一种显示面板及显示装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术实施例公开了一种显示面板及显示装置。显示面板包括：基板、设置于基板上的有机发光结构以及设置于所述有机发光结构远离所述基板一侧的光取出层；还包括薄膜封装层，所述薄膜封装层设置于所述光取出层远离所述基板的表面；所述薄膜封装层包括与所述光取出层接触的第一无机层，所述第一无机层至少包括依次层叠设置的第一子无机层、第二子无机层和第三子无机层，所述第一子无机层与所述光取出层接触，所述第一子无机层的折射率小于所述第二子无机层和所述第三子无机层的折射率，且所述第一子无机层的折射率小于所述光取出层的折射率。本实用新型专利技术的方案提高了显示面板的耐弯折性，且保证显示面板具有较好的显示效果。

【技术实现步骤摘要】
一种显示面板及显示装置
本技术实施例涉及显示
，尤其涉及一种显示面板及显示装置。
技术介绍
有机发光二极管(OrganicLightEmittingDiode，OLED)显示面板是一种自发光显示面板，OLED显示面板由于具有轻薄、高亮度、宽视角、高响应速度以及宽使用温度范围等优点而越来越多地被应用于各种高性能显示领域中。现有的OLED显示面板存在耐弯折性较差的问题。
技术实现思路
本技术提供一种显示面板及显示装置，以提高显示面板的耐弯折性。第一方面，本技术实施例提供了一种显示面板，包括：基板、设置于基板上的有机发光结构以及设置于所述有机发光结构远离所述基板一侧的光取出层；还包括薄膜封装层，所述薄膜封装层设置于所述光取出层远离所述基板的表面；所述薄膜封装层包括与所述光取出层接触的第一无机层，所述第一无机层至少包括依次层叠设置的第一子无机层、第二子无机层和第三子无机层，所述第一子无机层与所述光取出层接触，所述第一子无机层的折射率小于所述第二子无机层和所述第三子无机层的折射率，且所述第一子无机层的折射率小于所述光取出层的折射率。可选的，所述第一子无机层的折射率为1.45-1.5。可选的，所述第一子无机层采用的材料包括氧化硅。可选的，所述第二子无机层采用的材料包括SiNaOb或SiN，所述第三子无机层采用的材料包括SiNcOd，其中，a、b、c和d为正整数，且a/b＞c/d。可选的，0.6≤a/b≤1.5，0.2≤c/d<0.6。r>可选的，所述薄膜封装层还包括有机层和第二无机层，所述有机层设置于所述第一无机层和所述第二无机层之间，且所述第二无机层层设置于所述有机层远离所述光取出层的一侧。可选的，所述第二无机层采用的材料包括SiN。可选的，所述第一子无机层的厚度范围为10微米-200微米，所述第二子无机层的厚度范围为500微米-1200微米，所述第三子无机层的厚度范围为50微米-200微米。可选的，所述有机发光结构包括第一电极、第二电极以及设置于所述第一电极和所述第二电极之间的发光功能层；所述第一电极设置于所述发光功能层邻近所述光取出层的一侧。第二方面，本技术实施例还提供了一种显示装置，包括本技术任意实施例所述的显示面板。本技术实施例去除光取出层与薄膜封装层之间的LiF层，保证显示面板具有较高的耐弯折性。同时设置薄膜封装层的第一无机层包括第一子无机层、第二子无机层和第三子无机层，第一子无机层的折射率小于第二子无机层和第三子无机层的折射率，且第一子无机层的折射率小于光取出层的折射率，使得第一子无机层与光取出层具有较大的折射率差异，使得第一子无机层与光取出层之间的反射界面具有较强的反射作用，保证调节光取出层的厚度可以调节显示面板的视角及亮度衰减的作用，保证显示面板具有较好的显示效果。附图说明图1是本实施例提供的一种显示面板的示意图；图2是本实施例提供的一种显示装置的示意图。具体实施方式下面结合附图和实施例对本技术作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本技术，而非对本技术的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本技术相关的部分而非全部结构。正如
技术介绍
中提到的现有的显示面板存在耐弯折性较差的问题，专利技术人经过研究发现出现这种问题的原因在于显示面板中存在易碎的膜层，例如LiF层，导致显示面板经多次弯折后容易出现某些膜层破碎，影响显示面板的显示效果。基于上述问题，本申请提供了一种显示面板，图1是本实施例提供的一种显示面板的示意图，参考图1，该显示面板包括：基板10、设置于基板10上的有机发光结构20以及设置于有机发光结构20远离基板10一侧的光取出层30；还包括薄膜封装层40，薄膜封装层40设置于光取出层30远离基板10的表面；薄膜封装层40包括与光取出层30接触的第一无机层41，第一无机层41至少包括依次层叠设置的第一子无机层411、第二子无机层412和第三子无机层413，第一子无机层411与光取出层30接触，第一子无机层411的折射率小于第二子无机层412和第三子无机层413的折射率，且第一子无机层411的折射率小于光取出层30的折射率。