显影系统及显影设备技术方案

本实用新型专利技术公开一种显影系统及一种显影设备，显影系统用来在包覆于一金属滚轮的外表面的一光阻层上进行显影，其包括一无尘腔体、设置于无尘腔体中的显影设备。显影设备包含一滚轮固定装置、一浸润装置、一移动装置、一转动装置以及一冲洗装置。浸润装置用来容纳一显影剂。转动装置能用来在光阻层被浸润装置中的显影剂浸润时，以浸润速度带动金属滚轮转动而令光阻层被显影剂均匀浸润，使受到曝光的部分光阻层溶于显影剂中，进而形成一图案化光阻层。转动装置能用来在冲洗装置以水冲洗分布于图案化光阻层的显影剂时，以浸润速度带动金属滚轮转动。本实用新型专利技术能用来避免图案化光阻层于其他制程中发生其他化学反应，使金属滚轮的制造合格率上升。

【技术实现步骤摘要】
显影系统及显影设备
本技术涉及一种显影系统及一种显影设备，特别是涉及一种转印滚轮显影系统及一种转印滚轮显影设备。
技术介绍
现有的显影液涂布设备经常是以液滴喷涂的方式，将一显影液分布于一金属滚轮的外表面的一光阻层，由于部分所述光阻层已曝光，故当受到曝光的部分所述光阻层接触所述显影液时，受到曝光的部分所述光阻层将溶解于所述显影液中，进而形成所需的光刻图案。然，现有的显影液涂布设备若要完成上述作业流程，在所述显影液的喷涂过程以及在所述显影液溶解受到曝光的部分所述光阻层的过程中，经常需要耗费大量的时间，否则受到曝光的部分所述光阻层将可能没有完全溶解于所述显影液中，导致后续形成的所述光刻图案不甚清晰。此外，所述光刻图案上可能残留有所述显影液，残留于所述光刻图案的所述显影液在后续的其他制程中，可能导致所述光刻图案发生氧化或其他化学反应，续而使所述金属滚轮的制造合格率下降。故，如何通过提供一种显影系统及一种显影设备，来克服上述的缺陷，已成为该项事业所欲解决的重要课题之一。
技术实现思路
本技术实施例在于提供一种显影系统及一种显影设备，所述显影系统及所述显影设备能有效地改善现有显影液涂布设备所可能产生的缺陷。本技术的其中一个实施例公开一种显影系统，所述显影系统用来在包覆于一金属滚轮的外表面的一光阻层上进行显影，所述显影系统包括：一无尘腔体，用来避免所述金属滚轮进行显影时被环境中的污染源黏附；及一显影设备，设置于所述无尘腔体中，所述显影设备包括：一滚轮固定装置，用来固定所述金属滚轮；一浸润装置，用来容纳一显影剂；一移动装置，用来使所述滚轮固定装置与所述浸润装置相对地移动，以使所述浸润装置能用来将所述浸润装置所容纳的所述显影剂浸润于局部所述光阻层；一转动装置，用来选择性地以一浸润速度以及一甩干速度带动所述金属滚轮转动；其中，所述转动装置能用来在所述光阻层被所述浸润装置中的所述显影剂浸润时，以所述浸润速度带动所述金属滚轮转动而令所述光阻层被所述显影剂均匀浸润，使部分所述光阻层溶于所述显影剂中，进而形成一图案化光阻层；以及一冲洗装置，用来在所述图案化光阻层离开所述浸润装置内的所述显影剂时，以水冲洗分布于所述图案化光阻层的所述显影剂；其中，所述转动装置能用来在所述冲洗装置以水冲洗分布于所述图案化光阻层的所述显影剂时，以所述浸润速度带动所述金属滚轮转动；其中，所述转动装置能用来在所述图案化光阻层离开所述浸润装置内的所述显影剂时，以所述甩干速度带动所述金属滚轮转动而分离残留于所述图案化光阻层的水。优选地，所述显影设备进一步包含一烘烤装置，所述烘烤装置的位置对应于所述金属滚轮，并且所述烘烤装置用来去除残留于所述图案化光阻层上的水以及所述图案化光阻层中多余的溶剂。优选地，所述烘烤装置为一红外线灯、一近红外线灯或一氙灯。优选地，所述滚轮固定装置包含一夹持机构，所述夹持机构安装于所述转动装置，并且所述夹持机构用来夹持所述金属滚轮；其中，当所述转动装置运作时，所述转动装置会带动所述夹持机构转动，使所述金属滚轮被所述夹持机构夹持而转动。优选地，所述移动装置包含一升降机构以及安装于所述升降机构的一支撑机构；其中，所述支撑机构用来支撑所述浸润装置的底部，而所述升降机构用来使所述浸润装置沿垂直所述金属滚轮的轴心的一方向移动。优选地，所述浸润装置进一步包含一盖体，并且所述盖体用来在所述冲洗装置冲洗分布于所述图案化光阻层的所述显影剂时，阻挡使用过的水与使用过的所述显影剂回流到所述浸润装置中。优选地，所述转动装置包含一速度控制机构，所述速度控制机构能用来使所述金属滚轮以介于1转/分钟至120转/分钟的所述浸润速度转动。