本发明专利技术实施例涉及半导体清洗设备技术领域，公开了一种清洗装置以及清洗方法，清洗装置包括：清洗腔室；固定装置，用于承载并固定待清洗物；第一喷嘴，第一喷嘴内部设有多条液体管路以及多条气体管路，液体管路至少包括用于向待清洗物喷射第一清洗液的第一液体管路、用于向待清洗物喷射第二清洗液的第二液体管路；气体管路至少包括第一气体管路以及第二气体管路，第一气体管路及第二气体管路均用于向待清洗物喷射惰性气体，第一气体管路的喷射方向、第一液体管路以及第二液体管路的喷射方向相同，第二气体管路的喷射方向与第一气体管路的喷射方向成预设夹角。本发明专利技术提供的清洗装置以及清洗方法能够有效避免水痕缺陷，提高清洗质量。质量。质量。
【技术实现步骤摘要】
一种清洗装置以及清洗方法
[0001]本专利技术实施例涉及半导体清洗设备
，特别涉及一种清洗装置以及清洗方法。
技术介绍
[0002]随着半导体集成电路制造技术的高速发展，集成电路芯片的图形特征尺寸已进入到深亚微米阶段，导致芯片上超细微电路失效或损坏的关键沾污物(例如颗粒)的特征尺寸也随之大为减小。在集成电路的制造工艺过程中，半导体晶圆通常都会经过诸如薄膜沉积、刻蚀、抛光等多道工艺步骤。而这些工艺步骤就成为沾污物产生的重要场所。为了保持晶圆表面的清洁状态，消除在各个工艺步骤中沉积在晶圆表面的沾污物，必须对经受了每道工艺步骤后的晶圆表面进行清洗处理。因此，清洗工艺成为集成电路制作过程中最普遍的工艺步骤，其目的在于有效地控制各步骤的沾污水平，以实现各工艺步骤的目标。
[0003]现有技术中清洗晶圆的清洗装置的质量有待提高。
技术实现思路
[0004]本专利技术实施方式的目的在于提供一种清洗装置以及清洗方法，其能够有效避免水痕缺陷，提高清洗质量。
[0005]为解决上述技术问题，本专利技术的实施方式提供了一种清洗装置，包括：清洗腔室；固定装置，所述固定装置设置于所述清洗腔室内，用于承载并固定待清洗物；第一喷嘴，所述第一喷嘴设置于所述清洗腔室内，所述第一喷嘴内部设有多条液体管路以及多条气体管路，所述液体管路至少包括用于向待清洗物喷射第一清洗液的第一液体管路、用于向待清洗物喷射第二清洗液的第二液体管路；所述气体管路至少包括第一气体管路以及第二气体管路，所述第一气体管路及所述第二气体管路均用于向待清洗物喷射惰性气体，所述第一气体管路的喷射方向、所述第一液体管路以及所述第二液体管路的喷射方向相同，所述第二气体管路的喷射方向与所述第一气体管路的喷射方向成预设夹角，所述预设夹角大于0度且小于或等于90度。
[0006]另外，所述液体管路还包括用于向待清洗物喷射干燥液的第三液体管路，所述第三液体管路的喷射方向与所述第一液体管路的喷射方向相同。通过向待清洗物表面喷射干燥液，达到快速干燥待清洗物的效果。
[0007]另外，所述清洗装置还包括具有多个通孔的助喷射结构，所述助喷射结构设置于所述第一喷嘴的下方，所述第一气体管路喷出的惰性气体经由所述多个通孔喷向待清洗物。
[0008]另外，所述多个通孔包括第一孔和第二孔，所述第一气体管路喷出的惰性气体经由所述第一孔喷向待清洗物；所述第一液体管路、所述第二液体管路以及所述第三液体管路穿过所述第二孔。
[0009]另外，所述第二气体管路包括围绕所述第一喷嘴的环形开口，所述惰性气体经由
所述环形开口喷出。
[0010]另外，所述第二气体管路包括围绕所述第一喷嘴的具有至少四个开口的喷射孔，所述惰性气体经由所述开口喷出。
[0011]另外，所述清洗腔室包括进风装置及排风装置，所述进风装置用于向所述清洗腔室内喷气，所述排风装置用于将所述清洗腔室内的气流排出。通过设置进风装置及排风装置，能够在待清洗物进入清洗腔室之前对清洗腔室进行清洁，从而维持清洗腔室的洁净。
[0012]另外，所述进风装置包括进风管道以及与所述进风管道连通的喷气结构，所述喷气结构用于将所述进风管道中的气体喷向所述清洗腔室。
[0013]另外，还包括用于控制气体流通的第一控制阀和第二控制阀，所述进风管道包括第一进风管道以及第二进风管道，所述第一控制阀设置在所述第一进风管道与所述喷气结构之间；所述第二控制阀设置在所述第二进风管道与所述喷气结构之间。
[0014]另外，所述喷气结构包括多个与所述清洗腔室连通的通孔。通过此种结构的设置，能够确保喷气结构喷出的气体能够覆盖清洗腔室的各个位置，进而提高了清洗装置的清洁效果。
[0015]另外，还包括第一机械臂，所述第一机械臂与所述第一喷嘴连接，用于将所述第一喷嘴移动至所述固定装置的上方。通过此种结构的设置，使得清洗装置更加自动化，从而减小了制程时间。
[0016]另外，还包括第二喷嘴，所述第二喷嘴设置于所述清洗腔室内，所述第二喷嘴内部设有第四液体管路和第五液体管路，所述第四液体管路用于向待清洗物喷射第三清洗液，所述第五液体管路用于向待清洗物喷射第四清洗液。
[0017]另外，还包括第二机械臂，所述第二机械臂与所述第二喷嘴连接，用于将所述第二喷嘴移动至所述固定装置的上方。
[0018]相应的，本专利技术实施例还提供一种清洗方法，包括：提供待清洗物；提供清洗腔室；控制所述待清洗物进入所述清洗腔室，并向所述待清洗物喷射第一清洗液以及惰性气体，所述惰性气体的喷射方向包括与所述第一清洗液的喷射方向相同的第一方向、以及与所述第一清洗液的喷射方向成预设角度的第二方向，所述预设夹角大于0度且小于或等于90度；向所述待清洗物喷射第二清洗液以及所述惰性气体，所述第二清洗液的喷射方向与所述第一清洗液的喷射方向相同。
