一种提高钼管靶材密度机构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种提高钼管靶材密度机构，包括真空气密箱，所述真空气密箱下表面固定安装有进水孔，所述真空气密箱位于进水孔前方固定安装有废气排放口，所述真空气密箱位于废气排放口前方固定安装有出料管，所述真空气密箱位于出料管前方固定安装有出水孔，所述出料管下端固定安装有防堵阀，所述真空气密箱上表面固定安装有送料管，所述送料管上端螺旋连接有密封盖，所述真空气密箱位于送料管前方固定安装有激光枪。本实用新型专利技术所述的一种提高钼管靶材密度机构，能够保证反应的迅速进行，且能够进一步熔化钼，双重的熔化除杂反应之后，钼金属的纯度会进一步被提升，从而达到了更高密度的钼靶材。更高密度的钼靶材。更高密度的钼靶材。

【技术实现步骤摘要】
一种提高钼管靶材密度机构


[0001]本技术涉及钼管靶材密度机构领域，特别涉及一种提高钼管靶材密度机构。

技术介绍

[0002]钼管靶材密度机构为一种能够提高钼管靶材中钼的密度的装置，由真空气密箱、激光枪和化料台等组成，放置于宽阔干燥的场地内，具备较好的提纯效果，钼靶材特性主要有高熔点、高电导率、较低的比阻抗、较好的耐腐蚀性以及良好的环保性能，钼靶材中钼的纯度高达99.9％，由于其优异的机械和化学性能，让钼靶材在制造业中得到了广泛的应用，钼靶材广泛用于导电玻璃、STN/TN/TFT
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LCD、光学玻璃、离子镀膜等行业，适用所有平面镀膜及旋转镀膜系统，广泛应用于各个领域；然而现有的钼管靶材密度机构在使用时存在一定的弊端，由于其高纯度得不到较好的提炼，往往导致靶材质量容易出现问题，以及钼金属的熔化处理不够全面，并且熔化钼的环境不能达到在干燥的情况下进行。

