对所述待拍摄部位进行曝光，完成曝光后所述平板探测器触发图像采集。
[0010]可选地，步骤1)中基于红外线、可见光或紫外线对所述待拍摄物体的图像进行采集。
[0011]更可选地，所述自动曝光控制方法还包括：基于所述待拍摄物体的图像获取所述待拍摄部位的形状信息，并测量所述待拍摄部位的厚度信息，根据所述待拍摄部位的形状信息及厚度信息确定曝光剂量阈值。
[0012]更可选地，基于超声波测量或激光测量获取所述待拍摄部位的厚度信息。
[0013]可选地，步骤3)中曝光开始后，所述平板探测器检测曝光剂量率并对曝光剂量进行实时判断，若实时曝光剂量达到曝光剂量阈值则触发所述闸断控制信号。
[0014]可选地，步骤3)中曝光开始后，所述平板探测器检测曝光剂量率并对曝光结束时的曝光剂量进行预测判断，得到预测曝光剂量，若预测曝光剂量达到曝光剂量阈值则触发所述闸断控制信号。
[0015]更可选地，基于曝光剂量率及信号传输链路延迟时长预测曝光结束时的曝光剂量，所述曝光剂量率及所述信号传输链路延迟时长与曝光结束时的曝光剂量成正相关关系。
[0016]更可选地，所述自动曝光控制方法还包括：当包括至少两个曝光辐照射野时，基于各曝光辐照射野之间的逻辑关系确定所述平板探测器是否发出闸断控制信号。
[0017]更可选地，各曝光辐照射野之间的逻辑关系包括逻辑与、逻辑或及加权平均中的至少一种。
[0018]可选地，基于曝光传感器检测曝光起始时刻；或扫描所述平板探测器的曝光剂量，若曝光剂量大于预设起始值则判定为曝光开始，其中，所述预设起始值不小于零。
[0019]可选地，基于曝光传感器检测曝光结束时刻；或扫描所述平板探测器的曝光剂量，若检测到曝光剂量率的增加量小于预设阈值则判定曝光结束，其中，所述预设阈值大于零。
[0020]为实现上述目的及其他相关目的，本专利技术提供一种自动曝光控制系统，实现上述自动曝光控制方法，所述自动曝光控制系统至少包括：
[0021]视觉装置、计算装置、平板探测器、高压控制器、高压发生装置及球管；
[0022]所述视觉装置对待拍摄物体进行图像采集；
[0023]所述计算装置连接所述视觉装置的输出端，基于所述待拍摄物体的图像获取所述待拍摄部位的位置信息，并基于所述待拍摄物体与平板探测器的相对位置，确定所述平板探测器的曝光辐照射野；
[0024]所述平板探测器连接所述计算装置，基于所述计算装置确定的曝光辐照射野对所述待拍摄部位进行自动曝光控制；
[0025]所述高压控制器连接于所述平板探测器的输出端，用于控制所述高压发生装置产生高压信号；
[0026]所述球管连接所述高压发生装置，基于所述高压发生装置发出的高压信号产生X射线。
[0027]可选地，所述平板探测器还包括测量装置；所述计算装置连接所述视觉装置及所述测量装置的输出端，从所述视觉装置获取所述待拍摄部位的形状信息，从所述测量装置获取所述待拍摄部位的厚度信息，并基于所述待拍摄部位的形状信息及厚度信息确定曝光剂量阈值。
[0028]可选地，所述平板探测器包括探测面板及自动曝光控制模块；所述探测面板对X射线进行检测并转换为电信号；所述自动曝光控制模块连接所述探测面板的输出端，基于所述探测面板的输出信号触发闸断控制信号。
[0029]更可选地，所述平板探测器还包括连接于所述探测面板输出端的自动曝光检测模块或设置于所述探测面板背面的曝光传感器。
[0030]更可选地，所述自动曝光控制模块包括检测单元及逻辑比较单元，所述检测单元基于曝光剂量率判断实时曝光剂量；所述逻辑比较单元连接所述检测单元的输出端，当所述实时曝光剂量达到曝光剂量阈值时，触发所述闸断控制信号。
[0031]更可选地，所述自动曝光控制模块包括检测单元及逻辑比较单元，所述检测单元基于曝光剂量率及信号传输链路延迟时长预测曝光结束时的曝光剂量，得到预测曝光剂量；所述逻辑比较单元连接所述检测单元的输出端，当所述预测曝光剂量达到曝光剂量阈值时，触发所述闸断控制信号。
[0032]更可选地，当包括至少两个曝光辐照射野时，所述检测单元分别对各曝光辐照射野进行检测；所述逻辑比较单元对所述检测单元的输出信号进行逻辑运算和比较运算，并触发所述闸断控制信号。
