【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于半导体元件的导电浆料及其制备方法和PERC太阳能电池
本专利技术属于太阳能电池
,特别涉及一种用于半导体元件的导电浆料及其制备方法和PERC太阳能电池。
技术介绍
太阳能是一种取之不尽,用之不竭的清洁型能源。随着煤炭、石油等不可再生能源的日益枯竭,开发并利用太阳能成为大热点。基于这种思路开发的太阳能电池就是利用太阳能的一种重要手段。目前,实现产业化的晶硅太阳能电池已经成为太阳能电池应用的典范。电池片作为晶硅太阳能电池的核心组成部分,为了将光照下产生的电流收集并导出,需要在电池片的正面及背面上分别制作一个电极。制造电极的方法多种多样,其中丝网印刷及共烧是目前最为普遍的一种生产工艺。如正面电极的制造中,采用丝网印刷的方式将导电浆料涂覆于硅片上,并通过烧结在硅片正面上形成正面电极。烧结后的晶硅太阳能电池正面电极需要在硅片上附着牢固,栅线窄而高,遮光面积小,易于焊接,硅太阳能电池正面电极用导电浆料要具备在烧结过程中穿透氮化硅减反射膜的能力,与硅电池片形成良好的欧姆接触。常见的晶硅太阳能电池正面导电浆料由银粉、玻璃粉、有机载体组成,导电浆料被使用丝网印刷的方式印刷到电池片表面。在烧结过程中,导电浆料中的玻璃粉刻蚀并穿透晶硅太阳能电池正面或光照面的减反射绝缘层如氮化硅、氧化铝、氧化硅、氧化硅或者氧化钛,使银粉与晶硅太阳能电池基体接触,形成正面电极。钝化发射极及背局域接触电池(PassivatedEmitterandRearCell,简称:PERC),最早由澳大利亚 ...
【技术保护点】
一种用于半导体元件的导电浆料,其特征在于,按照总重量为100份计,包括如下原料组分:/n金属粉
80.0~93.0份;/n有机载体
6.0~15.0份;/n氧化物刻蚀剂 0.5~5.0份;/n其中,所述氧化物刻蚀剂至少含有Fe
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】一种用于半导体元件的导电浆料,其特征在于,按照总重量为100份计,包括如下原料组分:
金属粉
80.0~93.0份;
有机载体
6.0~15.0份;
氧化物刻蚀剂0.5~5.0份;
其中,所述氧化物刻蚀剂至少含有Fe
2O
3、SiO
2和Na
2O;
以所述氧化物刻蚀剂摩尔份为100计,所述Fe
2O
3与SiO
2的摩尔比例为0.1:40~25:10;所述Na
2O与SiO
2的摩尔比例为0.1:40~10:10。
如权利要求1所述的用于半导体元件的导电浆料,其特征在于,以所述氧化物刻蚀剂摩尔总量为100%计,所述氧化物刻蚀剂包括以下组分:
PbO
10.0~25.0%;
TeO
2
15.0~35.0%;
Li
2O
10.0~30.0%;
SiO
2
10.0~40.0%;
B
2O
3
0.1~6.0%;
Bi
2O
3
5.0~10.0%;
ZnO
0.1~5.0%;
WO
3
2.0~10.0%;
Fe
2O
3
0.1~25.0%;
Na
2O
0.1~10.0%。
如权利要求2所述的用于半导体元件的导电浆料,其特征在于,以氧化物刻蚀剂摩尔量为100%计,所述氧化物刻蚀剂包括以下组分:
PbO10.0~25.0%;TeO
215.0~35.0%;Li
2O10.0~30.0%;SiO
210.0~40.0%;B
2O
30.1~6.0%;Bi
2O
35.0~10.0%;ZnO0.1~5.0%;WO
32.0~10.0%;Fe
2O
3
0.1~0.4%;Na
2O
0.1~10.0%。
如权利要求2所述的用于半导体元件的导电浆料,其特征在于,以氧化物刻蚀剂摩尔量为100%计,所述氧化物刻蚀剂包括以下组分:
PbO10.0~25.0%;TeO
215.0~35.0%;Li
2O10.0~30.0%;SiO
210.0~40.0%;B
2O
30.1~6.0%;Bi
2O
35.0~10.0%;ZnO0.1~5.0%;WO
32.0~10.0%;Fe
2O
3
2.0~5.0%;Na
2O
0.1~10.0%。
如权利要求2所述的用于半导体元件的导电浆料,其特征在于,以氧化物刻蚀剂摩尔量为100%计,所述氧化物刻蚀剂包括以下组分:
PbO10.0~25.0%;TeO
215.0~35.0%;Li
2O10.0~30.0%;SiO
210.0~40.0%;B
2O
30.1~6.0%;Bi
2O
35.0~10.0%;ZnO0.1~5.0%;WO
32.0~10.0%;Fe
2O
323~25%;Na
2O0.1~10.0%。
如权利要求2所述的用于半导体元件的导电浆料,其特征在于,以氧化物刻蚀剂摩尔量为100%计,所述氧化物刻蚀剂包括以下组分:
PbO10.0~25.0%;TeO
215.0~35.0%;Li
2O10.0~30.0%;SiO
210.0~40.0%;B
2O
30.1~6.0%;Bi
2O
35.0~10.0%;ZnO0.1~5.0%;WO
32.0~10.0%;Fe
2O
3
2.0~5.0%;Na
2O
0.1~0.5%。
如权利要求2所述的用于半导体元件的导电浆料,其特征在于,以氧化物刻蚀剂摩尔量为100%计,所述氧化物刻蚀剂包括以下组分:
PbO10.0~25.0%;TeO
215.0~35.0%;Li
2O10.0~30.0%;SiO
210.0~15.0%;B
2O
30.1~6.0%;Bi
2O...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘小丽,徐诚,李德林,
申请(专利权)人:深圳市首骋新材料科技有限公司,
类型:发明
国别省市:广东;44
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