充电设备涂层制造技术

描述了一种用于电晕充电设备的导电性胶乳／抗氧剂涂层，其能够吸收在静电摄影或静电复印工艺过程中产生的排出物，一种制造和施涂该涂层的方法。

【技术实现步骤摘要】

<^开的实施方案总体上涉及静电打印系统和这些系统的电 晕充电组件。
技术介绍
在静电摄影术中，使用一种系统，借此在可再用光电导表 面上设置均匀静电荷。带电的光电导表面然后暴露于原稿的光图像，并 且电荷被有选择地消耗，在感光体上形成原稿的静电潜像。通过在感光 体表面上沉积调色剂，细分标记和带电颗粒，变为静电附着于静电潜像 的带电区域，产生原稿的可见副本，使潜像显影。调色的显影图像然后 从感光体转印到最终图像载体材料，例如纸上，并通过加热和压力固定 到图像载体介质上，形成对应于原稿的永久副本。 在这种静电复印系统中，感光体表面可以布置在穿过静电 复印系统的各个处理区的路径中。光电导或感光体表面可以再用，因为 在将调色剂图像转印到载体材料之后，几个充电区可以往返移动，这样像，用于翻印另一个原稿。例如，充电区可以设置在其中在感光体表面 上需要均匀电荷的位置，例如转印区、清除区等。 充电区可以使用许多方法，例如电子发射插脚、电子发射 栅极、单电暈放电结构和单或多双电暈管电线组合件，将静电荷施加到 感光体或光敏元件的光电导或感光体表面。电晕管、电晕充电装置和双 电晕管，在此共同称为"电晕管"，通常用于静电复印法并使用高压电 能产生"电晕"，其在感光体表面上放电，以在感光体表面上布置均匀 电荷。"电晕，，可以定义为带电离子的局部聚集或"云堆"，其 可能受影响向相反带电目标移动。电暈管通过在细电线上设置高直流 (DC)电位产生电暈，其可以带正电或带负电。相反，双电晕管在玻璃包 覆电线上使用交流电(AC)电位产生正离子和负离子。电晕管的电线构成 电晕产生电极，其通常是高度导电的。电线可以装在称为"绝缘体"的 两个绝缘锚之间拉长的U形外壳上，所述锚将电线承载和容纳在外壳内的单个平面中。电晕管通常紧密位于感光体表面附近，并且在感光体上设置带有DC偏压的屏障或屏蔽，其电压可以决定电荷的极性和幅值，并且可以用来将电晕管的电荷引向感光体。 电晕可以含有许多离子，例如H+和N4+,其为AC和正DC 设备的主要正离子，以及经常在负DC放电中存在的负离子，例如 NCV(氮氧化物，其中x-l或2)、 03'(臭氧)等。AC设备(双电晕管)也可 以产生O-、 OH-、 CV、 NCV、 CCV等离子。其中，臭氧和氮氧化物可以 以较大量存在，并且可以在充电步骤期间作为排出物散发到周围大气 中。这些化合物通常与例如吗啉和/或感光体本身的有机化合物是高度反 应性的，产生消极影响感光体和最终复制件的横向电荷迁移(LCM)和/ 或驻停缺失(parking deletion)。目前，风扇和/或特殊涂层在不同程度上 成功地用来除去或中和气体。 —氧化氮缺失或驻停缺失在这些静电复印系统中已经是一 个普遍和持久的问题。其名称来自当充电设备长时间运行时，较大量氮 氧化物(NOx)和臭氧(03)积累的概念。这些排出物吸附在邻近固体的表面 上，并且当机器停止运转时，感光体阻止旋转并"驻停"在与充电设备 直接邻近的小块区域。经过一个短时期，吸附的排出物在称为脱气的步 骤中从充电设备释放。因为感光体非常紧密地邻近充电设备驻停，所以 感光体的小块局部区域发生破坏并且可能产生导致缺失术语的图像消 失区域。 横向电荷迁移(LCM)可能涉及经由电暈和大气污染物，例 如吗啉和有机硝酸盐的相互作用形成的导电性盐类在感光体上的沉积。这些沉积可能在感光体上形成膜，引起静电图像模糊或感光体表面 上调色剂分布不均匀，以及有时部分图像消失。 感光体也已经被证明对可能在静电摄影步骤期间散发的硝 酸型化合物，例如HN03和HN02是敏感的。HN03和HN02为由充电设 备产生的NOx与空气中作为湿气天然存在的水蒸汽的化合物。硝酸侵蚀 感光体的输送层中的某些分子，使它们变得过于导电。这种升高的导电 率使得感光体上任何形成的电荷漏入有时错误地称为横向电荷迁移的 侵蚀或蔓延区域中的地下，以及因为在这些区域中调色剂对于感光体并 不显影，所以靠近酸侵蚀的图像区域呈现空白或在稍小程度上呈现模 糊。 在此包含的公开内容描述解决上述一个或多个问题的尝试。