优选地，所述转动装置包含一速度控制机构，所述速度控制机构能用来使所述金属滚轮以介于2900转/分钟至4500转/分钟的所述甩干速度转动。优选地，所述显影系统进一步包含一软烤装置，所述软烤装置能用来烘烤所述光阻层，并使所述光阻层的溶剂含量降低。本技术的其中一个实施例公开一种显影设备，用来在包覆于一金属滚轮的外表面的一光阻层上进行显影，所述显影设备包括：一滚轮固定装置，用来固定所述金属滚轮；一滚轮固定装置，用来固定所述金属滚轮；一移动装置，用来使所述滚轮固定装置与所述浸润装置能相对地移动，以使所述浸润装置能用来将所述浸润装置所容纳的所述显影剂浸润于局部所述光阻层；一转动装置，用来选择性地以一浸润速度以及一甩干速度转动所述金属滚轮；其中，所述转动装置能用来在所述光阻层被所述浸润装置中的所述显影剂浸润时，以所述浸润速度带动所述金属滚轮转动而令所述光阻层被所述显影剂均匀浸润，使部分所述光阻层溶于所述显影剂中，进而形成一图案化光阻层；以及一冲洗装置，用来在所述图案化光阻层离开所述浸润装置内的所述显影剂时，以水冲洗分布于所述图案化光阻层的所述显影剂；其中，所述转动装置能用来在所述冲洗装置以水冲洗分布于所述图案化光阻层的所述显影剂时，以所述浸润速度带动所述金属滚轮转动；其中，所述转动装置能用来在所述图案化光阻层离开所述浸润装置内的所述显影剂时，以所述甩干速度转动所述金属滚轮而分离残留于所述图案化光阻层的水。综上，本技术的其中一有益效果在于，本技术所提供的所述显影系统及所述显影设备能通过“所述转动装置能用来在所述冲洗装置以水冲洗分布于所述图案化光阻层的所述显影剂时，以所述浸润速度带动所述金属滚轮转动”以及“所述转动装置能用来在所述图案化光阻层离开所述浸润装置内的所述显影剂时，以所述甩干速度带动所述金属滚轮转动而分离残留于所述图案化光阻层的水”的技术方案，使所述图案化光阻层上没有残留所述显影剂以及水，进而避免所述图案化光阻层于后续的其他制程中发生氧化或其他化学反应，续而使所述金属滚轮的制造合格率上升。为能更进一步了解本技术的特征及
技术实现思路
，请参阅以下有关本技术的详细说明与附图，但是此等说明与附图仅用来说明本技术，而非对本技术的保护范围作任何的限制。附图说明图1为本技术实施例的显影系统的立体示意图。图2为本技术实施例的显影系统的另一立体示意图。图3为本技术实施例的显影系统的动态示意图(一)。图4为本技术实施例的显影系统的动态示意图(二)。图5为本技术实施例的显影系统的动态示意图(三)。图6为本技术实施例的显影系统的动态示意图(四)。图7为本技术实施例的显影系统的动态示意图(五)。图8为本技术实施例的显影系统的动态示意图(六)。图9为本技术实施例的显影系统的动态示意图(七)。图10为本技术实施例的显影系统的动态示意图(八)。图11为本技术实施例的金属滚轮准备进入浸润装置的剖面侧视图。图12为本技术实施例的金属滚轮于浸润装置浸润的剖面侧视图。具体实施方式以下是通过特定的具体实施例来说明本技术所公开有关“显影系统及显影设备”的实施方式，本领域技术人员可由本本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显影系统，其特征在于，所述显影系统用来在包覆于一金属滚轮的外表面的一光阻层上进行显影，所述显影系统包括：/n一无尘腔体，用来避免所述金属滚轮进行显影时被环境中的污染源黏附；及/n一显影设备，设置于所述无尘腔体中，所述显影设备包括：/n一滚轮固定装置，用来固定所述金属滚轮；/n一浸润装置，用来容纳一显影剂；/n一移动装置，用来使所述滚轮固定装置与所述浸润装置相对地移动，以使所述浸润装置能用来将所述浸润装置所容纳的所述显影剂浸润于局部的所述光阻层；/n一转动装置，用来选择性地以一浸润速度或一甩干速度带动所述金属滚轮转动；其中，所述转动装置能用来在所述光阻层被所述浸润装置中的所述显影剂浸润时，以所述浸润速度带动所述金属滚轮转动而令所述光阻层被所述显影剂均匀浸润，使部分所述光阻层溶于所述显影剂中，进而形成一图案化光阻层；以及/n一冲洗装置，用来在所述图案化光阻层离开所述浸润装置内的所述显影剂时，以水冲洗分布于所述图案化光阻层的所述显影剂；其中，所述转动装置能用来在所述冲洗装置以水冲洗分布于所述图案化光阻层的所述显影剂时，以所述浸润速度带动所述金属滚轮转动；/n其中，所述转动装置能用来在所述图案化光阻层离开所述浸润装置内的所述显影剂时，以所述甩干速度带动所述金属滚轮转动而分离残留于所述图案化光阻层的水。/n...

