光罩保护装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术实施例提供一种光罩保护装置，涉及半导体技术领域。光罩保护装置包括光罩掩模板、框架和光罩保护膜，框架的一侧连接在光罩掩模板的侧面上，光罩保护膜连接在框架的另一侧，光罩保护膜为刚性透明膜。这样，光罩保护膜使用寿命长，不易损坏，不易产生污染气体，避免膜雾化发霉，能够提高产品良率，降低生产成本。

【技术实现步骤摘要】
光罩保护装置
本技术涉及半导体
，具体而言，涉及一种光罩保护装置。
技术介绍
光罩保护膜是光罩制程中不可或缺的零件，其主要功能是让污染物不会在半导体上成像，如果没有光罩保护膜，光刻机在曝光成像时就会影响成像效果，降低产品良率。但是，现有的光罩保护膜通常采用高分子膜，例如保鲜膜，至少存在以下缺陷：1.存在易破损且产生污染气体的可能性，造成光罩保护膜的表面产生雾化发霉(Haze)现象，进而影响产品的良率，对此，需要额外的设备对光罩保护膜进行检验，并采用人力追踪管理光罩保护膜，而且也不能完全保证避免光罩保护膜处于良好的状态，稍有不慎便有可能造成产品大量报废；2.如果更换损坏的光罩保护膜，会存在残胶难以去除的问题，操作困难、费时，影响正常的生产加工节奏，并且，更换光罩保护膜后需要对膜进行清洗，容易造成膜损坏。因此，设计一种光罩保护装置，其光罩保护膜使用寿命长，不易损坏，不易产生污染气体，避免膜雾化发霉，能够提高产品良率，降低生产成本，这是目前急需解决的技术问题。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种光罩保护装置，其能够延长使用寿命长，不易损坏，不易产生污染气体，避免膜雾化发霉，能够提高产品良率，降低生产成本。本技术的实施例是这样实现的：第一方面，本技术实施例提供一种光罩保护装置，光罩保护装置包括：光罩掩模板；框架，框架的一侧连接在光罩掩模板的侧面上；光罩保护膜，光罩保护膜连接在框架的另一侧，光罩保护膜为刚性透明膜。在可选的实施方式中，刚性透明膜为石墨烯膜或石英膜。在可选的实施方式中，框架的一端开设有进气孔，框架的另一端开设有出气孔，进气孔和出气孔均使框架的内部与外界连通。在可选的实施方式中，进气孔的内部或端部设置第一过滤网，出气孔的内部或端部设置第二过滤网。在可选的实施方式中，第一过滤网位于进气孔的入口端，第二过滤网位于出气孔的出口端。在可选的实施方式中，框架包括相对设置的第一侧板和第二侧板，进气孔位于第一侧板上、且贯穿第一侧板，出气孔位于第二侧板上、且贯穿第二侧板。在可选的实施方式中，光罩保护装置还包括：粘接层，粘接层粘接在框架与光罩掩模板之间。在可选的实施方式中，光罩保护装置还包括：光罩图案层，光罩图案层设置在光罩掩模板靠近框架的一侧、且位于框架的内部。在可选的实施方式中，光罩保护装置还包括：液态流体，液态流体导入在框架内，液态流体的光学数值孔径大于1。在可选的实施方式中，液态流体为水。本技术实施例提供的光罩保护装置的有益效果包括：首先，采用刚性透明膜作为光罩保护膜，相比于现有的高分子膜，本实施例中的光罩保护膜的刚性和结构强度更好，在光罩保护装置的使用过程中，光罩保护膜不易损坏和破裂，不易挥发出污染气体，避免发生膜雾化发霉的现象，使光罩保护膜长期保持清洁、透明，保证良好的透光效果，提高产品良率；其次，光罩保护膜的刚性和结构强度更好，使光罩保护膜的使用寿命更长，减少了更换光罩保护膜的次数，不仅节约了膜的成本和人工换膜的成本，而且，减少了光罩保护装置停机的时间，保证了正常的生产加工效率。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本技术的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。图1为本技术第一实施例提供的光罩保护装置的结构示意图；图2为本技术第一实施例提供的光罩保护装置的通入气体的状态示意图；图3为本技术第二实施例提供的光罩保护装置的结构示意图。图标：100-光罩保护装置；110-光罩掩模板；120-粘接层；130-框架；131-第一侧板；132-进气孔；133-第二侧板；134-出气孔；140-光罩图案层；150-第一过滤网；160-第二过滤网；170-光罩保护膜；180-液态流体。具体实施方式为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本技术实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此，以下对在附图中提供的本技术的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本技术的范围，而是仅仅表示本技术的选定实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。在本技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该技术产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。此外，术语“水平”、“竖直”等术语并不表示要求部件绝对水平或悬垂，而是可以稍微倾斜。如“水平”仅仅是指其方向相对“竖直”而言更加水平，并不是表示该结构一定要完全水平，而是可以稍微倾斜。在本技术的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。现有的光罩保护膜通常采用高分子膜，存在易损坏的缺陷，进而容易产生污染气体，造成膜雾化发霉现象，并且更换光罩保护膜困难、费时，影响正常生产。对此，本实施例提供一种光罩保护装置，能够解决上述缺陷，光罩保护装置的具体介绍，详见下文。第一实施例请参照图1，本实施例提供一种光罩保护装置100，其可以是微缩光掩模(photomask)系统或倍缩光掩模(reticle)系统。光罩保护装置100可用于制造半导体晶圆。光罩保护装置100包括光罩掩模板110、粘接层120、框架130、光罩图案层140、第一过滤网150、第二过滤网160和光罩保护膜170。其中，框架130的一侧连接在光罩掩模板110的侧面上，粘接层120粘接在框架130与光罩掩模板110之间，使框架130与光罩掩模板11本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光罩保护装置，其特征在于，所述光罩保护装置包括：/n光罩掩模板(110)；/n框架(130)，所述框架(130)的一侧连接在所述光罩掩模板(110)的侧面上；/n光罩保护膜(170)，所述光罩保护膜(170)连接在所述框架(130)的另一侧，所述光罩保护膜(170)为刚性透明膜。/n

【技术特征摘要】
1.一种光罩保护装置，其特征在于，所述光罩保护装置包括：
光罩掩模板(110)；
框架(130)，所述框架(130)的一侧连接在所述光罩掩模板(110)的侧面上；
光罩保护膜(170)，所述光罩保护膜(170)连接在所述框架(130)的另一侧，所述光罩保护膜(170)为刚性透明膜。


2.根据权利要求1所述的光罩保护装置，其特征在于，所述刚性透明膜为石墨烯膜或石英膜。


3.根据权利要求1所述的光罩保护装置，其特征在于，所述框架(130)的一端开设有进气孔(132)，所述框架(130)的另一端开设有出气孔(134)，所述进气孔(132)和所述出气孔(134)均使所述框架(130)的内部与外界连通。


4.根据权利要求3所述的光罩保护装置，其特征在于，所述进气孔(132)的内部或端部设置第一过滤网(150)，所述出气孔(134)的内部或端部设置第二过滤网(160)。


5.根据权利要求4所述的光罩保护装置，其特征在于，所述第一过滤网(150)位于所述进气孔(132)的入口端，所述第二过滤网(160)位于所述出气孔(134)的出口端。

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【专利技术属性】
技术研发人员：简永浩，郑怀志，蔡奇澄，萧志伟，
申请(专利权)人：泉芯集成电路制造济南有限公司，
类型：新型
国别省市：山东;37