偏振片及利用该偏振片的显示器及紫外线照射装置制造方法及图纸

技术编号:27820274 阅读:27 留言:0更新日期:2021-03-30 10:35
本发明专利技术的目的在于提供一种能够抑制在正交尼科尔状态下因漏光所导致的消光比劣化的偏振片及利用该偏振片的显示器及紫外线照射装置。一种偏振片,其具备:对于使用频带的光而言透明的基板(1);将在一个方向上延伸的金属线(21)以比光的波长短的间距排列多条而成的线栅部(2),其中,所述偏振片具备偏振轴修正部(3),该偏振轴修正部(3)相对于线栅部(2)设置在光入射的一侧,使用电介质形成,在使用频带的线偏振光相对于金属线(21)从45度的方位角入射时以使线偏振光的入射侧透射轴与出射侧吸收轴的角度偏差变小的方式进行修正。吸收轴的角度偏差变小的方式进行修正。吸收轴的角度偏差变小的方式进行修正。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】偏振片及利用该偏振片的显示器及紫外线照射装置


[0001]本专利技术涉及一种偏振片及利用该偏振片的显示器及紫外线照射装置。

技术介绍

[0002]以往的偏振片中,一直使用使碘含浸在聚乙烯醇中而在一个方向上延伸的吸收型偏振片,但是为了高效地使用液晶的背光源光、使画面明亮,正在研究线栅型偏振片来作为反射型偏振片(例如参照专利文献1)。
[0003]专利文献1:国际公开编号WO2018/012523

