筛孔偏差核查装置和核查方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及试验筛的技术领域，公开了筛孔偏差核查装置和核查方法，其中筛孔偏差核查装置包括：立柱，竖直安装于底座上；可调节支架，包括上支架和下支架，所述上支架和所述下支架均活动安装于所述立柱，均能够相对所述立柱进行前后、左右、上下调节，所述试验筛安装于所述下支架；尺寸偏差标准板，包括位于所述下支架下方的底板，所述底板上绘有回字形图案；光源，安装于所述上支架。本发明专利技术中的筛孔偏差核查装置和核查方法，能够确保被核查的金属穿孔板试验筛上的任意一个孔都能够垂直对准光源，投影至由筛孔正负偏差绘制的回字形图案，能够快速比对判断出筛孔尺寸偏差的符合性，避免放大后读取数的繁琐操作。

【技术实现步骤摘要】
筛孔偏差核查装置和核查方法
本专利技术涉及试验筛的
，尤其涉及筛孔偏差核查装置和核查方法。
技术介绍
金属穿孔板试验筛主要应用于物质颗粒的粒度分级、粒度检测等，广泛应用在食品、医药、化工、磨料、颜料、矿山、冶金、地质、陶瓷、国防等行业的科研单位、实验室、检验室中，进行生产控制的检验及分析。试验筛需经指定的机构检验、鉴定、认为符合约定的试验筛，才能保证其测试结果的准确性。目前现行的方法均是采用50-200倍的大型光学放大镜或显微镜装置进行测量。在试验筛校准时，将试验筛放在万能工具显微镜的玻璃工作台面上,任取一个试样部位,用万能工具显微镜纵向直接测量，主利用氦氖激光束通过待测网筛所产生的夫朗和费衍射测定网丝筛孔尺寸,并对误差进行分析。具体为，将半径为R的激光束垂直射在网筛平面上,在足够远处放置一个与网筛平面相平行的白屏，再用激光束通过网筛，所产生的夫朗和费衍射图纹将清晰地投射在白屏上，读取X、Y尺寸进行测量。针对筛孔尺寸5mm以下的规格，现行方法采用分辨力1μm以下，放大倍数10-50倍左右的显微镜等设备，虽然具有较高的精确度，可以定量表征筛孔的尺寸，但同时具有成本高昂、难以大规模推广、操作繁琐等缺点，方式工作量繁重、效率低，给各地计量部门带来了很大困难。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供筛孔偏差核查装置和核查方法，旨在解决现有技术中采用人工观测进行试验检查，工作繁重、效率低的问题。本专利技术提供筛孔偏差核查装置，用于检测试验筛，包括：立柱，竖直安装于底座上；可调节支架，包括上支架和下支架，所述上支架和所述下支架均活动安装于所述立柱，均能够相对所述立柱进行前后、左右、上下调节，所述试验筛安装于所述下支架；尺寸偏差标准板，包括位于所述下支架下方的底板，所述底板上绘有回字形图案；光源，安装于所述上支架，用于投射光线穿过所述试验筛并投影至所述底板上。进一步地，沿所述立柱设有用于标示所述上支架、所述下支架高度值的刻度。进一步地，所述上支架、所述下支架滑动安装于所述立柱。进一步地，所述底板端面为浅色，所述回字形图案为深色。进一步地，所述回字形图案包括多个同心圆或同心正方形。进一步地，还包括两个双向锁扣，所述上支架通过一所述双向锁扣安装于所述立柱，所述下支架通过另一所述双向锁扣安装至所述立柱，各所述双向锁扣滑动安装于所述立柱且能够锁紧其位置。进一步地，所述光源为点状投射光源。本专利技术还提供了核查方法，用于检测试验筛，包括以下步骤：组装上述述的筛孔偏差核查装置；根据待测所述试验筛的筛网大小，调整所述上支架伸长到足够长度，以使投影光线能够垂直照射到任意筛孔，然后固定所述上支架；将待测所述试验筛固定在所述下支架的安装位并确保水平，选择任意筛孔对准投影光源，然后固定所述下支架的伸长距离，调整所述下支架的纵向位置，以使待检测所述筛孔在所述底板上的投影清晰。获取所述光源高度、所述试验筛高度，制作所述回字形图案；将所述尺寸偏差标准板放在投影的正中进行比对，如果投影能够完全落在所述回字形图案内，则可判断所述筛孔的尺寸偏差符合要求；如果投影不能完全落在所述回字形图案内，则可判断所述筛孔的尺寸偏差不符合要求。进一步地，设：所述光源高度为LAC，所述筛网的高度LBC，所述试验筛的边长L0±偏差w，通过以下公式：L1＝L0-w；(1)L2＝L0+w；(2)Lmin＝L1*[LAC/(LAC-LBC)]；(3)Lmax＝L2*[LAC/(LAC-LBC)]；(4)(1)L1——尺寸允许最小值；(2)L2——尺寸允许最大值；(3)Lmin——放大后的尺寸最小值；(4)Lmax——放大后的尺寸最大值所述回字形图案为同心的两个正方形，二者的边长分别为Lmax和Lmin。进一步地，在投影和所述回字形图案比对中，如果投影完全落在两所述正方形之间，则可判断所述筛孔的尺寸偏差符合要求；如果投影不能完全落在两所述正方形之间，则可判断所述筛孔的尺寸偏差不符合要求。与现有技术相比，本专利技术中的筛孔偏差核查装置和核查方法，通过上支架、下支架前后调节、上下调节和左右调节，能够确保被核查的金属穿孔板试验筛上的任意一个孔都能够垂直对准光源，能够灵活选择要测试的筛孔，根据上支架和下支架的位置，能够满足不同放大倍数间的切换，较大提高了设备的通用性，适应各种规格和形状的筛孔。通过由筛孔正负偏差绘制的回字形图案，采用投影比对的方法，能够快速判断出筛孔尺寸偏差的符合性，避免放大后读取数的繁琐操作。筛孔偏差核查装置为分开可拆装的拼接结构，使得该装置结构稳定、操作便捷、维护简便、不易损坏且造价较低，使用该装置可准确高效判断出筛孔偏差的符合性，易于维护保养、便于推广使用。附图说明图1是本专利技术的实施例一中筛孔尺寸偏差核查装置侧视图；图2是本专利技术的实施例一中筛孔尺寸偏差核查装置俯视图；图3是本专利技术的实施例一中筛孔尺寸偏差核查装置正视图；图4是本专利技术的实施例一、实施例三中筛孔尺寸偏差核查装置方形筛孔尺寸偏差标准板；图5是本专利技术的实施例一、实施例四中筛孔尺寸偏差核查装置圆形筛孔尺寸偏差标准板；图6a、图6b、图6c是本专利技术的实施例二中核查方法的计算模型。具体实施方式为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本专利技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。以下结合具体附图对本实施例的实现进行详细的描述。实施例一如图1至图6c所示，本实施例中提供筛孔偏差核查装置，包括：竖直安装于底座4上的立柱1、可调节支架、尺寸偏差标准板7以及光源5。其中，可调节支架包括上支架2和下支架3，二者均活动安装于立柱1，能够实现相对立柱1进行前后、左右、上下调节。光源5安装于上支架2，试验筛6安装于下支架3，尺寸偏差标准板7包括位于下支架3下方的底板10，在底板10上绘有回字形图案11/14。光源5发出投射光线，穿过试验筛6投影至底板10上。在检测试验筛6时，将待测试验筛6安装至下支架3，并且调整上支架2、下支架3以使光源5能够发出光线穿过试验筛6的筛孔投影至尺寸偏差标准板7上，根据试验筛6的尺寸、上支架2和下支架3的高度等数据，绘制合适的回字形图案11/14，将投影与回字形图案11/14进行比对，即可快速的完成检测过程。本实施例中的筛孔偏差核查装置具有以下有益效果1、通过下支架3前后调节、上下调节和左右调节，能够确保被核查的金属穿孔板试验筛6上的任意一个孔都能够垂直对准光源5，能够灵活选择要测试的筛孔，较大提高工作效率。2、确定出上下支架3的位置，能够满足不同放大倍数间的切换，较大提高了设备的通用性，适应各种规格和形状的筛孔。3、通过采用由筛孔正负偏差绘制的回字形图案11/14，采用投影比对的方法，能够快速判断出筛孔尺寸偏差的符合性，避免放大后读取数的繁琐本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.筛孔偏差核查装置，用于检测试验筛，其特征在于，包括：/n立柱，竖直安装于底座上；/n可调节支架，包括上支架和下支架，所述上支架和所述下支架均活动安装于所述立柱，均能够相对所述立柱进行前后、左右、上下调节，所述试验筛安装于所述下支架；/n尺寸偏差标准板，包括位于所述下支架下方的底板，所述底板上绘有回字形图案；/n光源，安装于所述上支架，用于投射光线穿过所述试验筛并投影至所述底板上。/n

