【技术实现步骤摘要】
一种用于制备高纯六氟化钨的吸附塔
本技术涉及一种用于制备高纯六氟化钨的吸附塔,属于六氟化钨制备
技术介绍
六氟化钨在电子工业中主要用作金属钨化学气相沉积(CVD)工艺的原材料,用WF6制成的WSi2可用作大规模集成电路(LSI)中的配线材料。随着电子工业产品精密化程度的提高,也对作为原材料的WF6的纯度提出了极高的要求,当要求纯度达到99.999%以上时,必须对工业品WF6进行净化提纯以适应半导体行业需求。高纯六氟化钨的制备往往需要对其含有的金属杂质以及HF进行过滤,目前一般采用吸附塔对六氟化钨中HF进行吸附,利用吸附塔内填充的吸附剂颗粒吸附除去HF,但目前吸附塔内填充的吸附剂底部的利用率远远大于顶部的,从而影响吸附效果。
技术实现思路
针对现有技术中存在的不足,本技术提供一种用于制备高纯六氟化钨的吸附塔,主要是通过将吸附剂底部使用率高的吸附剂颗粒推出,同时加入新的吸附剂颗粒,不仅可以大大提高吸附剂的利用率,而且能够提高吸附效果。本技术的目的是通过以下技术方案实现的。一种用于制备高纯六氟化钨的吸附塔,所述吸附塔包括吸附塔本体、吸附剂、上料机构以及出料机构;所述吸附塔本体内从上至下依次设有挡网以及过滤网,挡网上填充有吸附剂,所述过滤网用于过滤六氟化钨中的颗粒状杂质;在过滤网下方的吸附塔本体上安装有进气管,在挡网上方且紧挨着挡网处的吸附塔本体侧壁上设有出料口,出料口内安装有阀门,在填充的吸附剂上方的吸附塔本体上设有进料口以及安装有出气管;所述吸附剂为颗粒状 ...
【技术保护点】
1.一种用于制备高纯六氟化钨的吸附塔,其特征在于:所述吸附塔包括吸附塔本体、吸附剂、上料机构以及出料机构;/n所述吸附塔本体内从上至下依次设有挡网以及过滤网,挡网上填充有吸附剂,所述过滤网用于过滤六氟化钨中的颗粒状杂质;在过滤网下方的吸附塔本体上安装有进气管,在挡网上方且紧挨着挡网处的吸附塔本体侧壁上设有出料口,出料口内安装有阀门,在填充的吸附剂上方的吸附塔本体上设有进料口以及安装有出气管;/n所述吸附剂为颗粒状,用于吸附六氟化钨中的HF;/n所述上料机构与进料口相配合,用于向吸附塔本体内加入新的吸附剂颗粒;/n所述出料机构与出料口相配合,用于将吸附塔本体内填充的吸附剂底部的吸附剂颗粒排出。/n
【技术特征摘要】
1.一种用于制备高纯六氟化钨的吸附塔,其特征在于:所述吸附塔包括吸附塔本体、吸附剂、上料机构以及出料机构;
所述吸附塔本体内从上至下依次设有挡网以及过滤网,挡网上填充有吸附剂,所述过滤网用于过滤六氟化钨中的颗粒状杂质;在过滤网下方的吸附塔本体上安装有进气管,在挡网上方且紧挨着挡网处的吸附塔本体侧壁上设有出料口,出料口内安装有阀门,在填充的吸附剂上方的吸附塔本体上设有进料口以及安装有出气管;
所述吸附剂为颗粒状,用于吸附六氟化钨中的HF;
所述上料机构与进料口相配合,用于向吸附塔本体内加入新的吸附剂颗粒;
所述出料机构与出料口相配合,用于将吸附塔本体内填充的吸附剂底部的吸附剂颗粒排出。
2.根据权利要求1所述的一种用于制备高纯六氟化钨的吸附塔,其特征在于:所述上料机构包括储料箱、螺旋输送机、进料筒、第一气缸和第一推板;
进料筒的一端安装有第一气缸,进料筒的另一端与进料口连接;储料箱与进料筒之间通过螺旋输送机连接;第一推板位于进料筒的内部且与第一气缸的伸缩末端固定连接,与进料筒内壁接触的第一推板外壁上套设有密封圈;
其中,未进料时,第一推板位于接近进料口的进料筒一端。
3.根据权利要求1所述的一种用于制备高纯六氟化钨的吸附塔,其特征在于:所述出料机构包括第二气缸和第二推板;
第二气缸的伸缩末端延伸至吸附塔本体内,第二推板放置在挡网上且与第二气缸的伸缩末端固定连接,第二气缸用于带动第二推板移动。
4.根据权利要求3所述的一种用于制备高纯六氟化钨的吸附塔,其特征在于:第二推板为楔形板,楔形板的底部与挡网的上表面贴近,楔形板的平面端朝向出料口,楔形板的斜面端相背出料口。
5.根据权利要求1至4任一项所述的一种用于制备高纯六氟化钨的吸附塔,其特征在于:所述吸附塔还包括循环利用机构、清理机构和搅拌机构中的至少一种;
所述循环利用机构,用于对吸附塔本体排出的吸附剂颗粒进行脱附,并将脱附后的吸附剂颗粒储存到储料箱中;
所述清理机构,用于清理过滤网网孔中堵塞的杂质颗粒;
所述搅拌机构,用于搅拌吸附塔本体内堆积的吸附剂颗粒。
6.根据权利要求5所述的一种用于制备高纯六氟化钨的吸附塔,其特征在于:所述循环利用机构包括...
【专利技术属性】
技术研发人员:林坤,张长金,王占卫,杨万吉,马朝选,王亚峰,郑秋艳,张琴,
申请(专利权)人:中船重工邯郸派瑞特种气体有限公司,
类型:新型
国别省市:河北;13
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