过滤制程数据的方法及其系统技术方案

本发明专利技术揭露一种过滤制程数据的方法及其系统，用以过滤送到一统计控制模型的制程数据，以提升该控制模型的性能。该数据过滤器从一组制程数据中选取一组样版数据、形成包括该组样版数据以及一组采样数据的一组网格、并计算出该组网格中的一网格的每一点间的一绝对距离以及使用该绝对距离计算出该网格的一点的一最小累加距离。依据该点的该最小累加距离，定义出一整体最佳路径、以及依据该整体最佳路径以及一组参考数据，重新对应该组采样数据以形成一组改变后数据。本发明专利技术可将制程数据变成与测量点的一组一致，进而提升制程效能。软件触发器失效问题也可通过消除其他晶圆包含的数据，从异常的晶圆制程中排除。

Method and system for filtering process data

The invention discloses a method for filtering process data and a system thereof for filtering the process data sent to a statistical control model to enhance the performance of the control model. The data filter is selected from a set of process data in a set of sample data, the sample data including group and a group, a group of grid sampling data and calculates a grid the set of grid in each point between an absolute distance and the absolute distance is calculated using the net a minimum cumulative distance lattice. According to the minimum accumulation distance of the point, an overall optimal path is defined, and the set of sampled data is re formed to form a set of changed data, based on the overall optimum path and a set of reference data. The invention can change the process data to a set of measuring points, thereby improving the process performance. The software trigger failure problem can also be eliminated from the abnormal wafer process by eliminating the data contained in other wafers.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是有关于 一种过滤统计制程数据(statistical process data)的方法及系统，用以增强制程效能。
技术介绍
在半导体制程中，晶圓群组或批次是经由 一 系列的制程所产 生。 一般而言， 一或多个制程将被进行多种测量以评估其效能。 此类的测量包括晶圆温度、晶圆厚度及其相关的测量。接着，这 些测量结果将送至一控制模型，以提供每个制程状态的统计特性 描述。然而，由于以下某些因素，这类数据的特性描述是不够的。 一个因素是由于制程与制程间的时间间隔并不 一 致。另 一 个因素 为所有晶圆批次的制程总时间可能不同。其次是因为彼此间的采 集(collection)的时间登记并不 一致，且共同的事件也不 一定对准 (align)。另一个因素为数据采集中并未包含某些测量。所以，控 制模型的限制参数必须定义的较广，此导致原先可被侦测到的潜 在误差可能无法被侦测到。一般而言，控制模型利用统计分析以包容这些潜在误差。一 种统计分析装置是对每一批次制程步骤的时间采样的读数计算其 平均值。然而，此一装置无法显示随时间的动态变动情形，因为 其只是计算出晶圆批次的每个制程步骤的一个平均值。举例来说， 即使相对于时间的变动的文件(profile)表现非常不 一样，但多个晶 圆或多个批次间的平均值也可能保持非常接近。此外，由于控制 模型的投射曲线并非 一 致(unsynchronized)，使得预期的数据样 本可能没办法得到，因此导致不正确的结果。再者，假设从控制模型中漏掉了某些测量，这些漏掉的测量将被假设为不影响采集的数据。举例来说，若在一个数据采集中 漏掉了某一项测量，所有测量的平均值计算将由计算剩余测量的 平均值取代。这结果将导致无法提供数据的正确统计特性。此外，现行的控制模型对于尖端或其他突然的改变(例如数值 的大量降低)并不灵敏，因此这些问题需要额外的小心。此也将导 致无法提供数据的正确统计特性的结果。因此，需要一种控制模型以及筛选或过滤采集的数据的方法，以晶圓与晶圆或批次与批次(batch)成熟度(maturity) —致、等量 化晶圓制程的时间、控制漏掉的数据以及调整偶发的异常现象的 方式，来篩选或过滤采集的数据。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术提供一种过滤制程数据的方法，用以监控 一具有多个制程的一设备(facility)的制程效能，用以处理半导体 晶圆的批次。