一种新型阵列基板膜层结构制造技术

本实用新型专利技术涉及OLED面板阵列基板技术领域，特别涉及一种新型阵列基板膜层结构，包括玻璃基板，玻璃基板的一侧面的正常区上依次层叠设有第一栅极金属层、第一栅极绝缘层、第一有源层、第一源漏极金属层、第一钝化层、第一平坦层、第一阳极层、第一画素定义层和第一阴极层，通过设置第一栅极金属层、第一源漏极金属层和第一阳极层，且正常区的第一栅极金属层、第一源漏极金属层和第一阳极层均采用夹层结构，这样使得正常区拥有良好的显示效果以及更低的功耗；而且使得面板的增透区与正常区的像素密度可以保持一致，改善了现有屏下摄像头终端设备为了保证摄像头区域的透光率对部分像素进行留白缩减像素密度而导致观感上存在色差。差。差。

【技术实现步骤摘要】
一种新型阵列基板膜层结构


[0001]本技术涉及OLED面板阵列基板
，特别涉及一种新型阵列基板膜层结构。

技术介绍

[0002]从“全面屏”这一概念出现后，人们就开始向着这一目标前行，经过努力，导航按键、听筒、传感器、指纹识别模组等都成功地实现了隐藏，新的封装工艺也让边框宽度不断下降，然而胜利在望的时刻，前置摄像头这一“钉子户”却成了最后的阻碍；于是异形屏成为了主流，同时也引起了大量用户的不满；机械结构虽然保证了屏幕完整性，但又让机身变得厚重，可靠性也有下降。
[0003]所谓屏下摄像头，需要前置摄像头上方的屏幕显示区域在摄像头关闭时呈现正常的显示状态，当摄像头启动后，这一区域又能够确保前置相机拥有充足的进光量；因此，搭载屏下摄像头的终端产品必须用到透光率非常高的OLED(即有机发光二极管)屏，否则，进光量不足就会对前置相机的成像效果产生影响。
[0004]OLED屏幕虽然是可以透光的，但透光率其实比较低；光学指纹识别可以通过屏幕的主动高亮发光照亮被摄画面，来弥补透光率低的问题，然而用于拍照的前置摄像头大部分情况则只能被动接受环境光，在摄像头模组本身较小、感光能力较弱的情况下，透光率便成了一个大问题；目前比较主流的做法就是此类“低PPI方案”，不过并不是让整个屏幕PPI(每英寸所拥有的像素数目)变低，而是只在摄像头区域的一小部分屏幕做此类低PPI设计，同时这也导致与周围屏幕有显示差异；目前的屏幕PPI大约在400左右，而PPI在这个水平，相机中光的透过率是很低的，这样就严重影响了拍照效果；而如果把PPI降低，提高透过率，就会出现显示区域的PPI和整个屏幕的PPI差距很大，从而出现显示区域有色块等现象。
[0005]在MWC19上海，OPPO首度展出其屏下摄像头解决方案“透视全景屏”，吸引了众人关注的目光，但试用者发现，屏下摄像头技术并没有想象的那么成熟：拍照时成像清晰度不高，出现了明显泛白的情况；摄像头区域的显示效果和屏幕其他区域有显著色差，近看则更加明显。

