荧光X射线分析装置制造方法及图纸

本发明专利技术的荧光X射线分析装置根据多路波高分析器(13)所输出的微分曲线、与针对作为一次射线的分析射线的规定的分析波高宽度和狭于该分析波高宽度的规定的狭小波高宽度，同时地获得作为二次X射线(7)的强度相对于联动机构(10)的扫描角度(20)的分布的分析波高宽度曲线和狭小波高宽度曲线。接着，针对分析波高宽度曲线以及狭小波高宽度曲线，进行分析射线的鉴定，在于分析波高宽度曲线中鉴定的分析射线中追加仅在狭小波高宽度曲线中鉴定的分析射线，形成分析射线的鉴定结果。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】荧光X射线分析装置相关申请本申请要求申请日为2018年8月9日、申请号为JP特愿2018－149950的申请的优先权，通过参照其整体，将其作为构成本申请的一部分的内容而进行引用。
本专利技术涉及扫描型的荧光X射线分析装置。
技术介绍
在扫描型荧光X射线分析装置中，使分光元件和检测器联动，获得作为相对于扫描角度2θ的二次X射线的强度分布的2θ曲线，通过峰检索和分析射线的鉴定来进行定性分析。在此，多个分光元件可与通过某个波长的X射线的一次衍射而得到的一次射线同时地将与通过该波长的1/n(n为2以上的自然数)的波长的X射线的高次衍射(n次衍射)而得到的高次射线(n次射线)分光。因此，在2θ曲线中，具有相对于作为某个元素的荧光X射线的一次射线的分析射线，有时出现在其他元素的荧光X射线的高次射线接近的扫描角度上而构成干扰射线，难以进行分析射线的鉴定的情况。在该场合，在对由检测器产生的脉冲中的规定的波高范围(所谓的窗口的宽度内)的脉冲进行挑选的波高分析器中，如果适当地缩狭窗口并再次取得2θ曲线，则可进行分析射线的鉴定，但是必须重新进行使分光元件与检测器联动的扫描，另外，适当地缩狭窗口以使得能够进行分析射线的鉴定这一点未必容易。因此，具有下述的扫描型荧光X射线分析装置，其利用多重波高分析器，通过一次扫描分别同时获得一次射线和高次射线的2θ曲线，进行分析射线的鉴定(参照专利文献1)。现有技术文献专利文献专利文献1：JP特开2001－41909号公报
技术实现思路
<br>专利技术要解决的课题但是，为了通过该装置而鉴定分析射线，必须根据一次射线和高次射线的2θ曲线，进行用于评价高次射线与一次射线的重叠的解析处理，而且为了进行该解析处理，必须预先实测标准试样，求出一次射线的峰强度与高次射线的峰强度之比。另外，即使对各个分析试样应用基于标准试样的实测的解析处理，也不能说一定能够正确地评价高次射线与一次射线的重叠。本专利技术是鉴于上述现有问题而完成的，其目的在于，提供一种能够迅速且正确地鉴定分析射线的扫描型荧光X射线分析装置。用于解决课题的技术方案为了达成上述目的，本专利技术的荧光X射线分析装置首先包括：X射线源，该X射线源对试样照射一次X射线；分光元件，该分光元件对从试样产生的二次X射线进行分光；检测器，通过上述分光元件分光的二次X射线入射到该检测器中，该检测器以与强度相对应的数量，产生与二次X射线的能量相对应的波高的脉冲；联动机构，该联动机构以入射到上述检测器中的二次X射线的波长变化的方式使上述分光元件与上述检测器联动。即，本专利技术的荧光X射线分析装置为扫描型的荧光X射线分析装置。本专利技术的荧光X射线分析装置还包括：多路波高分析器，该多路波高分析器通过按多个波高范围而分类，对由上述检测器产生的脉冲进行计数，输出作为二次X射线的强度相对于波高的分布的微分曲线；定性分析机构，该定性分析机构中，针对因上述联动机构使波长变化的同时射入上述上述检测器中的二次X射线，根据上述多路波高分析器所输出的微分曲线、针对作为一次射线的分析射线的规定的分析波高宽度和狭于该分析波高宽度的规定的狭小波高宽度，同时地获得作为二次X射线的强度相对于上述联动机构的扫描角度的分布的分析波高宽度曲线和狭小波高宽度曲线。另外，上述定性分析机构针对上述分析波高宽度曲线以及上述狭小波高宽度曲线进行分析射线的鉴定，在上述分析波高宽度曲线中鉴定的分析射线中追加仅在上述狭小波高宽度曲线中鉴定的分析射线，形成分析射线的鉴定结果。按照本专利技术的荧光X射线分析装置，通过利用多重波高分析器的一次扫描，获取在扫描角度上高次射线不接近分析射线的情况下适当的规定分析波高宽度的分析波高宽度曲线、在扫描角度上高次射线接近分析射线的情况下适当的规定狭小波高宽度的狭小波高宽度曲线，以用作2θ曲线。另外，由于在分析波高宽度曲线中鉴定的分析射线上自动地追加仅在狭小波高宽度曲线中鉴定的分析射线，故可迅速且正确地鉴定分析射线。最好，在本专利技术的荧光X射线分析装置中，上述分光元件为多种，通过更换机构而切换所使用的分光元件，上述定性分析机构对上述分析波高宽度曲线以及上述狭小波高宽度曲线进行高次射线的鉴定，上荧光X射线分析装置包括半定量分析机构，该半定量分析机构进行半定量分析作为基于上述分析波高宽度曲线以及上述狭小波高宽度曲线的定量分析，上述半定量分析机构像下述那样而进行动作。首先，在按每个分析元素选择分析射线时，判定是否鉴定出：对于在上述分析波高宽度曲线中鉴定出的分析射线构成干扰射线的高次射线。