此方法包括下列步骤。首先，接收所述制程中的一 组制程数据。接着，过滤此组制程数据，以形成一组过滤数据。 最后，将此组过滤数据送至一统计控制模型。此统计控制模型将 使用此组过滤数据以提供一 制程效能分析。本专利技术所述的过滤制程数据的方法，该过滤该组制程数据， 以形成该组过滤数据的步骤包括将该组制程数据分为 一 组样版 数据以及一组采样数据；由该组样版数据以及该组采样数据形成 一组网格，其中该组网格中每一网格具有至少一点；以及计算该 采样数据以及该网格中的一点的一绝对距离，以产生该组过滤数 据。本专利技术所述的过滤制程数据的方法，该计算该绝对距离的步 骤更包括计算该网格中的一点的一最小累加距离；依据该点的 该最小累加距离，定义出一整体最佳路径；以及依据该整体最佳路径以及该组样版数据，重新对应该组采样数据。本专利技术所述的过滤制程数据的方法，该组样版数据是从晶圓 的一批次中采集得到，且该批次具有在一时间周期内采集最频繁 的测量数据。本专利技术所述的过滤制程数据的方法，该组样版数据以及该组 采样数据包括一或多个变量的多个观察结果且所述变量包括晶圆 温度以及晶圆压力。本专利技术所述的过滤制程数据的方法，该网格包括 一 组的点， 其中在该组的点中的每一点表示一样版数据以及釆样数据组合的 一组测量值。本专利技术所述的过滤制程数据的方法，该网格中的每一点间的 该绝对距离是依据区域连续限制参数计算出。本专利技术还提供 一 种过滤统计制程数据的系统，该过滤统计制程数据的系统用以提升制程效能，其包括 一采集器，用以从晶 圆批次的制程中采集一组的制程数据； 一数据过滤器，用以过滤 该组制程数据，以形成一组过滤数据；以及一统计控制模型，用 以依据该组过滤数据以判断 一 制程的效能；其中该数据过滤器是 依据该制程数据的制程参数来从该组制程数据中选出 一 组样版数 据、形成包括该组样版数据以及一组采样数据的 一组网格(grid)、 并计算出该组网格中的 一 网格的每一点间的 一绝对距离。本专利技术所述的过滤统计制程数据的系统，该数据过滤器更用 来依据该绝对距离计算出该网格中的一点的一最小累加距离、 依据该点的该最小累加距离，定义出一整体最佳路径、以及依据 该整体最佳路径以及该组样版数据，重新对应该组采样数据以形 成该组过滤数据。本专利技术所述的过滤统计制程数据的系统，该采集器包括 一 先 进制程控制系统、该数据过滤器包括一错误侦测与分类系统、以及该统计控制模型包括 一 虛拟量测系统。本专利技术所述的过滤制程数据的方法及其系统，可将制程数据 变成与测量点的一组一致，进而提升制程效能。软件触发器失效 问题也可通过消除其他晶圆包含的数据，从异常地晶圆制程中排除。附困说明图l为 一示意图是显示一依据本专利技术实施例的过滤统计数据 系统的流程图。图2为一示意图是显示一数据处理系统的网络，其中具有一个 用来过滤统计制程数据以增加制程效能的系统。图3为 一 流程图是显示 一依据本专利技术实施例的过滤统计制程 数据以提升制程效能的制程方法。图4A为一示意图是显示一示范的参考以及采样数据。图4B为 一示意图是显示一 包括参考以及采样批次的 一组网格 的示范例。图5A至图5D为一示意图是显示加上各种区域连续性限制参 数的示范例。图6为一示意图是显示每个点的最小累加距离的计算方式范例。图7为 一 示意图是显示从一 组网格的 一 终点到 一起点的 一 整 体最佳路径的示范搜寻例。图8为一示意图是显示利用整体最佳路径重新对应采样批次 的示范例。图9为 一 示意图是显示晶圓批次的制程间的时间延迟。附图说明图10为 一 示意图是显示 一 晶圆制程式样的范例。图ll为一示意图是显示一触发器失效的评估示范例。 图12为一示意图是显示一 目前(current)统计分析模型的数据分析示范例。图13为一示意图是显示一依据本专利技术的数据过滤器的数据分 析示范例。图14为 一 示意图是显示 一依据本专利技术的数据过滤器的数据范 围缩紧的示范例。具体实施例方式为使本专利技术的上述和其他目的、特征和优点能更明显易懂， 下文特举出较佳实施例，并配合所附图式，作详细说明如下。本专利技术是有关于一种过滤统计制程数据的方法及系统，用以 增强制程效能。以下讨论的实施例仅仅是用以例示本专利技术。如同 以下参照图示i兌明的实施例所例示的， 一些更动、润饰或》务改这 些被描述的方法或装置都可能对于本领域技术人员来说是非常明 显的。而这些从本专利技术的揭露所延伸的更动、润饰或修改，都当 视为落入本专利技术的精神与范围内。所以，以下的说明及图示并不应该用以限定本专利技术，而本专利技术也不应该#:限定在以下所揭露的 实施例。再者，图示中部分重复的编号是为了方便说明，并非表 示图示中需要任何的方法或装置的组合。图l是显示一依据本专利技术实施例的过滤统计数据系统的流程 图。统计制程数据10是于晶圆批次的制造过程中由本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种过滤制程数据的方法，其特征在于，该过滤制程数据的方法，用以监控在一具有多个制程的一设备的制程效能，用以处理半导体晶圆的批次，该方法包括下列步骤：由所述制程中接收一组制程数据；过滤该组制程数据，以形成一组过滤数据；以及提供该组过滤数据至一统计控制模型；其中该统计控制模型使用该组过滤数据以提供一制程效能分析。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：叶曙纯，林俊贤，
申请(专利权)人：台湾积体电路制造股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]