[0019]与现有技术相比，本专利技术实施例提供的技术方案具有以下优点：
[0020]通过设置固定装置，使得待清洗物在清洗腔室内清洗时能够固定在固定装置上；通过设置第一喷嘴，第一喷嘴内部设有多条液体管路，液体管路至少包括用于向待清洗物喷射第一清洗液的第一液体管路、用于向待清洗物喷射第二清洗液的第二液体管路，由于待清洗物的清洗过程需要用到多类清洗液，此种结构的设置能够通过一个喷嘴实现不同清洗液的喷射，从而无需在清洗待清洗物时更换不同的喷嘴，使得清洗待清洗物的工艺流程更加简单；第一喷嘴内部还设有用于向待清洗物喷射惰性气体的第一气体管路和第二气体管路，第一气体管路、第一液体管路以及第二液体管路的喷射方向相同，在待清洗物的清洗过程中，在清洗液未完全覆盖住待清洗物时，被暴露在清洗液外的待清物表面容易与氧反应而生成沉淀物，当待清洗物表面的水挥发后，这些沉淀即形成水痕缺陷，从而对待清物物的清洗质量造成影响，通过设置第一气体管路，由于第一气体管路的喷射方向与第一液体
管路以及第二液体管路的喷射方向相同，使得第一液体管路或第二液体管路喷射清洗液时，第一气体管路喷射的惰性气体能够使得待清洗物上方氧气含量变低，从而避免水痕缺陷，提高清洗质量；此外，第二气体管路的喷射方向与第一气体管路的喷射方向成预设夹角，预设夹角大于0度且小于或等于90度，也就是说，第二气体管路向待清洗物表面喷射侧向惰性气体流，从而避免清洗腔室内的悬浮颗粒掉落在待清洗物表面，以及快速带走清洗液蒸发的氟离子和水分子，进一步提高了清洗质量。
附图说明
[0021]一个或多个实施例通过与之对应的附图中的图片进行示例性说明，这些示例性说明并不构成对实施例的限定，附图中具有相同参考数字标号的元件表示为类似的元件，除非有特别申明，附图中的图不构成比例限制。
[0022]图1是根据本专利技术第一实施方式提供的清洗装置的结构示意图；
[0023]图2是根据本专利技术第一实施方式提供的清洗装置的另一种结构示意图；
[0024]图3是根据本专利技术第二实施方式提供的清洗方法的流程图；
[0025]图4是根据本专利技术第二实施方式提供的清洗本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种清洗装置，其特征在于，包括：清洗腔室；固定装置，所述固定装置设置于所述清洗腔室内，用于承载并固定待清洗物；第一喷嘴，所述第一喷嘴设置于所述清洗腔室内，所述第一喷嘴内部设有多条液体管路以及多条气体管路，所述液体管路至少包括用于向待清洗物喷射第一清洗液的第一液体管路、用于向待清洗物喷射第二清洗液的第二液体管路；所述气体管路至少包括第一气体管路以及第二气体管路，所述第一气体管路及所述第二气体管路均用于向待清洗物喷射惰性气体，所述第一气体管路、所述第一液体管路以及所述第二液体管路的喷射方向相同，所述第二气体管路的喷射方向与所述第一气体管路的喷射方向成预设夹角，所述预设夹角大于0度且小于或等于90度。2.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述液体管路还包括用于向待清洗物喷射干燥液的第三液体管路，所述第三液体管路的喷射方向与所述第一液体管路的喷射方向相同。3.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗装置还包括具有多个通孔的助喷射结构，所述助喷射结构设置于所述第一喷嘴的下方，所述第一气体管路喷出的惰性气体经由所述多个通孔喷向待清洗物。4.根据权利要求3所述的清洗装置，其特征在于，所述多个通孔包括第一孔和第二孔，所述第一气体管路喷出的惰性气体经由所述第一孔喷向待清洗物；所述第一液体管路、所述第二液体管路以及所述第三液体管路穿过所述第二孔。5.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述第二气体管路包括围绕所述第一喷嘴的环形开口，所述惰性气体经由所述环形开口喷出。6.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述第二气体管路包括围绕所述第一喷嘴的具有至少四个开口的喷射孔，所述惰性气体经由所述开口喷出。7.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗腔室包括进风装置及排风装置，所述进风装置用于向所述清洗腔室内喷气，所述排风装置用于将所述清洗腔室内的气流排出。8.根据权利要求7所述的清洗装置，其特征在于，所述进风装置包括进风管道以及与所述进风管道连通的喷气结构，所述喷气结构用于将所述进风管...
【专利技术属性】
技术研发人员：ꢀ七四专利代理机构，
申请(专利权)人：长鑫存储技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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