一种全新离子源产生颗粒的隔离系统技术方案

本实用新型专利技术涉及一种全新离子源产生颗粒的隔离系统，包括腔室，在所述腔室中设有基片，所述腔室通过管道与离子源连接，所述离子源中的离子发生器发射的离子束作用所述基片，在所述管道上设有阻挡装置，所述阻挡装置能够开启或关闭所述通道。本实用新型专利技术通过阻挡装置可以当连接在腔室上的离子发生器进行洗靶时，将飞溅的靶面大颗粒物质阻挡在腔室之外以防止污染被镀基片，达到更加高的镀膜质量。达到更加高的镀膜质量。达到更加高的镀膜质量。

【技术实现步骤摘要】
一种全新离子源产生颗粒的隔离系统


[0001]本技术涉及一种隔离系统，尤其是一种全新离子源产生颗粒的隔离系统。

技术介绍

[0002]离子发生器发射的离子束作用在基片上，对基片进行镀膜的工艺。
[0003]具体来说：依靠动量交换作用使固体材料的原子、分子进入气相状态，溅射出的平均能量10eV，高于真空蒸发粒子的100倍左右，使其沉积在基体表面上。作用是镀膜。
[0004]在镀膜的过程中往往一个离子发生器是不够的，需要多个方向离子发生器共同作用，这样镀膜才会均匀。通常为多个离子源间隔工作，但是这样就会出现以下技术缺陷：离子发生器进行洗靶时，飞溅的靶面大颗粒物质容易污染被镀基片；此外，一台离子发生器工作镀膜时，容易镀到其他离子发生器上，造成其他离子发生器的损坏。

