【技术实现步骤摘要】
一种高致密导电氧化铌靶材的制备方法
本申请涉及材料加工技术的领域,尤其是涉及一种高致密导电氧化铌靶材的制备方法。
技术介绍
ITO消影玻璃是在玻璃面和ITO膜之间镀一层过渡膜,该过渡膜在可见光区的反射率与镀ITO膜后的反射率接近,使得ITO膜与刻蚀区的色差减小,达到“视而不见”的效果。消影层薄膜主要由二氧化钛、氧化铌粉料等高折射率材料经磁控溅射的方法制得。相关技术中,授权公告号为CN102659405B的中国专利技术专利公开了公开一种高密度氧化铌溅射靶材的制备方法,原料为高纯度氧化铌粉料,其纯度大于99.99%。其制备过程按以下步骤完成:氧化铌粉料预处理;真空热压;靶材的机械加工。针对上述中的相关技术,专利技术人认为采用氧化铌粉料制备所得的靶材导电率不佳,从而影响靶材质量。
技术实现思路
为了提高靶材导电率,提高靶材质量,本申请提供一种高致密导电氧化铌靶材的制备方法。本申请提供的一种高致密导电氧化铌靶材的制备方法采用如下的技术方案:一种高致密导电氧化铌靶材的制备方法,包括以下步骤:S1、选择氧化铌粉料和金属铌粉料作为原料按照配比放入V型混料机中混料,氧化铌粉料和金属铌重量份数之比为(93~95):(5~7);S2、将S1中混好的粉体原料放入高能球磨机中,球磨至粉体平均粒径为5μm;S3、将球磨好的粉体放入高纯石墨模具中,粉体下部用氧化锆陶瓷纸将粉体与石墨下压头隔离,粉体上部用氧化锆陶瓷纸将粉体与石墨垫片隔离,粉体预压5kg;S4、将石墨模具放 ...
【技术保护点】
1.一种高致密导电氧化铌靶材的制备方法,其特征在于:包括以下步骤,/nS1、选择氧化铌粉料和金属铌粉料作为原料按照配比放入V型混料机中混料,氧化铌粉料和金属铌重量份数之比为(93~95):(5~7);/nS2、将S1中混好的粉体原料放入高能球磨机中,球磨至粉体平均粒径为5μm;/nS3、将球磨好的粉体放入高纯石墨模具中,粉体下部用氧化锆陶瓷纸将粉体与石墨下压头隔离,粉体上部用氧化锆陶瓷纸将粉体与石墨垫片隔离,粉体预压5kg;/nS4、将石墨模具放入热压炉中,将炉内真空度抽至0.001~0.1kPa,充入0.1~1atm的高纯氩气,按照升温速率为100~300℃/小时将炉内温度升至500~800℃,保温1~2小时,将炉内真空度抽至0.001~0.1kPa,充入0.1~1atm的高纯氩气,给模具施压10~20MPa,然后按照升温速率为100~300℃/小时升温至950~1150℃,温度均匀化1~2小时,再给模具施压20~50MPa,保压保温1~4小时,将温度降至600~800℃,降温速率为100~200℃/小时,降温过程保压10~30MPa;/nS5、关闭电源随炉冷,温度降至20℃时,取出 ...
【技术特征摘要】
1.一种高致密导电氧化铌靶材的制备方法,其特征在于:包括以下步骤,
S1、选择氧化铌粉料和金属铌粉料作为原料按照配比放入V型混料机中混料,氧化铌粉料和金属铌重量份数之比为(93~95):(5~7);
S2、将S1中混好的粉体原料放入高能球磨机中,球磨至粉体平均粒径为5μm;
S3、将球磨好的粉体放入高纯石墨模具中,粉体下部用氧化锆陶瓷纸将粉体与石墨下压头隔离,粉体上部用氧化锆陶瓷纸将粉体与石墨垫片隔离,粉体预压5kg;
S4、将石墨模具放入热压炉中,将炉内真空度抽至0.001~0.1kPa,充入0.1~1atm的高纯氩气,按照升温速率为100~300℃/小时将炉内温度升至500~800℃,保温1~2小时,将炉内真空度抽至0.001~0.1kPa,充入0.1~1atm的高纯氩气,给模具施压10~20MPa,然后按照升温速率为100~300℃/小时升温至950~1150℃,温度均匀化1~2小时,再给模具施压20~50MPa,保压保温1~4小时,将温度降至600~800℃,降温速率为100~200℃/小时,降温过程保压10~30MPa;
S5、关闭电源随炉冷,温度降至20℃时,取出靶材坯料;
S6、将靶材坯料加工成规定形状的靶材。
2.根据权利要求1所述的一种高致密导电氧化铌靶材的制备方法,其特征在于:所述V型混料机包括支架(1),所述支架(1)上固定连接有通气机构(2),所述通气机构(2)上通过转动机构转动连接有V型筒(4),所述V型筒(4)转动轴线水平设置,所述通气机构(2)与V型筒(4)内连通,所述通气机构(2)一端与高纯氩气瓶连通,所述通气机构(2)另一端与收集袋连通,所述支架(1)上设置有驱动V型筒(4)转动的驱动机构(7),所述V型筒(4)上开设有料口(5),所述料口(5)处设置有封闭料口(5)的端盖(6)。
3.根据权利要求2所述的一种高致密导电氧化铌靶材的制备方法,其特征在于:所述V型筒(4)包括两个倾斜设置的圆筒体,两个圆筒体下端互相靠近且固定连接为V型,两个圆筒体相交端为出料端,所述料口(5)开设于出料端。
4.根据权利要求3所述的一种高致密导电氧化铌靶材的制备方法,其特征在于:所述通气机构(2)包括水平设置的圆柱形支撑杆(21),所述支撑杆(21)位于V型筒(4)内,所述支撑杆(21)轴线为V型筒(4)转动轴线,所述支撑杆(21)一端同轴固定连接有第一通气管(221),所述第一通气管(221)背离支撑杆(21)一端穿过V型筒(4)侧壁固定连接于支架(1)上,所述第一通气管(221)背离支撑杆(21)一端与高纯氩气瓶连通,所述第一通气管(221)侧壁固定连接有第二通气管(222),所述第二通气管(222)位于V型筒(4)内且将第一通气管(221)和V型筒(4)连通;所述支撑杆(21)另一端同...
【专利技术属性】
技术研发人员:宋海涛,宋爱谋,
申请(专利权)人:山东昊轩电子陶瓷材料有限公司,
类型:发明
国别省市:山东;37
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