本实用新型专利技术涉及金属涂层涂覆技术领域，尤其为一种基于气相沉淀技术的涂层涂覆装置，包括底座，所述底座的顶部焊接有反应箱，所述反应箱内腔背面的两侧均固定安装有加热器，所述底座的内壁焊接有隔板，所述隔板顶部的中心处轴承支撑有转管；本实用新型专利技术通过反应箱、隔板、转管、连接盒、第一真空泵、电机、主动齿、从动齿、喷气管、滑轨、托板、等离子体发生器和输送管的设置，使涂层涂覆装置具备气体分布均匀的优点，同时解决了现有的化学气相沉积成膜过程中，是将工件放置在反应舱内，然后向舱内充入化学气体，整个反应过程为被动式进行，无法保证舱内气体的均匀度，从而导致成膜质量产生偏差的问题。差的问题。差的问题。
【技术实现步骤摘要】
一种基于气相沉淀技术的涂层涂覆装置
[0001]本技术涉及金属涂层涂覆
，具体为一种基于气相沉淀技术的涂层涂覆装置。
技术介绍
[0002]气相沉积技术是利用气相中发生的物理、化学过程，在工件表面形成功能性或装饰性的金属、非金属或化合物涂层，气相沉积技术按照成膜机理，可分为化学气相沉积、物理气相沉积和等离子体气相沉积。
[0003]化学气相沉积技术中，气体在工件表面的均匀度则决定了成膜的质量，现有的化学气相沉积成膜过程中，是将工件放置在反应舱内，然后向舱内充入化学气体，整个反应过程为被动式进行，无法保证舱内气体的均匀度，从而导致成膜质量产生偏差，为此我们提出一种基于气相沉淀技术的涂层涂覆装置。
技术实现思路
[0004]本技术的目的在于提供一种基于气相沉淀技术的涂层涂覆装置，具备气体分布均匀的优点，解决了现有的化学气相沉积成膜过程中，是将工件放置在反应舱内，然后向舱内充入化学气体，整个反应过程为被动式进行，无法保证舱内气体的均匀度，从而导致成膜质量产生偏差的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种基于气相沉淀技术的涂层涂覆装置，包括底座，所述底座的顶部焊接有反应箱，所述反应箱内腔背面的两侧均固定安装有加热器，所述底座的内壁焊接有隔板，所述隔板顶部的中心处轴承支撑有转管，所述转管的表面套设有连接盒，所述隔板顶部的右侧固定安装有第一真空泵，所述第一真空泵的进气端贯穿底座并延伸至外部，所述第一真空泵的出气端与连接盒的右侧连通，所述隔板顶部的左侧固定安装有电机，所述电机的输出轴焊接有主动齿，所述主动齿的右侧啮合有从动齿，所述从动齿的内壁与转管的表面焊接，所述转管的顶端依次贯穿底座和反应箱并延伸至反应箱的内腔，所述转管的四周均连通有喷气管，所述反应箱底部的两侧均固定安装有滑轨，所述滑轨的顶部滑动连接有托板，所述反应箱的顶部固定安装有等离子体发生器，所述等离子体发生器的底部连通有输送管，所述输送管延伸到反应箱的内腔。
[0006]优选的，所述底座内腔的底部固定安装有第二真空泵，所述第二真空泵的出气端贯穿底座并延伸至外部，所述反应箱底部的两侧均连通有抽气管，所述抽气管远离反应箱的一端贯穿底座并延伸至底座的内腔与第二真空泵的进气端连通。
[0007]优选的，所述反应箱的左侧开设有通口，所述反应箱的左侧且位于通口的上方铰接有活动门，所述活动门左侧的底部焊接有套管，所述套管的顶部插入有插销，所述反应箱左侧的底部焊接有插管，所述插销的底端贯穿插管并延伸至外部。
[0008]优选的，所述活动门的右侧固定安装有密封垫，所述密封垫的右侧与通口的内壁贴合。
[0009]优选的，所述转管的表面且位于连接盒的内腔开设有输气孔，所述连接盒内腔的顶部和底部均固定安装有第一密封轴组件，所述第一密封轴组件套设在转管的表面。
[0010]优选的，所述底座内腔的顶部固定安装有第二密封轴组件，所述第二密封轴组件套设在转管的表面。
[0011]与现有技术相比，本技术的有益效果如下：
[0012]1、本技术通过反应箱、隔板、转管、连接盒、第一真空泵、电机、主动齿、从动齿、喷气管、滑轨、托板、等离子体发生器和输送管的设置，使涂层涂覆装置具备气体分布均匀的优点，同时解决了现有的化学气相沉积成膜过程中，是将工件放置在反应舱内，然后向舱内充入化学气体，整个反应过程为被动式进行，无法保证舱内气体的均匀度，从而导致成膜质量产生偏差的问题。
[0013]2、本技术第二真空泵能够将反应后的气体及时从反应箱中抽出，避免对后续进入的气体造成干扰，影响后续的反应，通口的设置，能够方便将托板从反应箱中取出和放置，并且活动门能够对通口进行封堵，防止在反应的过程中气体泄漏，插销能够将活动门进行锁死固定，通过密封垫的设置，能够对活动门和通口处的缝隙进行封堵，以增加活动门的密封性，进一步防止气体泄漏。
