长焦抗光幕制造技术

本发明专利技术提供了一种长焦抗光幕，包括基材、光学结构层、吸光填补层、扩散填补层及影像反射层，其中光学结构层系设在基材的一面，光学结构层设有复数个光学微结构体，各光学微结构体之间相隔填补间距，而形成填补空间，吸光填补层系填补在部分的填补空间，而扩散填补层再填补在吸光填补层之上，并填满填补空间，影像反射层设在扩散填补层与光学结构层之上，扩散填补层与影像反射层的光学特性相近，藉此利用光学结构层与吸光填补层之间的介接位置发生全反射，让环境光容易被吸光填补层吸收，而扩散填补层可以调整影像反射层的视角，借以达到在抗环境光的前提下，仍具有较佳的对比度。

【技术实现步骤摘要】
长焦抗光幕
本专利技术是关于一种投影荧幕，尤指一种长焦投影机所使用的投影荧幕，且此投影荧幕可以抗环境光源。
技术介绍
迄今为止，传统的长焦抗光幕，例如：新型专利公告第M594166号(专利技术名称：「长焦距抗环境光布幕」)，包括低光泽抗光层、透明基材层、光学结构层以及反射层。其中低光泽抗光层阻挡环境光源及投影设备之面反射，配合光学结构层调整角度形成折射或吸收，最后再以反射层调整光增益值与视角，达成将投影设备的光源形成反射，而环境光源折射后被吸收之抗环境光效果。但是，传统的长焦抗光幕的光学结构层的吸收层，系采用高深宽比的结构设计，使用高深宽比来过滤环境光或投影机光线，长焦距投影机的影像光相对于传统的长焦抗光幕大约为开角20度内入射，而环境光则大多为45度以上入射至传统长焦抗光幕最为严重。由于，传统的长焦距抗光幕需要藉由长焦距投影机的影像光与环境光的光路径的差异，来促使长焦距投影机的影像光可以有效利用，但环境光可以被有效吸收。因此，先前技术的棱镜层大多为梯形，其两边夹角小于25度、深度大于50um以及间距35um左右，再者，为了达到投影机光线全反射角条件，会将棱镜层与吸收层的折射率进行差异化，传统方式是使用不同的材料制成棱镜层与吸收层，使得棱镜层与吸收层的折射率不相同，通常是棱镜层的折射率大于吸收层的折射率，且两者折射率的差值大于0.1，借以达到投影机光线全反射之目的。并且，棱镜层与吸收层的折射率差值大于0.1，两者使用的材料价格将会较高，除此之外，棱镜层的梯型造型容易造成吸收层残留在棱镜层顶端，进而影响投影机光线的反射，造成传统的长焦抗光幕显示出来的画面之对比度较差。
技术介绍
部分的内容仅仅是专利技术人所知晓的技术，并不当然代表本领域的现有技术。
技术实现思路
有鉴于先前技术的问题，本专利技术的目的在于采用有别于传统的长焦抗光幕的结构，可以在无需使用棱镜层与吸收层之折射率差方式，就可以达到较佳的全反射，环境光依旧可以被吸收，借以提高对比度及可以提升投影机光线的利用率。根据本专利技术之目的，系提供一种长焦抗光幕，包括基材、光学结构层、吸光填补层、扩散填补层及影像反射层，其中光学结构层系设在基材的一面，光学结构层设有多个光学微结构体，各光学微结构体之间相隔填补间距，而形成填补空间，吸光填补层系填补在部分的填补空间，而扩散填补层再填补在吸光填补层之上，并填满填补空间，影像反射层设在扩散填补层与光学结构层之上，扩散填补层与影像反射层的化性(如：链结或黏度)相近。其中，各光学微结构体系由透明材料涂布在基材之一面所制成。各光学微结构体由基材之一面往远离基材的方向层叠地设有多个阶段部，从基材由下往上的各阶段部的外侧面与基材之间的夹角逐渐变大。其中，各光学微结构体系具有两个阶段部，此二阶段部系为梯形四面体。即，各该光学微结构体系为两个梯形四面体，靠近该基材的其中一各梯形四面体为第一四面体，而较远离该基材的另一梯形四面体为第二四面体。其中，该第一四面体的外侧面与该基材之间的具有第一夹角，该第一夹角角度系15度～30度，任两个相邻第一四面体的底面之间的间距为5～15μm，该第一四面体的底面的尺寸系30～70μm，该第一四面体的高度系30～60μm。其中，该第二四面体的外侧面与该基材之间的具有第二夹角，该第二夹角的角度大于第一夹角角度，该第二夹角角度系55度～85度，该第二四面体的底面的尺寸系25～40μm，该第二四面体的高度系10～30μm。其中，吸光填补层系在填补空间内填补到第一个阶段部相邻第二个阶段部的位置，而扩散填补层再填补在吸光填补层之上直到第二个阶段部的顶面。其中，影像反射层之上系设有保护层，保护层系为环氧树脂(Epoxy)或聚甲基丙烯酸甲酯(或称：压克力，英文：Polymethylmethacrylate，简称：PMMA)等材料所制成。其中，基材的另一面系设有一入射散射层，系入射散射层系将长焦投影机所入射的光线向基材的方向散射。又，扩散填补层进一步具有另一光学微结构，藉此调整单一轴方向视角。据上所述，本专利技术具有下列其中之一或多个功效：1、光学结构层与吸光填补层之间的介接位置发生全反射，让环境光容易被吸光填补层吸收。2、扩散填补层可以调整影像反射层的视角，借以达到在抗环境光的前提下，仍具有较佳的对比度，及调整单一轴方向视角。3、保护层系防止影像反射层被刮伤而损坏，并防止影像反射层氧化。4、入射散射层系避免长焦投影机的光线在基材上形成反射光晕。5、光学结构层与吸光填补层之间可以使用光学特性相近或相同的材料制成，以降低生产制造成本。附图说明附图用来提供对本专利技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本专利技术的实施例一起用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的限制。在附图中：图1系本专利技术之部分剖面示意图；图2系本专利技术之光学微结构体的示意图；图3系专利技术之使用状态示意图；图4系本专利技术之在扩散填补层之另一光学微结构的示意图；1：基材，2：光学结构层，20：光学微结构体，200：斜面体，201：第一四面体，202：第二四面体，3：吸光填补层，4：扩散填补层，40：另一光学微结构，5：影像反射层，6：保护层，7：散射层，α：第一夹角，β：第二夹角角度。具体实施方式为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，下面结合附图及实施例，对本创作进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本创作，但并不用于限定本创作。请参阅图1及2所示，本专利技术系一种长焦抗光幕，包括基材1、光学结构层2、吸光填补层3、扩散填补层4及影像反射层5，其中光学结构层2系设在基材1的一面，光学结构层2设有多个光学微结构体20，各光学微结构体20之间相隔填补间距，而形成填补空间。各光学微结构体20系由透明材料涂布在基材1之一面所制成。吸光填补层3系填补在部分的填补空间，而扩散填补层4再填补在吸光填补层3之上，并填满填补空间，影像反射层5设在扩散填补层4与光学结构层2之上，利用光学结构层2与吸光填补层3之间的介接位置发生全反射，让环境光容易被吸光填补层3吸收，而扩散填补层4可以调整影像反射层5的视角，借以达到在抗环境光的前提下，仍具有较佳的对比度。在本专利技术中，各光学微结构体20由基材1之一面往远离基材1的方向层叠地设有多个斜面体200，各斜面体200与基材1之间的夹角逐渐变大，斜面体200系可为梯形四面体。吸光填补层3系填补在填补空间30％～70％的深度，填补空间的剩余部分则填入扩散填补层4。在本专利技术之一实施例中，请参阅图3所示，各光学微结构体20系为两个梯形四面体，在此将靠近基材1的梯形四面体称为第一四面体201，而较远离基材1的梯形四面体称为第二四面体202。第一四面体201的外侧面与基材1之间的第一夹角α，系以所需过滤入射的光线设计，第一夹角α本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种长焦抗光幕，其特征在于，包括：/n基材，/n光学结构层，该光学结构层系设在该基材的一面，该光学结构层设有多个光学微结构体，各该光学微结构体之间相隔一填补间距，并形成一填补空间；/n吸光填补层，该吸光填补层系填补在部分的该填补空间内；/n扩散填补层，该扩散填补层再填补在该填补空间的该吸光填补层之上，并填满该填补空间；及/n影像反射层，该影像反射层设在该扩散填补层与该光学结构层之上；/n其中，该光学结构层与该吸光填补层之间的介接位置产生界面痕，而发生全反射，让环境光被该吸光填补层吸收，而该扩散填补层调整该影像反射层的视角。/n