[0033]如上所述，本专利技术的自动曝光控制方法及系统，具有以下有益效果：
[0034]1、本专利技术的自动曝光控制方法及系统通过视觉装置采集信息，计算分析得到辐照射野选择范围，降低了对操作人员的主观影响，曝光辐照射野选择更加精准。
[0035]2、本专利技术的自动曝光控制方法及系统基于平板探测器的曝光辐照射野区域的曝光剂量检测实现自动曝光控制，结构简单、成本低。
[0036]3、本专利技术的自动曝光控制方法及系统通过算法对曝光过程中的曝光剂量进行预测，可有效避免线路延迟等问题造成的曝光剂量误差，实现精准曝光控制，提高成像质量。
[0037]4、本专利技术的自动曝光控制方法及系统在检测到曝光结束后立即自动采集图像，缩短了平板探测器的采图周期。
附图说明
[0038]图1显示为本专利技术的自动曝光控制方法的流程示意图。
[0039]图2显示为本专利技术的自动曝光控制系统的一种结构示意图。
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种自动曝光控制方法，其特征在于，所述自动曝光控制方法至少包括：1)待拍摄物体进入拍摄区域，对所述待拍摄物体进行图形采集并获取待拍摄部位的位置信息；2)基于所述待拍摄物体与平板探测器的相对位置，确定所述平板探测器的曝光辐照射野；3)选定所述平板探测器的曝光辐照射野，对所述待拍摄部位进行曝光，完成曝光后所述平板探测器触发图像采集。2.根据权利要求1所述的自动曝光控制方法，其特征在于：步骤1)中基于红外线、可见光或紫外线对所述待拍摄物体的图像进行采集。3.根据权利要求1或2所述的自动曝光控制方法，其特征在于：所述自动曝光控制方法还包括：基于所述待拍摄物体的图像获取所述待拍摄部位的形状信息，并测量所述待拍摄部位的厚度信息，根据所述待拍摄部位的形状信息及厚度信息确定曝光剂量阈值。4.根据权利要求3所述的自动曝光控制方法，其特征在于：基于超声波测量或激光测量获取所述待拍摄部位的厚度信息。5.根据权利要求1所述的自动曝光控制方法，其特征在于：步骤3)中曝光开始后，所述平板探测器检测曝光剂量率并对曝光剂量进行实时判断，若实时曝光剂量达到曝光剂量阈值则触发所述闸断控制信号。6.根据权利要求1所述的自动曝光控制方法，其特征在于：步骤3)中曝光开始后，所述平板探测器检测曝光剂量率并对曝光结束时的曝光剂量进行预测判断，得到预测曝光剂量，若预测曝光剂量达到曝光剂量阈值则触发所述闸断控制信号。7.根据权利要求6所述的自动曝光控制方法，其特征在于：基于曝光剂量率及信号传输链路延迟时长预测曝光结束时的曝光剂量，所述曝光剂量率及所述信号传输链路延迟时长与曝光结束时的曝光剂量成相关关系。8.根据权利要求5
‑
7任意一项所述的自动曝光控制方法，其特征在于：所述自动曝光控制方法还包括：当包括至少两个曝光辐照射野时，基于各曝光辐照射野之间的逻辑关系确定所述平板探测器是否发出闸断控制信号。9.根据权利要求8所述的自动曝光控制方法，其特征在于：各曝光辐照射野之间的逻辑关系包括逻辑与、逻辑或及加权平均中的至少一种。10.根据权利要求1所述的自动曝光控制方法，其特征在于：基于曝光传感器检测曝光起始时刻；或扫描所述平板探测器的曝光剂量，若曝光剂量大于预设起始值则判定为曝光开始，其中，所述预设起始值不小于零。11.根据权利要求1所述的自动曝光控制方法，其特征在于：基于曝光传感器检测曝光结束时刻；或扫描所述平板探测器的曝光剂量，若检测到曝光剂量率的增加量小于预设阈值则判定曝光结束，其中，所述预设阈值大于零。12.一种自动曝光...
【专利技术属性】
技术研发人员：黄翌敏，何承林，
申请(专利权)人：上海奕瑞光电子科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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