[0014]3、本技术通过输气孔的设置，能够保证反应气体进入到转管中，进而从喷气管中均匀喷出，并且第一密封轴组件能够对转管和连接盒之间的缝隙进行封堵，以保证转管在旋转的同时还能够达到密封效果，第二密封轴组件能够将转管和底座之间的缝隙进行封堵，防止气体泄漏的同时，还能够保证转管正常旋转。
附图说明
[0015]图1为本技术结构示意图；
[0016]图2为本技术反应箱俯视剖面图；
[0017]图3为本技术连接盒局部正视剖面图；
[0018]图4为本技术喷气管的仰视图；
[0019]图5为本技术图1中A处的局部放大图。
[0020]图中：1、底座；2、反应箱；3、隔板；4、转管；5、连接盒；6、第一真空泵；7、电机；8、主动齿；9、从动齿；10、喷气管；11、滑轨；12、托板；13、等离子体发生器；14、输送管；15、第二真空泵；16、抽气管；17、活动门；18、套管；19、插销；20、插管；21、密封垫；22、第一密封轴组件；23、第二密封轴组件；24、加热器。
具体实施方式
[0021]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0022]请参阅图1
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5，一种基于气相沉淀技术的涂层涂覆装置，包括底座1，底座1的顶部焊接有反应箱2，反应箱2内腔背面的两侧均固定安装有加热器24，底座1的内壁焊接有隔板3，隔板3顶部的中心处轴承支撑有转管4，转管4的表面套设有连接盒5，隔板3顶部的右侧固
定安装有第一真空泵6，第一真空泵6的进气端贯穿底座1并延伸至外部，第一真空泵6的出气端与连接盒5的右侧连通，隔板3顶部的左侧固定安装有电机7，电机7的输出轴焊接有主动齿8，主动齿8的右侧啮合有从动齿9，从动齿9的内壁与转管4的表面焊接，转管4的顶端依次贯穿底座1和反应箱2并延伸至反应箱2的内腔，转管4的四周均连通有喷气管10，反应箱2底部的两侧均固定安装有滑轨11，滑轨11的顶部滑动连接有托板12，反应箱2的顶部固定安装有等离子体发生器13，等离子体发生器13的底部连通有输送管14，输送管14延伸到反应箱2的内腔，通过反应箱2、隔板3、转管4、连接盒5、第一真空泵6、电机7、主动齿8、从动齿9、喷气管10、滑轨11、托板12、等离子体发生器13和输送管14的设置，使涂层涂覆装置具备气体分布均匀的优点，同时解决了现有的化学气相沉积成膜过程中，是将工件放置在反应舱内，然后向舱内充入化学气体，整个反应过程为被动式进行，无法保证舱内气体的均匀度，从而导致成膜质量产生偏差的问题。
[0023]本实施例中，具体的，底座1内腔的底部固定安装有第二真空泵15，第二真空泵15的出气端贯穿底座1并延伸至外部，反应箱2底部的两侧均连通有抽气管16本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种基于气相沉淀技术的涂层涂覆装置，包括底座(1)，其特征在于：所述底座(1)的顶部焊接有反应箱(2)，所述反应箱(2)内腔背面的两侧均固定安装有加热器(24)，所述底座(1)的内壁焊接有隔板(3)，所述隔板(3)顶部的中心处轴承支撑有转管(4)，所述转管(4)的表面套设有连接盒(5)，所述隔板(3)顶部的右侧固定安装有第一真空泵(6)，所述第一真空泵(6)的进气端贯穿底座(1)并延伸至外部，所述第一真空泵(6)的出气端与连接盒(5)的右侧连通，所述隔板(3)顶部的左侧固定安装有电机(7)，所述电机(7)的输出轴焊接有主动齿(8)，所述主动齿(8)的右侧啮合有从动齿(9)，所述从动齿(9)的内壁与转管(4)的表面焊接，所述转管(4)的顶端依次贯穿底座(1)和反应箱(2)并延伸至反应箱(2)的内腔，所述转管(4)的四周均连通有喷气管(10)，所述反应箱(2)底部的两侧均固定安装有滑轨(11)，所述滑轨(11)的顶部滑动连接有托板(12)，所述反应箱(2)的顶部固定安装有等离子体发生器(13)，所述等离子体发生器(13)的底部连通有输送管(14)，所述输送管(14)延伸到反应箱(2)的内腔。2.根据权利要求1所述的一种基于气相沉淀技术的涂层涂覆装置，其特征在于：所述底座(1)内腔的底部固定安装有第二真空泵(15)，所述第二真空泵(15)的...
【专利技术属性】
技术研发人员：吕琛，
申请(专利权)人：山东合创涂层技术有限公司，
类型：新型
国别省市：
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