另外，如果未鉴定出高次射线，则选择该分析射线，如果鉴定出高次射线，则判断在上述分析波高宽度曲线中是否包含：通过去除该高次射线的分光元件而分光的相同的分析射线，此外，如果包含相同的分析射线，则选择该分析射线，如果不包含相同的分析射线，则判定在上述分析波高宽度曲线中是否包含线种类不同的分析射线。接着，如果不包含线种类不同的分析射线，则选择上述狭小波高宽度曲线中的研究中的分析射线，如果包含线种类不同的分析射线，则判断是否鉴定出：对于该线种类不同的分析射线构成干扰射线的高次射线。另外，如果没有鉴定出高次射线，则选择该线种类不同的分析射线，如果鉴定出高次射线，则在研究中的分析射线和线种类不同的分析射线中选择与高次射线的理论扫描角度差大的上述狭小波高宽度曲线中的分析射线。另外，根据以上顺序已选择的分析射线的强度来进行半定量分析。在该优选的方案的场合，在分析波高宽度曲线中包含通过去除高次射线的分光元件而分光的分析射线，针对每个分析元素，自动地选择在分析波高宽度曲线以及狭小波高宽度曲线中包含且所使用的分光元件不同的分析射线或者线种类不同的分析射线中没有高次射线的重叠或者高次射线的重叠最少的分析射线，因此，根据这些被选择的分析射线的强度，不需要对高次线的重叠进行修正，就能够充分正确地进行半定量分析。权利要求书和/或说明书和/或附图中公开的至少两个结构中的任意的组合均包含在本专利技术中。特别是，权利要求书中的各项权利要求的两个以上的任意的组合也包含在本专利技术中。附图说明根据参照附图的下面的优选的实施形式的说明，会更清楚地理解本专利技术。但是，实施形式和附图用于单纯的图示和说明，不应用于限制本专利技术的范围。本专利技术的范围由权利要求书确定。在附图中，多个附图中的同一部件标号表示同一部分。图1为表示本专利技术的一个实施方式的荧光X射线分析装置的概略图；图2为表示该荧光X射线分析装置的动作的流程图；图3为表示通过该荧光X射线分析装置而获取的分析波高宽度曲线的一例的图；图4为表示通过该荧光X射线分析装置而获取的狭小波高宽度曲线的一个例子的图；图5为表示在分析波高宽度曲线中针对所鉴定的分析射线，鉴定出构成干扰射线的高次射线的例子的图；图6为表示通过去除在图5中鉴定的高次射线的分光元件而分光的与图5相同的分析射线包含在分析波高宽度曲线中的例子的图；图7为表示在分析波高宽度曲线中含有线种类本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种荧光X射线分析装置，该荧光X射线分析装置包括：/nX射线源，该X射线源对试样照射一次X射线；/n分光元件，该分光元件对从试料产生的二次X射线进行分光；/n检测器，通过上述分光元件分光的二次X射线入射到该检测器中，该检测器以与强度相对应的数量，产生与二次X射线的能量相对应的波高的脉冲；/n联动机构，该联动机构以入射到上述检测器中的二次X射线的波长变化的方式使上述分光元件与上述检测器联动；/n多路波高分析器，该多路波高分析器通过按多个波高范围而分类，对由上述检测器产生的脉冲进行计数，输出作为二次X射线的强度相对于波高的分布的微分曲线；/n定性分析机构，该定性分析机构中，针对因上述联动机构使波长变化的同时射入上述检测器中的二次X射线，根据上述多路波高分析器所输出的微分曲线、针对作为一次射线的分析射线的规定的分析波高宽度和狭于该分析波高宽度的规定的狭小波高宽度，同时地获得作为二次X射线的强度相对于上述联动机构的扫描角度的分布的分析波高宽度曲线和狭小波高宽度曲线；/n上述定性分析机构针对上述分析波高宽度曲线以及上述狭小波高宽度曲线进行分析射线的鉴定，在上述分析波高宽度曲线中鉴定的分析射线中追加仅在上述狭小波高宽度曲线中鉴定的分析射线，形成分析射线的鉴定结果。/n...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180809 JP 2018-1499501.一种荧光X射线分析装置，该荧光X射线分析装置包括：
X射线源，该X射线源对试样照射一次X射线；
分光元件，该分光元件对从试料产生的二次X射线进行分光；
检测器，通过上述分光元件分光的二次X射线入射到该检测器中，该检测器以与强度相对应的数量，产生与二次X射线的能量相对应的波高的脉冲；
联动机构，该联动机构以入射到上述检测器中的二次X射线的波长变化的方式使上述分光元件与上述检测器联动；
多路波高分析器，该多路波高分析器通过按多个波高范围而分类，对由上述检测器产生的脉冲进行计数，输出作为二次X射线的强度相对于波高的分布的微分曲线；
定性分析机构，该定性分析机构中，针对因上述联动机构使波长变化的同时射入上述检测器中的二次X射线，根据上述多路波高分析器所输出的微分曲线、针对作为一次射线的分析射线的规定的分析波高宽度和狭于该分析波高宽度的规定的狭小波高宽度，同时地获得作为二次X射线的强度相对于上述联动机构的扫描角度的分布的分析波高宽度曲线和狭小波高宽度曲线；
上述定性分析机构针对上述分析波高宽度曲线以及上述狭小波高宽度曲线进行分析射线的鉴定，在上述分析波高宽度曲线中鉴定的分析射线中追加仅在上述狭小波高宽度曲线中鉴定的分析射线，形成分析射线的鉴定结果。


2.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：山田康治郎，原真也，松尾尚，
申请(专利权)人：株式会社理学，
类型：发明
国别省市：日本;JP