存储器阈值电压均匀性的电性测试方法技术

技术编号:27659140 阅读:22 留言:0更新日期:2021-03-12 14:25
本发明专利技术提供了一种存储器阈值电压均匀性的电性测试方法,包括:向选择管施加第一电压,让选择管一直开启;连接所有存储单元的接源线,连接所有存储单元的位线以及连接所有存储单元的基极区;向存储管施加第二电压,第二电压为扫描电压;第二电压每变化一次电压,在存储管上施加一次脉冲电压;量测基极区的电流;将基极区的电流和第二电压的值做成阈值电压表;保持基极区的电流恒定,第二电压变化的幅度越小,则存储器阈值电压越均匀。本发明专利技术可以不使用额外的测试结构,可以同时测试所有存储单元的阈值电压,以判断存储器的阈值电压是否均匀,测试简单,并且,不用编写测试程序,测试时间较短,减少存储器开发的时间。

【技术实现步骤摘要】
存储器阈值电压均匀性的电性测试方法
本专利技术涉及半导体
,尤其是涉及一种存储器阈值电压均匀性的电性测试方法。
技术介绍
在存储器开发中,各个存储单元的阈值电压均匀性是存储单元技术的重要指标,现有的技术中,以2T存储单元为例,存储单元是以阵列形式排布,各个存储单元之间主要的连接端包括选择管的字线(SGwordline),存储管字线(wordline),源线(sourceline)和漏极区(drainline),以及基极区。存储单元制作完成后,需要进行电性测试,在存储单元流片完成后的电性测试(WAT)阶段,现有技术采用的方法为,在测试单元周围设置测试结构,每个测试结构上的pin连接各个存储单元,每个测试单元需要一个pin。然而这种测试结构只能测试阵列中有限数量的存储单元的阈值电压,例如,4个存储单元的测试需要超过5个pin的测试结构,如果测试所有阵列中存储单元的阈值电压需要很多的pin,在测试结构有限的面积下不可能实现,所以无法通过testkey(测试结构)来测试整个阵列的阈值电压和分布,也就无法知道整个阵列的阈值电压均匀性。并且,现有技术评估存储单元阈值电压均匀性还需要设计完整的测试电路,包括外围的擦写操作电路和读取电路,同时需要建立特殊测试程序,这需要比较长的时间和投入,延长了存储器开发的时间。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种存储器阈值电压均匀性的电性测试方法,可以测试测试存储器中的多个存储单元的阈值电压的均匀性,并且测试简单,测试时间短。为了达到上述目的,本专利技术提供了种存储器阈值电压均匀性的电性测试方法,用于测试存储器中的多个存储单元的阈值电压是否均匀,所述存储单元包括:衬底、位于所述衬底内的基极区、位于所述衬底表面的并且具有一定距离的选择管和存储管、位于所述选择管一侧的源线以及位于所述存储管一侧的位线,所述选择管和所述存储管均位于所述源线和所述位线之间,所述电性测试方法包括:向所述选择管施加第一电压,使得所述选择管一直保持开启状态;连接所有存储单元的所述接源线,连接所有存储单元的位线以及连接所有存储单元的基极区;向所述存储管施加第二电压,所述第二电压提供扫描电压;所述第二电压每变化一次,向所述存储管施加一次脉冲电压;量测所述基极区的电流;将所述基极区的电流和第二电压的值做成阈值电压表;保持所述基极区的电流恒定,所述第二电压变化的幅度越小,则存储器阈值电压越均匀。可选的,在所述的存储器阈值电压均匀性的电性测试方法中,所述第一电压是恒定电压。可选的,在所述的存储器阈值电压均匀性的电性测试方法中,所述第二电压的范围为-4v~4v。可选的,在所述的存储器阈值电压均匀性的电性测试方法中,所述第二电压变化的步进为0.1v。可选的,在所述的存储器阈值电压均匀性的电性测试方法中,所述脉冲电压的电压为2v,频率为1MHz。可选的,在所述的存储器阈值电压均匀性的电性测试方法中,向选择管施加第一电压的方法包括:向所述选择管的字线施加第一电压。可选的,在所述的存储器阈值电压均匀性的电性测试方法中,向存储管施加第二电压的方法包括:向所述存储管的字线施加第二电压。可选的,在所述的存储器阈值电压均匀性的电性测试方法中,在所述存储管的栅极上施加脉冲电压。可选的,在所述的存储器阈值电压均匀性的电性测试方法中,所述阈值电压表的横坐标为第二电压的值,所述阈值电压表的纵坐标为基极区电流的值。可选的,在所述的存储器阈值电压均匀性的电性测试方法中,随着第二电压的增大,基极区的电流先升高再降低。本专利技术还提供了一种存储器阈值电压均匀性的电性测试方法,用于测试存储器中的多个存储单元的阈值电压是否均匀,所述存储单元包括:衬底、位于所述衬底内的基极区、位于所述衬底表面的存储管、位于所述存储管一侧的源线以及位于所述存储管另一侧的位线,所述存储管位于所述源线和所述位线之间,所述电性测试方法包括:连接所有存储单元的所述接源线,连接所有存储单元的位线以及连接所有存储单元的基极区;向所述存储管施加扫描电压;所述扫描电压每变化一次,再向所述存储管施加一次脉冲电压;量测所述基极区的电流;将所述基极区的电流和扫描电压的值做成阈值电压表;保持所述基极区的电流恒定,所述扫描电压变化的幅度越小,则存储器阈值电压越均匀。可选的,在所述的存储器阈值电压均匀性的电性测试方法中,向存储管施加扫描电压的方法包括:向所述存储管的字线施加扫描电压。可选的,在所述的存储器阈值电压均匀性的电性测试方法中,在所述存储管的栅极上施加脉冲电压。在本专利技术提供的存储器阈值电压均匀性的电性测试方法中,首先向所述选择管施加第一电压,让所述选择管一直开启;接着,连接所有存储单元的所述接源线、位线和基极区;接着,向所述存储管施加第二电压,所述第二电压为扫描电压;接着,所述第二电压每变化一次电压,在所述存储管上施加一次脉冲电压;接着,量测所述基极区的电流;接着,将所述基极区的电流和第二电压的值做成阈值电压表;最后,保持基极区的电流恒定,第二电压变化的幅度越小,则存储器阈值电压越均匀。相对于现有技术,本专利技术可以不使用额外的测试结构,可以同时测试所有存储单元的阈值电压,以判断存储器的阈值电压是否均匀,测试简单,并且,不用编写测试程序,测试时间较短,减少存储器开发的时间。附图说明图1是本专利技术实施例一的存储单元的结构示意图;图2是本专利技术实施例一的存储器阈值电压均匀性的电性测试方法的流程图;图3是本专利技术实施例一的阈值电压表的示意图;图4是本专利技术实施例二的存储单元的结构示意图;图5是本专利技术实施例二的存储器阈值电压均匀性的电性测试方法的流程图;图6是本专利技术实施例二的阈值电压表的示意图;图中:110-基极区、120-选择管、121-选择管字线、130-存储管、131-存储管字线、132-第一ONO层、133-第二ONO层、140-源线、150-位线、210-基极区、230-存储管、231-存储管字线、240-源线、250-位线。具体实施方式下面将结合示意图对本专利技术的具体实施方式进行更详细的描述。根据下列描述,本专利技术的优点和特征将更清楚。需说明的是,附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例,仅用以方便、明晰地辅助说明本专利技术实施例的目的。在下文中,术语“第一”“第二”等用于在类似要素之间进行区分,且未必是用于描述特定次序或时间顺序。要理解,在适当情况下,如此使用的这些术语可替换。类似的,如果本文所述的方法包括一系列步骤,且本文所呈现的这些步骤的顺序并非必须是可执行这些步骤的唯一顺序,且一些所述的步骤可被省略和/或一些本文未描述的其他步骤可被添加到该方法。实施例一请参照图1,本专利技术提供了一种存储单元,包括:衬底、位于所述衬底内的基极区110,位于衬底表面的并且具有一定距离的选择管120和存储管130,位于本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种存储器阈值电压均匀性的电性测试方法,用于测试存储器中的多个存储单元的阈值电压是否均匀,所述存储单元包括:衬底、位于所述衬底内的基极区、位于所述衬底表面的并且具有一定距离的选择管和存储管、位于所述选择管一侧的源线以及位于所述存储管一侧的位线,所述选择管和所述存储管均位于所述源线和所述位线之间,其特征在于,所述电性测试方法包括:/n向所述选择管施加第一电压,使得所述选择管一直保持开启状态;/n连接所有存储单元的所述接源线,连接所有存储单元的位线以及连接所有存储单元的基极区;/n向所述存储管施加第二电压,所述第二电压提供扫描电压;/n所述第二电压每变化一次,向所述存储管施加一次脉冲电压;/n量测所述基极区的电流;/n将所述基极区的电流和第二电压的值做成阈值电压表;/n保持所述基极区的电流恒定,所述第二电压变化的幅度越小,则存储器阈值电压越均匀。/n