【技术特征摘要】
1.一种显影系统，其特征在于，所述显影系统用来在包覆于一金属滚轮的外表面的一光阻层上进行显影，所述显影系统包括：
一无尘腔体，用来避免所述金属滚轮进行显影时被环境中的污染源黏附；及
一显影设备，设置于所述无尘腔体中，所述显影设备包括：
一滚轮固定装置，用来固定所述金属滚轮；
一浸润装置，用来容纳一显影剂；
一移动装置，用来使所述滚轮固定装置与所述浸润装置相对地移动，以使所述浸润装置能用来将所述浸润装置所容纳的所述显影剂浸润于局部的所述光阻层；
一转动装置，用来选择性地以一浸润速度或一甩干速度带动所述金属滚轮转动；其中，所述转动装置能用来在所述光阻层被所述浸润装置中的所述显影剂浸润时，以所述浸润速度带动所述金属滚轮转动而令所述光阻层被所述显影剂均匀浸润，使部分所述光阻层溶于所述显影剂中，进而形成一图案化光阻层；以及
一冲洗装置，用来在所述图案化光阻层离开所述浸润装置内的所述显影剂时，以水冲洗分布于所述图案化光阻层的所述显影剂；其中，所述转动装置能用来在所述冲洗装置以水冲洗分布于所述图案化光阻层的所述显影剂时，以所述浸润速度带动所述金属滚轮转动；
其中，所述转动装置能用来在所述图案化光阻层离开所述浸润装置内的所述显影剂时，以所述甩干速度带动所述金属滚轮转动而分离残留于所述图案化光阻层的水。


2.根据权利要求1所述的显影系统，其特征在于，所述显影设备进一步包含一烘烤装置，所述烘烤装置的位置对应于所述金属滚轮，并且所述烘烤装置用来去除残留于所述图案化光阻层上的水以及所述图案化光阻层中多余的溶剂。


3.根据权利要求2所述的显影系统，其特征在于，所述烘烤装置为一红外线灯、一近红外线灯或一氙灯。


4.根据权利要求1所述的显影系统，其特征在于，所述滚轮固定装置包含一夹持机构，所述夹持机构安装于所述转动装置，并且所述夹持机构用来夹持所述金属滚轮；其中，当所述转动装置运作时，所述转动装置带动所述夹持机构转动，使所述金属滚轮被所述夹持机构夹持而转动。


5.根据权利要求1所述的显影系统，其特征在于，所述移动装置包含一升降机构以及安装于所述升降机构的一支撑机构；其中，所述支撑机构...

【专利技术属性】
技术研发人员：林刘恭，
申请(专利权)人：光群雷射科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：中国台湾;71