技术实现思路

[0005]本技术设计了一种全新离子源产生颗粒的隔离系统，其解决的技术问题是离子发生器进行洗靶时，飞溅的靶面大颗粒物质容易污染被镀基片；此外，一台离子发生器工作镀膜时，容易镀到其他离子发生器上，造成其他离子发生器造成的损坏。
[0006]为了解决上述存在的技术问题，本技术采用了以下方案：
[0007]一种全新离子源产生颗粒的隔离系统，包括腔室，在所述腔室中设有基片，所述腔室通过管道与离子源连接，所述离子源中的离子发生器发射的离子束作用所述基片，在所述管道上设有阻挡装置，所述阻挡装置能够开启或关闭所述通道。
[0008]优选地，所述离子源为多个，每个所述离子源通过一根所述管道与所述腔室连通，每根所述管道上都设有一所述阻挡装置。
[0009]优选地，所述阻挡装置包括挡板、旋转轴以及电机，所述电机位于所述管道外部，所述旋转轴穿过所述管道，所述旋转轴一端与所述电机连接，所述旋转轴另一端与所述挡片连接，所述挡片位于所述管道内并且形状与所述管道的截面相同，所述电机驱使所述旋转轴旋转从而实现所述挡片关闭或开启所述通道。
[0010]优选地，所述阻挡装置包括气缸和挡片，所述气缸位于所述管道外部，所述气缸的气缸杆与所述挡片连接，所述气缸作用所述挡片直线移动从而实现所述挡片关闭或开启所述通道。
[0011]优选地，每个所述离子源中设有一离子发生器，所述离子源通过法兰与所述管道连通。
[0012]优选地，所述电机或气缸通过有线或无线连接的方式实现远程自动化控制。
[0013]该全新离子源产生颗粒的隔离系统具有以下有益效果：
[0014]（1）本技术通过阻挡装置可以当连接在腔室上的离子发生器进行洗靶时，将飞溅的靶面大颗粒物质阻挡在腔室之外以防止污染被镀基片，达到更加高的镀膜质量。
[0015]（2）本技术通过阻挡装置同时也可以防止连接在腔室上的另外的离子发生器
进行镀膜时镀到本离子发生器上，以免对本发生器造成损坏。
附图说明
[0016]图1：本技术全新离子源产生颗粒的隔离系统的整体示意图；
[0017]图2：图1中离子束工作示意图；
[0018]图3：本技术阻挡装置的挡片完全开启示意图；
[0019]图4：本技术阻挡装置的挡片半开启示意图；
[0020]图5：本技术阻挡装置的挡片闭合示意图；
[0021]图6：本技术阻挡装置的结构示意图；
[0022]附图标记说明：
[0023]11—腔室；12—基片；21—第一离子发生器；22—第一离子源；23—第一法兰；24—第一管道；31—第二离子发生器；32—第二离子源；33—第二法兰；34—第二通道；4—阻挡装置；41—挡片；42—旋转轴；43—电机。
具体实施方式
[0024]下面结合图1至图6，对本技术做进一步说明：
[0025]一种全新离子源产生颗粒的隔离系统，包括腔室11，在腔室11中设有基片12，腔室11通过管道与离子源连接，离子源中的离子发生器发射的离子束作用基片12，在管道上设有阻挡装置4，阻挡装置4能够开启或关闭通道。
[0026]离子源为多个，每个离子源通过一根管道与腔室11连通，每根管道上都设有一阻挡装置4。
[0027]阻挡装置4第一种结构可以为包括挡板41、旋转轴42以及电机43，电机43位于管道外部，旋转轴42穿过管道，旋转轴42一端与电机43连接，旋转轴42另一端与挡片41连接，挡片41位于管道内并且形状与管道的截面相同，电机43驱使旋转轴42旋转从而实现挡片41关闭或开启通道。
[0028]如图3所示，挡板41旋转到管道轴向位置，管道完全打开。如图4所示，挡片41旋转过程逐渐关闭通道。如图5所示，挡片41完全挡住了通道。
[0029]阻挡装置4第二种结构可以包括气缸和挡片，气缸位于管道外部，气缸的气缸杆与挡片连接，气缸作用挡片直线移动从而实现挡片41关闭或开启通道。
[0030]每个离子源中设有一离子发生器，离子源通过法兰与管道连通。电机或气缸通过有线或无线连接的方式实现远程自动化控制。
[0031]本技术的工作原理如下：
[0032]当第一离子发生器21和第二离子发生器31没有在工作，离子发生器在洗靶的时候，为了防止大颗粒物质进入腔室影响基片，可用挡片在电机和旋转轴的配合下，首先电机启动，内部旋转，带动旋转轴旋转，旋转轴带动挡片旋转，将管道挡住，阻止大颗粒物质进入腔室，提高腔室内的加工环境。
[0033]当第一离子发生器21和第二离子发生器31工作的时候，可以将挡片开启，使离子束能顺利进入腔室作用于基片。也可为防止第一离子发生器21在工作的时候，第二离子发生器31没有在工作的时候污染靶材，对第二离子发生器31造成损害，可将第二离子发生器
31连接的第二管道34上的挡片关闭。
[0034]本技术的安装顺序是：先将离子源与法兰连接，法兰连接管道，管道上加装阻挡部分，再在管道另一侧装上法兰，法兰与腔室连接。至此安装完成。关于阻挡部分采用自动化控制，工作时，电机会启动，之后带动旋转轴转动，旋转轴带动挡片转动，在旋转至与管道贴合的时候停止，达到隔离管道的作用，全程不需要人为手动操作。实现了电机控制的自动化处理。
[0035]上面结合附图对本技术进行了示例性的描述，显然本技术的实现并不受上述方式的限制，只要采用了本技术的方法构思和技术方案进行的各种改进，或未经改进将本技术的构思和技术方案直接应用于其它场合的，均在本技术的保护范围内。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种全新离子源产生颗粒的隔离系统，包括腔室（11），在所述腔室（11）中设有基片（12），所述腔室（11）通过管道与离子源连接，所述离子源中的离子发生器发射的离子束作用所述基片（12），其特征在于：在所述管道上设有阻挡装置（4），所述阻挡装置（4）能够开启或关闭所述管道。2.根据权利要求1所述的全新离子源产生颗粒的隔离系统，其特征在于：所述离子源为多个，每个所述离子源通过一根所述管道与所述腔室（11）连通，每根所述管道上都设有一所述阻挡装置（4）。3.根据权利要求2所述的全新离子源产生颗粒的隔离系统，其特征在于：所述阻挡装置（4）包括挡片（41）、旋转轴（42）以及电机（43），所述电机（43）位于所述管道外部，所述旋转轴（42）穿过所述管道，所述旋转轴（42）一端与所述电机（43）连接，所述旋转轴（42）另一端与所述挡片（41）连接，所述挡...

【专利技术属性】
技术研发人员：时昌茹，
申请(专利权)人：深圳市绿谷离子镀膜科技有限公司，
类型：新型
国别省市：