【技术特征摘要】
1.一种长焦抗光幕，其特征在于，包括：
基材，
光学结构层，该光学结构层系设在该基材的一面，该光学结构层设有多个光学微结构体，各该光学微结构体之间相隔一填补间距，并形成一填补空间；
吸光填补层，该吸光填补层系填补在部分的该填补空间内；
扩散填补层，该扩散填补层再填补在该填补空间的该吸光填补层之上，并填满该填补空间；及
影像反射层，该影像反射层设在该扩散填补层与该光学结构层之上；
其中，该光学结构层与该吸光填补层之间的介接位置产生界面痕，而发生全反射，让环境光被该吸光填补层吸收，而该扩散填补层调整该影像反射层的视角。


2.如权利要求1所述的长焦抗光幕，其特征在于，各该光学微结构体由该基材之一面往远离该基材的方向层叠地设有多个阶段部，从该基材由下往上的各该阶段部的外侧面与该基材之间的夹角逐渐变大。


3.如权利要求1所述的长焦抗光幕，其特征在于，各该光学微结构体系为两个梯形四面体，靠近该基材的其中一各梯形四面体为第一四面体，而较远离该基材的另一梯形四面体为第二四面体。


4.如权利要求3所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：李嘉彬，王茂貴，傅世民，徐耀男，
申请(专利权)人：弘胜光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71