其中，基板10是驱动有机发光结构20发光的阵列基板，基板10包括显示区和非显示区，显示区实现显示面板的画面显示，非显示区对应的区域不呈现画面。基板10可包括衬底、缓冲层以及薄膜晶体管(Thin-FilmTransistor，TFT)。有机发光结构20形成在TFT上，有机发光结构20和TFT均位于基板10的显示区内。有机发光结构20通常包括第一电极21、第二电极22以及设置于第一电极21和第二电极22之间的发光功能层23；第一电极21设置于发光功能层23邻近光取出层30的一侧。第二电极22(阳极)通过接触孔电连接(或结合)到TFT的源电极或漏电极。如果在第一电极21和第二电极22之间施加电压，则发光功能层23发射可见光，从而实现能被使用者识别的图像。其中，发光功能层23可以包括电子注入层、电子传输层、有机发光层、空穴传输层和空穴注入层等膜层。光取出层30用于调节显示面板的出光率。薄膜封装层40用于保护有发光结构20以及显示面板中其它膜层免受湿气和氧气的影响。具体的，现有技术中光取出层30和薄膜封装层40之间设置有LiF层，专利技术人通过研究发现LiF层材料脆且易碎，在数十万的弯折次数下，该膜层可能会出现断裂破碎，易造成膜层损伤及剥离，导致显示面板的耐弯折性能较差。本实施例去除光取出层30与薄膜封装层40之间的LiF层，保证显示面板具有较高的耐弯折性。同时设置薄膜封装层40的第一无机层41包括第一子无机层411、第二子无机层412和第三子无机层413，第一子无机层411的折射率小于第二子无机层412和第三子无机层413的折射率，且第一子无机层411的折射率小于光取出层30的折射率，使得第一子无机层411与光取出层30具有较大的折射率差异，使得第一子无机层411与光取出层30之间的反射界面具有较强的反射作用，保证调节光取出层30的厚度可以调节显示面板的视角及亮度衰减的作用，保证显示面板具有较好的显示效果。可选的，第一子无机层411的折射率为1.45-1.5。具体的，光取出层30的折射率一般为1.95左右，通过设置第一子无机层411的折射率为1.45-1.5，保证了第一子无机层411与光取出层30具有较大的折射率差异，使得第一子无机层411与光取出层30之间的反射界面具有较强的反射作用，保证调节光取出层30的厚度可以调节显示面板的视角及亮度衰减的作用，保证显示面板具有较好的显示效果。可选的，第一子无机层411采用的材料包括氧化硅。具体的，由于氧化硅具有较好的水氧阻隔性，设置第一子无机层411采用的材料包括氧化硅可以保证薄膜封装层40具有较好的水氧阻隔性能。可选的，第本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示面板，其特征在于，包括：/n基板、设置于基板上的有机发光结构以及设置于所述有机发光结构远离所述基板一侧的光取出层；/n还包括薄膜封装层，所述薄膜封装层设置于所述光取出层远离所述基板的表面；所述薄膜封装层包括与所述光取出层接触的第一无机层，所述第一无机层至少包括依次层叠设置的第一子无机层、第二子无机层和第三子无机层，所述第一子无机层与所述光取出层接触，所述第一子无机层的折射率小于所述第二子无机层和所述第三子无机层的折射率，且所述第一子无机层的折射率小于所述光取出层的折射率。/n

【技术特征摘要】
1.一种显示面板，其特征在于，包括：
基板、设置于基板上的有机发光结构以及设置于所述有机发光结构远离所述基板一侧的光取出层；
还包括薄膜封装层，所述薄膜封装层设置于所述光取出层远离所述基板的表面；所述薄膜封装层包括与所述光取出层接触的第一无机层，所述第一无机层至少包括依次层叠设置的第一子无机层、第二子无机层和第三子无机层，所述第一子无机层与所述光取出层接触，所述第一子无机层的折射率小于所述第二子无机层和所述第三子无机层的折射率，且所述第一子无机层的折射率小于所述光取出层的折射率。


2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于：
所述第一子无机层的折射率为1.45-1.5。


3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于：
所述第一子无机层采用的材料包括氧化硅。


4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于：
所述第二子无机层采用的材料包括SiNaOb或SiN，所述第三子无机层采用的材料包括SiNcOd，其中，a、b、c和d为正整数，且a/b＞c/d。


5.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：关彦涛，孙颖，方旭阳，刘明星，冯士振，窦晓宇，马天，
申请(专利权)人：合肥维信诺科技有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽;34