技术实现思路

[0004]另一方面,在液晶电视机等液晶显示装置中要求宽视角下的对比度。另外,近年来,作为在人的视野中直接放映信息的装置,平视显示器的研究正在推进。而且,为了使平视显示器用分束器小型化,需要利用广角的光。因此,要求线栅型偏振片维持针对倾斜入射光的消光比。
[0005]但是,线栅型偏振片存在如下问题:对从垂直方向入射的光而言消光比较高,而对从倾斜方向入射的光而言消光比根据方位角而下降。例如,在波长为550nm的线偏振光入射偏振片的情况下,如图1所示,在方位角为0度时,即使改变入射角,正交尼科尔透射率也不发生变化。但是,在方位角为45度时,如果增大入射角,则存在正交尼科尔透射率增大而消光比下降的问题。
[0006]此外,如图158所示,方位角(Azimuth)是指线栅部的金属线的延伸方向、入射此处的线偏振光的行进方向的矢量线栅面和水平方向分量所构成的角度。另外,入射角(Incidence)是指线偏振光的入射方向和偏振片的法线所构成的角度。
[0007]因此,在本专利技术中,其目的在于提供一种能够抑制在正交尼科尔状态下因漏光所导致的消光比劣化的偏振片及利用该偏振片的量子点显示器及紫外线照射装置。
[0008]为了实现上述目的,本专利技术提供一种偏振片,其包括:对于使用频带的光而言透明的基板;以及将在一个方向上延伸的金属线以比所述光的波长短的间距排列多条而成的线栅部,其特征在于,具备:偏振轴修正部,其相对于所述线栅部设置在所述光入射的一侧,使用电介质形成,在所述使用频带的线偏振光相对于所述金属线从45度的方位角入射时以使所述线偏振光的入射侧透射轴与出射侧吸收轴的角度偏差变小的方式进行修正。
[0009]在这种情况下,所述偏振轴修正部通过改变入射的光的P波与S波的强度比,以使所述线偏振光的入射侧透射轴与出射侧吸收轴的角度偏差变小的方式进行修正。
[0010]另外,所述偏振轴修正部的厚度优选为:在所述使用频带的线偏振光相对于所述金属线以45度的方位角、50度的入射角入射时,以使所述线偏振光的入射侧透射轴与出射侧吸收轴的角度偏差在所述使用频带的全部波长中为7度以下、优选为2度以下的方式进行修正。
[0011]另外,更优选在所述使用频带为可见光频段整个范围的情况下,所述偏振轴修正
部为如下厚度:在所述可见光频段的线偏振光相对于所述金属线以45度的方位角、40度的入射角入射时,取TE透射率的最小值的光的波长为495nm以上且570nm以下。
[0012]另外,更优选在所述使用频带为可见光频段整个范围的情况下,所述偏振轴修正部为如下厚度:在所述可见光频段的线偏振光相对于所述金属线以45度的方位角、40度的入射角入射时,将波长为507nm以上且555nm以下的光的TE透射率修正为0.2%以下。
[0013]另外,在所述偏振轴修正部使用二氧化硅形成的情况下,该偏振轴修正部的厚度为60nm以上且120nm以下更佳。另外,在所述偏振轴修正部使用氮化硅形成的情况下,该偏振轴修正部的厚度为40nm以上且90nm以下更佳。另外,在所述偏振轴修正部使用二氧化钛形成的情况下,该偏振轴修正部的厚度为20nm以上且60nm以下更佳。
[0014]另外,所述偏振轴修正部既可以配置在所述线栅部的所述基板一侧,也可以配置在与基板相向的一侧。另外,所述偏振轴修正部也可以配置在所述线栅部的各金属线的顶部。在这种情况下,更优选在与所述金属线的延伸方向正交的截面中,所述偏振轴修正部的截面形状包括至少局部的宽度比所述金属线的宽度大的部分。例如,能够使所述偏振轴修正部的截面形状为倒梯形。
[0015]另外,也可以是,所述金属线包括吸收层。
[0016]另外,本专利技术提供一种显示器,其特征在于,具备:发出蓝色光的光源;使所述光源的光成为线偏振光的偏振片;改变所述线偏振光的偏振方向的液晶;本专利技术的偏振片;以及将所述光变换成红色及绿色的波长的波长变换部。在这种情况下,更优选所述偏振轴修正部为如下厚度:在所述线偏振光相对于所述金属线以45度的方位角、40度的入射角入射时,取TE透射率的最小值的光的波长为400nm以上且495nm以下。
[0017]另外,本专利技术提供一种紫外线照射装置,其特征在于,具备:照射紫外线的光源;使从所述光源照射的紫外线朝向对象物反射的曲面状的反射镜;以及使用频带为紫外线的本专利技术的偏振片。在这种情况下,更优选所述偏振轴修正部为如下厚度:在所述线偏振光相对于所述金属线以45度的方位角、40度的入射角入射时,取TE透射率的最小值的光的波长为380nm以下。
附图说明
[0018]图1是表示方位角为45度时针对每个入射角的线偏振光的偏振轴的偏差θ的图。
[0019]图2是用于说明利用因透射本专利技术涉及的电介质薄膜所引起的偏振轴变化而得到的偏振轴修正的图。
[0020]图3是表示本专利技术涉及的模型1的偏振片的概略截面图。
[0021]图4是表示在方位角为45度、入射角为50度时针对每个SiN膜的膜厚的偏振轴的偏差θ相对波长的图。
[0022]图5是表示在相对于SiN膜的方位角为45度时针对每个入射角的偏振轴的偏差θ相对波长的图。
[0023]图6是表示在相对于SiN膜的方位角为45度时针对每个入射角的相位差相对波长的图。
[0024]图7是表示本专利技术涉及的模型2~4的偏振片的概略截面图。
[0025]图8是表示在相对于本专利技术涉及的模型2的偏振片的方位角为45度时针对每个入
射角的TE透射率相对波长的图。
[0026]图9是表示在相对于本专利技术涉及的模型3的偏振片的方位角为45度时针对每个入射角的TE透射率相对波长的图。
[0027]图10是表示在相对于本专利技术涉及的模型4的偏振片的方位角为45度时针对每个入射角的TE透射率相对波长的图。
[0028]图11是表示本专利技术涉及的模型5~7的偏振片的概略截面图。
[0029]图12是表示在相对于本专利技术涉及的模型5的偏振片的方位角为45度时针对每个入射角的TE透射率相对波长的图。
[0030]图13是表示在相对于本专利技术涉及的模型6的偏振片的方位角为45度时针对每个入射角的TE透射率相对波长的图。
[0031]图14是表示在相对于本专利技术涉及的模型7的偏振片的方位角为45度时针对每个入射角的TE透射率相对波长的图。
[0032]图15是表示本专利技术涉及的模型8的偏振片的概略截面图。
[0033]图16是表示在本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种偏振片,其包括:对于使用频带的光而言透明的基板;将在一个方向上延伸的金属线以比所述光的波长短的间距排列多条而成的线栅部,所述偏振片的特征在于,具备:偏振轴修正部,其相对于所述线栅部设置在所述光入射的一侧,使用电介质形成,在所述使用频带的线偏振光相对于所述金属线从45度的方位角入射时以使所述线偏振光的入射侧透射轴与出射侧吸收轴的角度偏差变小的方式进行修正。2.根据权利要求1所述的偏振片,其特征在于:所述偏振轴修正部通过改变入射的光的P波与S波的强度比,以使所述线偏振光的入射侧透射轴与出射侧吸收轴的角度偏差变小的方式进行修正。3.根据权利要求1或2所述的偏振片,其特征在于:所述偏振轴修正部为如下厚度:在所述使用频带的线偏振光相对于所述金属线以45度的方位角、50度的入射角入射时,将所述线偏振光的入射侧透射轴与出射侧吸收轴的角度偏差在所述使用频带的全部波长中修正为7度以下。4.根据权利要求1或2所述的偏振片,其特征在于:所述偏振轴修正部为如下厚度:在所述使用频带的线偏振光相对于所述金属线以45度的方位角、50度的入射角入射时,将所述线偏振光的入射侧透射轴与出射侧吸收轴的角度偏差在所述使用频带的全部波长中修正为2度以下。5.根据权利要求1至4中任一项所述的偏振片,其特征在于:所述使用频带为可见光频段,所述偏振轴修正部为如下厚度:在所述可见光频段的线偏振光相对于所述金属线以45度的方位角、40度的入射角入射时,取TE透射率的最小值的光的波长为495nm以上且570nm以下。6.根据权利要求1至4中任一项所述的偏振片,其特征在于:所述使用频带为可见光频段,所述偏振轴修正部为如下厚度:在所述可见光频段的线偏振光相对于所述金属线以45度的方位角、40度的入射角入射时,将波长为507nm以上且555nm以下的光的TE透射率修正为0.2%以下。7.根据权利要求1所述的偏振片,其特征在于:所述偏振轴修正部使用二氧化硅形成,厚度为60nm以上且120nm以下。8.根据权利要求1所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员:粟屋信义须崎泰正田中觉
申请(专利权)人:SCIVAX株式会社
类型:发明
国别省市:

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