【技术特征摘要】
1.一种存储器阈值电压均匀性的电性测试方法,用于测试存储器中的多个存储单元的阈值电压是否均匀,所述存储单元包括:衬底、位于所述衬底内的基极区、位于所述衬底表面的并且具有一定距离的选择管和存储管、位于所述选择管一侧的源线以及位于所述存储管一侧的位线,所述选择管和所述存储管均位于所述源线和所述位线之间,其特征在于,所述电性测试方法包括:
向所述选择管施加第一电压,使得所述选择管一直保持开启状态;
连接所有存储单元的所述接源线,连接所有存储单元的位线以及连接所有存储单元的基极区;
向所述存储管施加第二电压,所述第二电压提供扫描电压;
所述第二电压每变化一次,向所述存储管施加一次脉冲电压;
量测所述基极区的电流;
将所述基极区的电流和第二电压的值做成阈值电压表;
保持所述基极区的电流恒定,所述第二电压变化的幅度越小,则存储器阈值电压越均匀。


2.如权利要求1所述的存储器阈值电压均匀性的电性测试方法,其特征在于,所述第一电压是恒定电压。


3.如权利要求1所述的存储器阈值电压均匀性的电性测试方法,其特征在于,所述第二电压的范围为-4v~4v。


4.如权利要求1所述的存储器阈值电压均匀性的电性测试方法,其特征在于,所述第二电压变化的步进为0.1v。


5.如权利要求1所述的存储器阈值电压均匀性的电性测试方法,其特征在于,所述脉冲电压的电压为2v,频率为1MHz。


6.如权利要求1所述的存储器阈值电压均匀性的电性测试方法,其特征在于,向选择管施加第一电压的方法包括:向所述选择管的字线施加第一电压。


7.如权利要求1所述的存储器阈值电压均匀性...

【专利技术属性】
技术研发人员:唐小亮李妍辻直樹陈昊瑜
申请(专利权)人:上海华力微电子有限公司
类型:发明
国别省市:上海;31

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