【技术特征摘要】
1.筛孔偏差核查装置，用于检测试验筛，其特征在于，包括：
立柱，竖直安装于底座上；
可调节支架，包括上支架和下支架，所述上支架和所述下支架均活动安装于所述立柱，均能够相对所述立柱进行前后、左右、上下调节，所述试验筛安装于所述下支架；
尺寸偏差标准板，包括位于所述下支架下方的底板，所述底板上绘有回字形图案；
光源，安装于所述上支架，用于投射光线穿过所述试验筛并投影至所述底板上。


2.如权利要求1所述的筛孔偏差核查装置，其特征在于，沿所述立柱设有用于标示所述上支架、所述下支架高度值的刻度。


3.如权利要求1所述的筛孔偏差核查装置，其特征在于，所述上支架、所述下支架滑动安装于所述立柱。


4.如权利要求1所述的筛孔偏差核查装置，其特征在于，所述底板端面为浅色，所述回字形图案为深色。


5.如权利要求1所述的筛孔偏差核查装置，其特征在于，所述回字形图案包括多个同心圆或同心正方形。


6.如权利要求1所述的筛孔偏差核查装置，其特征在于，还包括两个双向锁扣，所述上支架通过一所述双向锁扣安装于所述立柱，所述下支架通过另一所述双向锁扣安装至所述立柱，各所述双向锁扣滑动安装于所述立柱且能够锁紧其位置。


7.如权利要求1所述的筛孔偏差核查装置，其特征在于，所述光源为点状投射光源。


8.核查方法，用于检测试验筛，其特征在于，包括以下步骤：
组装权利要求1至7任一项所述的筛孔偏差核查装置；
根据待测所述试...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈浩，兰扬华，王振华，林春升，苏武，王伟达，
申请(专利权)人：健研检测集团有限公司，
类型：发明
国别省市：福建;35