一种阵列基板线缺陷的红外检出及修复装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种阵列基板线缺陷的红外检出及修复装置，包括支架；水平承载台，设置在支架上；第一定位机构，包括两个第一定位轴和一个与第一定位轴垂直设置的第二定位轴，其中，两个第一定位轴沿X向分别固定设置于水平承载台的两端；第二定位轴沿Y向设置在第一定位轴上且可沿第一定位轴的轴向移动；镜箱，设置在第二定位轴上且可沿第二定位轴的轴向移动；镜箱内集成有红外成像探测系统以及镭射修补系统。本实用新型专利技术可对阵列基板上各种类型的缺陷进行检测、精准定位以及修补，并在修补缺陷后，可直接确认缺陷是否修复成功。

【技术实现步骤摘要】
一种阵列基板线缺陷的红外检出及修复装置
本技术属于液晶制造
，具体涉及一种阵列基板线缺陷的红外检出及修复装置。
技术介绍
液晶显示器(LCD)是一种借助于薄膜晶体管(TFT)驱动的有源矩阵液晶显示器，它主要是以电流刺激液晶分子产生点、线、面配合背部灯管构成画面，由于其具有机身薄、省电和辐射低等优点已在显示领域占据了主导地位，被广泛应用。LCD制造过程主要可以分为三大阶段：前段的Array(阵列)制程，中段的Cell以及后段的模组制程。其中，前段的Array制程也即进行阵列基板的生产，其主要是在玻璃基板上反复成膜(一般5-10层成膜工序)，然后经过光刻工艺以在玻璃基板上制造出设计的电路图案。由于制程中存在各种缺陷，例如残留(Remain)、灰尘(Particle，PT)、膜层脱落(Peeling)等，因此需在阵列基板出货前进行检查及缺陷修复，以确保产品品质。目前，行业内主要采用光检设备或电检设备对阵列基板进行检查，然后采用修复设备(如镭射修补系统)进行修复。其中，光检设备主要是采用光学灰阶比对方式，通过缺陷位置与正常位置灰阶值不同来定位缺陷；电检设备主要是采用阻抗测试的方式，通过缺陷位置与正常位置的阻抗(漏电流)不同来定位缺陷。然而，以上两种设备对一些特殊的线缺陷(例如膜下PT、光学不可见缺陷)均无法准确定位。此外，由于现有的检测设备和修复设备各自独立，无法同时完成阵列基板缺陷的检测、修补以及复测；且现有的修复设备仅采用光学灰阶比对方式，通过缺陷位置与正常位置灰阶值不同找出缺陷，无法应用于多种类型的缺陷，这对产品品质的提升造成了一定限制。
技术实现思路
为了解决现有技术中存在的上述问题，本技术提供了一种阵列基板线缺陷的红外检出及修复装置。本技术要解决的技术问题通过以下技术方案实现：一种阵列基板线缺陷的红外检出及修复装置，包括：支架；水平承载台，设置在所述支架上；第一定位机构，包括两个第一定位轴和一个与所述第一定位轴垂直设置的第二定位轴，其中，两个所述第一定位轴沿X向分别固定设置于所述水平承载台的两端；所述第二定位轴沿Y向设置在所述第一定位轴上且可沿所述第一定位轴的轴向移动；镜箱，设置在所述第二定位轴上且可沿所述第二定位轴的轴向移动；所述镜箱内集成有红外成像探测系统以及镭射修补系统，所述红外成像探测系统和所述镭射修补系统可通过所述镜箱和所述第二定位轴的移动对承载于所述水平承载台上的阵列基板实现任意位置的检测和修复。在本技术的一个实施例中，所述水平承载台上设有若干玻璃棒，所述玻璃棒内设有均匀分布的气路和真空吸附机构，以实现对阵列基板的固定。在本技术的一个实施例中，所述镭射修补系统包括激光发射器、激光调节器、激光转向器以及CCD镜头。在本技术的一个实施例中，还包括第二定位机构和电测探针系统，其中，所述第二定位机构包括两个第三定位轴和一个与所述第三定位轴垂直设置的第四定位轴，所述电测探针系统设置在所述第四定位轴上且可沿所述第四定位轴的轴向移动。在本技术的一个实施例中，所述第二定位机构的高度小于所述第一定位机构的高度。在本技术的一个实施例中，所述电测探针系统包括探针框架以及位于所述探针框架上且均匀排列的若干探针。在本技术的一个实施例中，所述探针的材料为W、ReW或者Cu。在本技术的一个实施例中，两个所述第三定位轴沿X向分别固定设置于所述水平承载台的两端，且位于所述第一定位轴内侧；所述第四定位轴沿Y向设置在所述第三定位轴上且可沿所述第三定位轴的轴向移动；所述第三定位轴的高度小于所述第一定位轴的高度，所述第四定位轴距所述水平承载台的高度小于所述第二定位轴距所述水平承载台的高度。在本技术的一个实施例中，所述第四定位轴距所述水平承载台的高度满足所述探针能够接触承载于所述水平承载台上的阵列基板。在本技术的一个实施例中，还包括电控系统，所述电控系统电连接所述第二定位轴、所述第四定位轴、所述镜箱以及所述电测探针系统。本技术的有益效果：1、本技术通过红外成像探测系统可对阵列基板上一些光学检测无法定位的不可见线缺陷以及电性电测无法准确定位的缺陷进行检出和精准定位；2、本技术提供的阵列基板线缺陷的红外检出及修复装置将红外热成像探测技术与镭射修补技术相结合，使镭射修补设备具有“缺陷位置热影像”定位功能，以对各种类型缺陷进行修补，并在修补缺陷后，可直接确认缺陷是否修复成功。以下将结合附图及实施例对本技术做进一步详细说明。附图说明图1a是本技术实施例提供的膜上光学可定位缺陷的示意图；图1b是本技术实施例提供的膜下光学不可定位缺陷的示意图；图2是本技术实施例提供的一种阵列基板线缺陷的红外检出及修复装置的结构示意图；图3是本技术实施例提供的电测探针系统结构示意图。图4是本技术实施例提供的阵列基板线缺陷的红外检出及修复装置的工作流程图；图5是本技术实施例提供的一种灰尘线缺陷示意图。附图标记说明：1-支架，2-水平承载台，21玻璃棒，3-第一定位机构，31-第一定位轴，32-第二定位轴，4-镜箱，5-第二定位机构，51-第三定位轴，52-第四定位轴，6-电测探针系统，61-探针框架，62-探针。具体实施方式下面结合具体实施例对本技术做进一步详细的描述，但本技术的实施方式不限于此。实施例一阵列基板(arraysubstrate)的缺陷检测和修补是Array制程的重要环节，其可以在产品出货前及时发现缺陷产品并进行修复，确保了后续生产液晶面板的质量。对于不同类型的缺陷，通常有不同的检测方式以及对应的检测设备。传统的Array基板线缺陷找出设备的原理分为两种：一种是采用光学灰阶比对方式，通过缺陷位置与正常位置灰阶值不同找出缺陷。这类设备只能定位出如图1a所示的膜上光学可定位线缺陷，对于如图1b所示的摸下光学不可定位线缺陷则无法精确定位。另一种是采用阻抗(漏电流)测试的方式，通过缺陷位置与正常位置的阻抗(漏电流)不同来定位缺陷，但这类设备针对short类线缺陷无法进行准确定位。此外，传统的镭射修补系统，只采用光学灰阶比对方式，通过缺陷位置与正常位置灰阶值不同找出缺陷进行修补，无法应用于多种类型的缺陷。基于此，本技术提出了一种将红外热成像探测技术与镭射修补技术相结合的设备，以实现对阵列基板上各种类型线缺陷的精确检测定位、修补及复测。请参见图2，图2是本技术实施例提供的一种阵列基板线缺陷的红外检出及修复装置的结构示意图，其包括：支架1；水平承载台2，设置在支架1上；第一定位机构3，包括两个第一定位轴31和一个与第一定位轴31垂直设置的第二定位轴32，其中，两个第一定位轴31沿X向分别固定设置于水平承载台2的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阵列基板线缺陷的红外检出及修复装置，其特征在于，包括：/n支架(1)；/n水平承载台(2)，设置在所述支架(1)上；/n第一定位机构(3)，包括两个第一定位轴(31)和一个与所述第一定位轴(31)垂直设置的第二定位轴(32)，其中，/n两个所述第一定位轴(31)沿X向分别固定设置于所述水平承载台(2)的两端；所述第二定位轴(32)沿Y向设置在所述第一定位轴(31)上且可沿所述第一定位轴(31)的轴向移动；/n镜箱(4)，设置在所述第二定位轴(32)上且可沿所述第二定位轴(32)的轴向移动；所述镜箱(4)内集成有红外成像探测系统以及镭射修补系统，所述红外成像探测系统和所述镭射修补系统可通过所述镜箱(4)和所述第二定位轴(32)的移动对承载于所述水平承载台(2)上的阵列基板实现任意位置的检测和修复。/n