技术实现思路

[0003]本技术的主要目的在于提供一种提高钼管靶材密度机构，可以有效解决
技术介绍
中的问题。
[0004]为实现上述目的，本技术采取的技术方案为：
[0005]一种提高钼管靶材密度机构，包括真空气密箱，所述真空气密箱下表面固定安装有进水孔，所述真空气密箱位于进水孔前方固定安装有废气排放口，所述真空气密箱位于废气排放口前方固定安装有出料管，所述真空气密箱位于出料管前方固定安装有出水孔，所述出料管下端固定安装有防堵阀，所述真空气密箱上表面固定安装有送料管，所述送料管上端螺旋连接有密封盖，所述真空气密箱位于送料管前方固定安装有激光枪，所述真空气密箱位于激光枪前方固定安装有抽气孔，所述真空气密箱位于送料管后方固定安装有充气孔，所述真空气密箱内部固定安装有化料台，所述化料台上端开设有弧形化料口，所述化料台位于弧形化料口下方固定安装有小孔下放板，所述小孔下放板下方固定安装有强电磁台，所述强电磁台上端开设有液态金属存放皿，所述强电磁台中部固定安装有环形定位台，所述强电磁台外侧位于化料台内部开设有输气孔。
[0006]优选的，所述真空气密箱下表面位于边缘处固定安装有支撑腿，所述密封盖下端固定安装有环形支撑柱。
[0007]优选的，所述出水孔下端固定安装有一号水管，所述进水孔下端固定安装有二号水管，所述激光枪上端固定连接有穿线管。
[0008]优选的，所述强电磁台位于液态金属存放皿下方和出料管固定连接，所述输气孔下端和废气排放口固定连接。
[0009]优选的，所述化料台下端和真空气密箱固定连接，所述密封盖通过环形支撑柱和真空气密箱固定连接。
[0010]优选的，所述出水孔和进水孔通过降温水管固定连接，所述支撑腿数量共有三个，
所述激光枪和所述穿线管数量均为四个。
[0011]与现有技术相比，本技术具有如下有益效果：
[0012]本技术中，通过设置的激光枪，激光枪可以通过通过所发出的激光对钼粉进行能量转换，激光枪数量共有四个，同时照到钼粉上，钼粉被瞬间熔化，保证了反应的迅速进行，从而使得钼粉中的其他杂质可以被有效的气化，通过设置的进水孔和出水孔，进水孔和出水孔配合缠绕在化料台下半部分上的水管，能够将装置的热能转化，热水则从出水孔流出，可以保证从出料管流出的液态钼更快速的成型冷却，且可有效防止装置因过热而发生意外，通过设置的强电磁台，强电磁台可以有效防止温度已经降低的熔融钼凝固，且能够进一步熔化钼，双重的熔化除杂反应之后，钼金属的纯度会进一步被提升，从而达到了更高密度的钼靶材。
附图说明
[0013]图1为本技术一种提高钼管靶材密度机构的主视图；
[0014]图2为本技术一种提高钼管靶材密度机构的剖面结构图；
[0015]图3为本技术一种提高钼管靶材密度机构的顶面结构图；
[0016]图4为本技术一种提高钼管靶材密度机构的底面结构图。
[0017]图中：1、真空气密箱；101、支撑腿；102、环形支撑柱；2、出料管；3、出水孔；301、一号水管；4、进水孔；401、二号水管；5、废气排放口；6、送料管；7、激光枪；701、穿线管；8、抽气孔；9、充气孔；10、密封盖；11、化料台；12、弧形化料口；13、小孔下放板；14、输气孔；15、液态金属存放皿；16、环形定位台；17、强电磁台；18、防堵阀。
具体实施方式
[0018]为使本技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本技术。
[0019]在本技术的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“内”、“外”“前端”、“后端”、“两端”、“一端”、“另一端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0020]在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“设置有”、“连接”等，应做广义理解，例如“连接”，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0021]如图1
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4所示，一种提高钼管靶材密度机构，包括真空气密箱1，真空气密箱1下表面固定安装有进水孔4，真空气密箱1位于进水孔4前方固定安装有废气排放口5，真空气密箱1位于废气排放口5前方固定安装有出料管2，真空气密箱1位于出料管2前方固定安装有出水孔3，出料管2下端固定安装有防堵阀18，真空气密箱1上表面固定安装有送料管6，送料管6上端螺旋连接有密封盖10，真空气密箱1位于送料管6前方固定安装有激光枪7，真空气
密箱1位于激光枪7前方固定安装有抽气孔8，真空气密箱1位于送料管6后方固定安装有充气孔9，真空气密箱1内部固定安装有化料台11，化料台11上端开设有弧形化料口12，化料台11位于弧形化料口12下方固定安装有小孔下放板13，小孔下放板13下方固定安装有强电磁台17，强电磁台17上端开设有液态金属存放皿15，强电磁台17中部固定安装有环形定位台16，强电磁台17外侧位于化料台11内部开设有输气孔14，真空气密箱1达到真空状态，待抽气完成之后，封闭抽气孔8，再通过充气孔9进行充氩气，如此可以保证真空气密箱1内部干燥，对钼金属起到了一个烘干作用，强电磁台17可以在液态金属温度降低时仍保持液态，对下一步液态金属入模具起到了很大的帮助，强电磁台17的电磁感应原理可以进一步熔化金属并提纯金属材料，双重的熔化除杂反应之后，钼金属的纯度会进一步被提升，从而达到了更高密度的钼靶材；
[0022]真空气密箱1下表面位于边缘处固定安装本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种提高钼管靶材密度机构，其特征在于：包括真空气密箱(1)，所述真空气密箱(1)下表面固定安装有进水孔(4)，所述真空气密箱(1)位于进水孔(4)前方固定安装有废气排放口(5)，所述真空气密箱(1)位于废气排放口(5)前方固定安装有出料管(2)，所述真空气密箱(1)位于出料管(2)前方固定安装有出水孔(3)，所述出料管(2)下端固定安装有防堵阀(18)，所述真空气密箱(1)上表面固定安装有送料管(6)，所述送料管(6)上端螺旋连接有密封盖(10)，所述真空气密箱(1)位于送料管(6)前方固定安装有激光枪(7)，所述真空气密箱(1)位于激光枪(7)前方固定安装有抽气孔(8)，所述真空气密箱(1)位于送料管(6)后方固定安装有充气孔(9)，所述真空气密箱(1)内部固定安装有化料台(11)，所述化料台(11)上端开设有弧形化料口(12)，所述化料台(11)位于弧形化料口(12)下方固定安装有小孔下放板(13)，所述小孔下放板(13)下方固定安装有强电磁台(17)，所述强电磁台(17)上端开设有液态金属存放皿(15)，所述强电磁台(17)中部固定安装有环形定位台(16)，所述强电磁台(17)外侧位于...

【专利技术属性】
技术研发人员：张学智，温艳玲，龙训初，
申请(专利权)人：河北冠靶科技有限公司，
类型：新型
国别省市：