一种烹饪设备的氧传感器校准方法技术

技术编号:28052736 阅读:40 留言:0更新日期:2021-04-14 13:16
本发明专利技术公开了一种烹饪设备的氧传感器校准方法,包括:S1:启动烹饪设备,并开始记录烹饪设备使用时间;S2:判断烹饪设备是否已完成氧传感器初始值A的标定,如否则执行氧传感器标定策略并转入下一步,如是则执行氧传感器衰减偏差修正策略;S3:开始预热氧传感器,同时对烹饪腔体进行环境清扫;S4:完成环境清扫以及氧传感器预热;S5:判断烹饪设备使用时间是否大于参考值,如是则转入下一步,如否则继续执行步骤S5;S6:采集并记录氧传感器数据,同时记录采集次数;S7:将烹饪设备使用时间与预设时间或者采集次数与预设次数进行比较,并基于比较结果来确定是否获取并保存氧传感器初始值A。本发明专利技术可修正环境大气压引起的氧传感器偏差。差。差。

【技术实现步骤摘要】
一种烹饪设备的氧传感器校准方法


[0001]本专利技术涉及厨电
,尤其涉及一种烹饪设备的氧传感器校准方法。

技术介绍

[0002]随着蒸烤箱越来越普及,人们从单纯的功能需求到功能更高级的方向发展,对烹饪的质量提出了更高的要求。目前对蒸烤的控湿普通蒸烤箱上开始实施,现有测量湿度传感器有湿敏电容、湿敏电阻,氧传感器等,而氧传感器以其抗恶劣环境,测量精度高而开始用于蒸箱湿度检测,并控制湿度以达到最佳烹饪效果。由于海拔高度不同,空气中的氧含量也不同,如果氧传感器以出厂设置值作为标准值,会影响湿蒸箱湿度检测准确性。
[0003]另外,氧传感器在长时间使用后,检测精度会呈下降趋势,进而影响烹饪腔体湿度检测的准确性以及烹饪效果。

技术实现思路

[0004]本专利技术旨在至少在一定程度上解决现有相关技术中存在的问题之一,为此,本专利技术提出一种烹饪设备的氧传感器校准方法,可修正环境大气压引起的氧浓度偏差,提高氧传感器的检测精度。
[0005]根据上述提供的一种烹饪设备的氧传感器校准方法,其通过如下技术方案来实现:
[0006]一种烹饪设备的氧传感器校准方法,烹饪设备包括烹饪腔体、加热模块、氧传感器和控制模块,其中所述氧传感器校准方法包括如下步骤:
[0007]S1:启动烹饪设备,并开始记录烹饪设备使用时间;
[0008]S2:判断烹饪设备是否已完成氧传感器初始值A的标定,如否则执行氧传感器标定策略并转入下一步,如是则执行氧传感器衰减偏差修正策略;
[0009]S3:开始预热氧传感器,同时对烹饪腔体进行环境清扫;
[0010]S4:完成环境清扫以及氧传感器预热;
[0011]S5:判断烹饪设备使用时间是否大于参考值,如是则转入下一步,如否则继续执行步骤S5;
[0012]S6:采集并记录氧传感器数据,同时记录采集次数;
[0013]S7:将烹饪设备使用时间与预设时间或者采集次数与预设次数进行比较,并基于比较结果来确定是否获取并保存氧传感器初始值A。
[0014]在一些实施方式中,所述判断烹饪设备是否已完成氧传感器初始值A的标定,其通过判断控制模块是否保存有氧传感器初始值A,如是则判断为已完成氧传感器初始值A的标定,如否则判断为未完成氧传感器初始值A的标定。
[0015]在一些实施方式中,所述判断烹饪设备是否已完成氧传感器初始值A的标定,其包括如下步骤:
[0016]S21:根据最后一次保存的氧传感器数据来匹配得到一个大气压值;
[0017]S22:判断大气压值是否达到烹饪设备所在区域的当地气压值,如是则判断为已完成氧传感器初始值A的标定,如否判断为未完成氧传感器初始值A的标定。
[0018]在一些实施方式中,所述对烹饪腔体进行环境清扫,具体包括:
[0019]S301:启动加热模块,以加热烹饪腔体;
[0020]S302:判断烹饪腔体的实时温度是否达到第二设定温度,如是则开始记录第二加热时间并转入下一步,如否则继续执行步骤S302:
[0021]S303:在第二加热时间达到第二设定时间时,结束对烹饪腔体进行环境清扫。
[0022]在一些实施方式中,所述第二设定温度等于烹饪设备所在区域的环境温度,所述第二设定时间大于或等于氧传感器的预热时间。
[0023]在一些实施方式中,所述对烹饪腔体进行环境清扫,具体包括:
[0024]S311:启动加热模块,以加热烹饪腔体;
[0025]S312:在烹饪腔体的实时温度达到第一设定温度时,开始记录第一加热时间;
[0026]S313:判断第一加热时间是否达到第一设定时间,如是转入下一步,如否则继续执行步骤S313;
[0027]S314:调低加热模块的工作参数或者关闭加热模块;
[0028]S315:判断烹饪腔体的实时温度是否达到第二设定温度,如是则开始记录第二加热时间并转入下一步,如否则返回步骤S314:
[0029]S316:在第二加热时间达到第二设定时间时,结束对烹饪腔体进行环境清扫。
[0030]在一些实施方式中,所述第一设定温度大于所述第二设定温度,所述第二设定温度等于烹饪设备所在区域的环境温度;所述第一设定时间与所述第二设定时间之和大于或等于氧传感器的预热时间。
[0031]在一些实施方式中,所述采集并记录氧传感器数据,同时记录采集次数,其包括如下步骤:在烹饪设备使用时间达到预设时间之前,或者在采集次数达到预设次数之前,间隔