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板线缺陷的红外检出及修复装置，其特征在于，包括：
支架(1)；
水平承载台(2)，设置在所述支架(1)上；
第一定位机构(3)，包括两个第一定位轴(31)和一个与所述第一定位轴(31)垂直设置的第二定位轴(32)，其中，
两个所述第一定位轴(31)沿X向分别固定设置于所述水平承载台(2)的两端；所述第二定位轴(32)沿Y向设置在所述第一定位轴(31)上且可沿所述第一定位轴(31)的轴向移动；
镜箱(4)，设置在所述第二定位轴(32)上且可沿所述第二定位轴(32)的轴向移动；所述镜箱(4)内集成有红外成像探测系统以及镭射修补系统，所述红外成像探测系统和所述镭射修补系统可通过所述镜箱(4)和所述第二定位轴(32)的移动对承载于所述水平承载台(2)上的阵列基板实现任意位置的检测和修复。


2.根据权利要求1所述的阵列基板线缺陷的红外检出及修复装置，其特征在于，所述水平承载台(2)上设有若干玻璃棒(21)，所述玻璃棒(21)内设有均匀分布的气路和真空吸附机构，以实现对阵列基板的固定。


3.根据权利要求1所述的阵列基板线缺陷的红外检出及修复装置，其特征在于，所述镭射修补系统包括激光发射器、激光调节器、激光转向器以及CCD镜头。


4.根据权利要求1所述的阵列基板线缺陷的红外检出及修复装置，其特征在于，还包括第二定位机构(5)和电测探针系统(6)，其中，
所述第二定位机构(5)包括两个第三定位轴(51)和一个与所述第三定位轴(51)垂直设置的第四定位轴(52)，所述电测探针系统(6)设置在所述第四定位轴(52)上且可沿所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员：单晓伟，张园园，
申请(专利权)人：咸阳彩虹光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：陕西;61