技术实现思路

[0006]本技术所要解决的技术问题是：提供一种新型阵列基板膜层结构，在不增加额外光罩和不缩减像素数量的前提下，增加面板特定区域的透光度。
[0007]为了解决上述技术问题，本技术采用的技术方案为：
[0008]一种新型阵列基板膜层结构，包括玻璃基板，所述玻璃基板的一侧面的正常区上依次层叠设有第一栅极金属层、第一栅极绝缘层、第一有源层、第一源漏极金属层、第一钝化层、第一平坦层、第一阳极层、第一画素定义层和第一阴极层；
[0009]所述第一栅极绝缘层上开设有第一过孔，所述第一过孔中填充有第一源漏极金属层，所述第一源漏极金属层分别与第一栅极金属层、第一栅极绝缘层、第一有源层和第一钝
化层接触，所述第一源漏极金属层上开设有第二过孔，所述第二过孔中填充有第一钝化层，所述第一钝化层分别与第一有源层和第一源漏极金属层接触，所述第一钝化层上开设有第三过孔，所述第一平坦层上开设有第四过孔，所述第四过孔与第三过孔相对设置且相通，所述第三过孔和第四过孔中均填充有第一阳极层，所述第三过孔中的第一阳极层分别与第一源漏极金属层和第一钝化层接触，所述第四过孔中的第一阳极层分别与第一平坦层和第一画素定义层接触，所述第一画素定义层上开设有第五过孔，所述第五过孔中填充有第一有机发光层，所述第一有机发光层分别与第一阳极层、第一画素定义层和第一阴极层接触；
[0010]所述第一栅极金属层、第一源漏极金属层和第一阳极层均为夹层结构。
[0011]本技术的有益效果在于：
[0012]通过设置第一栅极金属层、第一源漏极金属层和第一阳极层，且正常区的第一栅极金属层、第一源漏极金属层和第一阳极层均采用夹层结构，这样使得正常区拥有良好的显示效果以及更低的功耗；而且使得面板的增透区与正常区的像素密度可以保持一致，改善了现有屏下摄像头终端设备为了保证摄像头区域的透光率对部分像素进行留白缩减像素密度而导致观感上存在色差；本方案设计的阵列基板膜层结构，在不增加额外光罩和不缩减像素数量的前提下，能够增加面板特定区域透光度，这样可以为隐藏在屏下各类元器件提供更好的工作条件，使得全面屏更好的实现。
附图说明
[0013]图1为根据本技术的一种新型阵列基板膜层结构的结构示意图；
[0014]图2为根据本技术的一种新型阵列基板膜层结构的结构示意图；
[0015]图3为根据本技术的一种新型阵列基板膜层结构的结构示意图；
[0016]图4为根据本技术的一种新型阵列基板膜层结构的应用实例的结构示意图；
[0017]图5为根据本技术的一种新型阵列基板膜层结构的应用实例的结构示意图；
[0018]图6为根据本技术的一种新型阵列基板膜层结构的应用实例的结构示意图；
[0019]标号说明：
[0020]1、玻璃基板；
[0021]11、正常区；1101、第一栅极金属层；1102、第一栅极绝缘层；1103、第一有源层；1104、第一源漏极金属层；1105、第一钝化层；1106、第一平坦层；1107、第一阳极层；1108、第一画素定义层；1109、第一阴极层；1110、第一有机发光层；
[0022]12、增透区；1201、第二栅极金属层；1202、第二栅极绝缘层；1203、第二有源层；1204、第二源漏极金属层；1205、第二钝化层；1206、第二平坦层；1207、第二阳极层；1208、第二画素定义层；1209、第二阴极层；1210、第二有机发光层；1211、金属反射层。
具体实施方式
[0023]为详细说明本技术的
技术实现思路
、所实现目的及效果，以下结合实施方式并配合附图予以说明。
[0024]请参照图1，本技术提供的技术方案：
[0025]一种新型阵列基板膜层结构，包括玻璃基板，所述玻璃基板的一侧面的正常区上依次层叠设有第一栅极金属层、第一栅极绝缘层、第一有源层、第一源漏极金属层、第一钝
化层、第一平坦层、第一阳极层、第一画素定义层和第一阴极层；
[0026]所述第一栅极绝缘层上开设有第一过孔，所述第一过孔中填充有第一源漏极金属层，所述第一源漏极金属层分别与第一栅极金属层、第一栅极绝缘层、第一有源层和第一钝化层接触，所述第一源漏极金属层上开设有第二过孔，所述第二过孔中填充有第一钝化层，所述第一钝化层分别与第一有源层和第一源漏极金属层接触，所述第一钝化层上开设有第三过孔，所述第一平坦层上开设有第四过孔，所述第四过孔与第三过孔相对设置且相通，所述第三过孔和第四过孔中均填充有第一阳极层，所述第三过孔中的第一阳极层分别与第一源漏极金属层和第一钝化层接触，所述第四过孔中的第一阳极层分别与第一平坦层和第一画素定义层接触，所述第一画素定义层上开设有第五过孔，所述第五过孔中填充有第一有机发光层，所述第一有机发光层分别与第一阳极层、第一画素定义层和第一阴极层接触；
[0027]所述第一栅本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种新型阵列基板膜层结构，其特征在于，包括玻璃基板，所述玻璃基板的一侧面的正常区上依次层叠设有第一栅极金属层、第一栅极绝缘层、第一有源层、第一源漏极金属层、第一钝化层、第一平坦层、第一阳极层、第一画素定义层和第一阴极层；所述第一栅极绝缘层上开设有第一过孔，所述第一过孔中填充有第一源漏极金属层，所述第一源漏极金属层分别与第一栅极金属层、第一栅极绝缘层、第一有源层和第一钝化层接触，所述第一源漏极金属层上开设有第二过孔，所述第二过孔中填充有第一钝化层，所述第一钝化层分别与第一有源层和第一源漏极金属层接触，所述第一钝化层上开设有第三过孔，所述第一平坦层上开设有第四过孔，所述第四过孔与第三过孔相对设置且相通，所述第三过孔和第四过孔中均填充有第一阳极层，所述第三过孔中的第一阳极层分别与第一源漏极金属层和第一钝化层接触，所述第四过孔中的第一阳极层分别与第一平坦层和第一画素定义层接触，所述第一画素定义层上开设有第五过孔，所述第五过孔中填充有第一有机发光层，所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈宇怀，
申请(专利权)人：福建华佳彩有限公司，
类型：新型
国别省市：