技术实现思路
实施方案总体上涉及一种电晕充电设备，其具有外壳、至少一个电晕产生电极和覆盖至少一部分外壳的涂层，该涂层包括其中分 散有至少一种抗氧剂的导电性胶乳材料。在一些实施方案中，由电晕放 电形成的至少一种排出物可以被涂层吸收，而在其它实施方案中，电暈 也许能承受电晕放电，而没有涂层外观的显著劣化。该涂层可以具有低于约10,000 ohm每平方的导电率，以及在实施方案中，导电性胶乳材料 可以含有炭黑。 在某些实施方案中，胶乳材料可以为水溶性的，并且抗氧 剂可以为水溶性的，或者胶乳材料可以为有机可溶性的，并且抗氧剂可 以为有才几可溶性的。实施方案的抗氧剂可以为选自谷胱甘肽、抗坏血 酸、尿酸、莰非醇(kaeferol)、洋蓟酸(cynadin)、多酚、多酚酸、多酚酸 酯、烷基化苯酚、2,4-二曱基-6-叔丁基苯酚、2,6-二叔丁基-4-曱基苯酚、 丁基化羟基甲苯(BHT)、 丁基化羟基苯曱醚(BHA)、乙二胺四乙酸 (EDTA)、 二曱亚砜(DMSO)、苯乙烯化二苯胺、二烷基二硫代磷酸锌和/ 或对苯乙烯化二苯胺的至少一种抗氧剂。在一些实施方案中，抗氧剂可 以为涂层材料总体积的约0.5体积％到约10体积％，以及在其它实施方 案中可以为约1体积％。涂层可以为约l微米到约50微米厚。 在实施方案中，胶乳材料可以进一步含有一种或多种选自 粘合剂、稀释剂、填料和添加剂的组分，并且添加剂可以为颜料、染料、 催化剂、增稠剂、稳定剂、乳化剂、表面活性剂、调质剂、粘合促进剂、 平整剂、消光剂、交联剂、防腐剂、阻燃剂、分散剂、定影剂、辅助剂、 抗褪色剂、抗微生物剂、緩冲剂及其组合。在一些实施方案中，电晕充 电设备可以具有不同于导电性胶乳材料的排出物吸收涂层。其它实施方案涉及一种制造电暈充电设备的方法，包括向 电晕充电设备施加一种包括导电性胶乳材料的涂层，该导电性胶乳材料 中分散有至少一种抗氧剂。该涂层可以作为固体、气溶月交或液体施加， 并且可以由选自喷涂、刷涂、辊涂、浸涂、熔融和/或倾注的方法施加。 在一些实施方案中，电暈充电设备可以在施加涂层之前加以清洗，以及 在其它实施方案中，可以在施加涂层材料之前施加底漆层。在其它实施方案中，施加涂层材料之后，可以干燥电晕充电设备。附图说明 图1描绘现有技术的无涂层电晕管设备的顶视图。 图2描绘胶乳涂布的电晕管设备的顶视图。 图3描绘制造涂布的电暈充电设备的方法的流程图。 图4为描绘几种电暈充电设备的平均消失的柱状图。具体实施方式 在此/>开以下实施方案。 方案1. 一种电暈充电设备，包括外壳；至少一个电晕产生电极；和覆盖至少一部分外壳的涂层，该涂层包括其中分散有至少 一种抗氧剂的导电性胶乳材料。 方案2.方案1的电暈充电设备，其中由电暈充电设备产生 的至少 一种排出物被涂层吸收。 方案3.方案1的电晕充电设备，其中涂层能经受电暈放 电，而没有涂层外观的显著劣化。 方案4.方案1的电晕充电设备，其中涂层具有低于约 10,000 ohm每平方的导电率。方案5.方案1的电晕充电设备，其中胶乳材料本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电晕充电设备，包括：　外壳；　至少一种电晕产生电极；和　覆盖至少一部分外壳的涂层，该涂层包括其中分散有至少一种抗氧剂的导电性胶乳材料。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：CD布莱尔，TP德比斯，BR哈文斯，
申请(专利权)人：施乐公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]