t时间采集并记录一次氧传感器数据,同时记录一次采集次数。
[0032]在一些实施方式中,所述将烹饪设备使用时间与预设时间或者采集次数与预设次数进行比较,并基于比较结果来确定是否获取并保存氧传感器初始值A,具体包括:
[0033]S71:判断烹饪设备使用时间是否达到预设时间,或者判断采集次数是否达到预设次数;
[0034]S72:如果烹饪设备使用时间达到预设时间或者采集次数达到预设次数,则将最后一次采集的氧传感器数据保存为氧传感器初始值A,或者将后期采集的全部氧传感器数据的均值保存为氧传感器初始值A;
[0035]S73:如果烹饪设备使用时间未达到预设时间,且采集次数未达到预设次数,则返回步骤S6。
[0036]在一些实施方式中,所述执行氧传感器衰减偏差修正策略,其包括如下步骤:
[0037]S8:重复步骤S3至步骤S6;
[0038]S9:在烹饪设备使用时间达到预设时间或者采集次数达到预设次数时,获取并保存氧传感器校准值B;
[0039]S10:根据氧传感器的出厂设置值X、氧传感器初始值A和氧传感器校准值B,计算得到氧传感器的修正值K。
[0040]与现有技术相比,本专利技术的至少包括以下有益效果:
[0041]本专利技术通过先对烹饪腔体进行环境清扫以及预热氧传感器,并且在烹饪设备使用时间大于参考值之后,再获取并保持氧传感器初始值A,从而消除了环境大气中氧含量不标准、烹饪腔体内残留水蒸气以及氧传感器内部陶瓷体的湿气对氧传感器标定结果的影响,提高氧传感器的校准精度,实现了修正烹饪设备所在区域环境大气压引起的氧传感器偏差,有效保证氧氧传感器初始值A的精度,利于提高烹饪设备的湿度检测准确性。
附图说明
[0042]图1是本专利技术实施例1中氧传感器校准方法的流程图;
[0043]图2是本专利技术实施例1中烹饪设备的连接框图;
[0044]图3是本专利技术实施例1中步骤S2的子流程图;
[0045]图4是本专利技术实施例1中步骤S3的子流程图;
[0046]图5是本专利技术实施例1中步骤S7的子流程图;
[0047]图6是本专利技术实施例2中步骤S3的子流程图;
[0048]图7是本专利技术实施例3中氧传感器校准方法的流程图。
具体实施方式
[0049]以下实施例对本专利技术进行说明,但本专利技术并不受这些实施例所限制。对本专利技术的具体实施方式本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种烹饪设备的氧传感器校准方法,烹饪设备包括烹饪腔体(1)、加热模块(2)、氧传感器(3)和控制模块(4),其特征在于,所述氧传感器校准方法包括如下步骤:S1:启动烹饪设备,并开始记录烹饪设备使用时间;S2:判断烹饪设备是否已完成氧传感器初始值A的标定,如否则执行氧传感器(3)标定策略并转入下一步,如是则执行氧传感器(3)衰减偏差修正策略;S3:开始预热氧传感器(3),同时对烹饪腔体(1)进行环境清扫;S4:完成环境清扫以及氧传感器(3)预热;S5:判断烹饪设备使用时间是否大于参考值,如是则转入下一步,如否则继续执行步骤S5;S6:采集并记录氧传感器(3)数据,同时记录采集次数;S7:将烹饪设备使用时间与预设时间或者采集次数与预设次数进行比较,并基于比较结果来确定是否获取并保存氧传感器初始值A。2.根据权利要求1所述的一种烹饪设备的氧传感器校准方法,其特征在于,所述判断烹饪设备是否已完成氧传感器初始值A的标定,其通过判断控制模块(4)是否保存有氧传感器初始值A,如是则判断为已完成氧传感器初始值A的标定,如否则判断为未完成氧传感器初始值A的标定。3.根据权利要求1所述的一种烹饪设备的氧传感器校准方法,其特征在于,所述判断烹饪设备是否已完成氧传感器初始值A的标定,其包括如下步骤:S21:根据最后一次保存的氧传感器(3)数据来匹配得到一个大气压值;S22:判断大气压值是否达到烹饪设备所在区域的当地气压值,如是则判断为已完成氧传感器初始值A的标定,如否判断为未完成氧传感器初始值A的标定。4.根据权利要求1所述的一种烹饪设备的氧传感器校准方法,其特征在于,所述对烹饪腔体(1)进行环境清扫,具体包括:S301:启动加热模块(2),以加热烹饪腔体(1);S302:判断烹饪腔体(1)的实时温度是否达到第二设定温度,如是则开始记录第二加热时间并转入下一步,如否则继续执行步骤S302:S303:在第二加热时间达到第二设定时间时,结束对烹饪腔体(1)进行环境清扫。5.根据权利要求4所述的一种烹饪设备的氧传感器校准方法,其特征在于,所述第二设定温度等于烹饪设备所在区域的环境温度,所述第二设定时间大于或等于氧传感器(3)的预热时间。6.根据权利要求1所述的一种烹饪设备的氧传感器校准方法,其特征在于,所述对烹饪腔体(1)进行环境清扫,具体包括:S311:启动加热模...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘明雄潘叶江
申请(专利权)人:华帝股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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