本发明专利技术提供一种与药液接触时所得到的药液的残渣缺陷抑制性及桥接缺陷抑制性优异的部件。并且，提供一种容器、药液收容体、反应槽、蒸馏塔、过滤器单元、存储罐、管路及药液的制造方法。本发明专利技术的部件为与药液接触的部件，上述部件的表面由含有铬原子及铁原子的不锈钢构成，从上述部件的表面沿着深度方向至10nm，测量上述铬原子相对于上述铁原子的原子比时，在从上述部件的表面沿深度方向3nm以内显示上述原子比的最大值，上述最大值为0.5～3.0，上述部件的表面的表面平均粗糙度为10nm以下。部件的表面的表面平均粗糙度为10nm以下。部件的表面的表面平均粗糙度为10nm以下。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】部件、容器、药液收容体、反应槽、蒸馏塔、过滤器单元、存储罐、管路、药液的制造方法
[0001]本专利技术涉及一种部件、容器、药液收容体、反应槽、蒸馏塔、过滤器单元、存储罐、管路及药液的制造方法。
技术介绍
[0002]半导体制造工艺中包括微影工艺、蚀刻工艺、离子注入工艺及剥离工艺等各种工艺。然而，在结束各工艺之后或者继续下一工艺之前，通常含有利用药液来进行处理的工艺。
[0003]半导体制造工艺中，由于少量的异物等引起缺陷的产生，因此药液通常需要具有高纯度且高清洁度的特征。例如已知关于光刻工艺中所使用的预湿液、显影液及冲洗液等药液，对形成有包含微量的金属成分等杂质的图案的性能影响较大。
[0004]通过将氟树脂材料用于接液部以进一步减少金属成分杂质的含量，但使用显示高体积电阻的溶剂的情况，伴随流动电荷等产生静电，尤其超过2kV的情况，根据使用方法的不同存在伴随放电引起的接液部件的损伤和/或液的污染等危险。
[0005]在专利文献1公开有能够维持极少量高纯度化学药品中的颗粒数量的高纯度化学药品的供给装置，上述供给装置含有内部表面被电解抛光的不锈钢制容器本身。
[0006]以往技术文献
[0007]专利文献
[0008]专利文献1：日本特开2004-233254号公报
技术实现思路
[0009]专利技术要解决的技术课题
[0010]本专利技术人等对在专利文献1中公开的收容于容器的药液进行了研究，其结果发现对收容后的药液的残渣缺陷抑制性及桥接缺陷抑制性具有改善的余地。
[0011]因此，本专利技术的课题在于提供一种与药液接触时所得到的药液的残渣缺陷抑制性及桥接缺陷抑制性优异的部件。
[0012]并且，本专利技术的课题在于提供一种容器、药液收容体、反应槽、蒸馏塔、过滤器单元、存储罐、管路及药液的制造方法。
[0013]用于解决技术课题的手段
[0014]本专利技术人等为解决上述课题而进行了深入研究的结果，发现了通过以下的结构能够解决上述课题。
[0015]〔1〕一种部件，其与药液接触，其中，
[0016]上述部件的表面由含有铬原子及铁原子的不锈钢构成，
[0017]从上述部件的表面沿着深度方向至10nm，测量上述铬原子相对于上述铁原子的原子比时，在从上述部件的表面沿深度方向3nm以内显示上述原子比的最大值，
[0018]上述最大值为0.5～3.0，
[0019]上述部件的表面的表面平均粗糙度为10nm以下。
[0020]〔2〕根据〔1〕所述的部件，其中，
[0021]上述表面平均粗糙度为0.10～10nm。
[0022]〔3〕根据〔1〕或〔2〕所述的部件，其中，
[0023]上述部件的表面的上述铬原子相对于上述铁原子的原子比为1.1～2.5。
[0024]〔4〕根据〔1〕至〔3〕中任一项所述的部件，其中，
[0025]对上述部件的表面进行电解抛光。
[0026]〔5〕根据〔4〕所述的部件，其中，
[0027]在上述电解抛光之前，对上述部件的表面还实施了除上述电解抛光以外的表面处理。
[0028]〔6〕根据〔4〕或〔5〕所述的部件，其中，
[0029]在上述电解抛光之后，对上述部件的表面还实施了酸处理。
[0030]〔7〕根据〔1〕至〔6〕中任一项所述的部件，其用于选自由半导体制造用的药液的制造、储存、运输及转移组成的组中的至少1种。
[0031]〔8〕根据〔7〕所述的部件，其中，
[0032]上述药液的体积电阻率为500,000,000Ωm以上。
[0033]〔9〕一种容器，其收容药液，其中，
[0034]上述溶液的接液部的至少一部分包含〔1〕至〔8〕中任一项所述的部件。
[0035]〔10〕一种药液收容体，其含有〔8〕所述的容器及收容于上述容器的药液。
[0036]〔11〕根据〔10〕所述的药液收容体，其中，
[0037]上述药液为混合溶剂，所述混合溶剂相对于上述药液的总质量含有20～80质量％的相对于二十碳烯的汉森溶解度参数的距离为3～20MPa
0.5
的有机溶剂，且相对于上述药液的总质量含有20～80质量％的相对于二十碳烯的汉森溶解度参数的距离不为3～20MPa
0.5
的有机溶剂。
[0038]〔12〕根据〔10〕所述的药液收容体，其中，
[0039]上述药液含有选自由丙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇单甲醚、乙酸丁酯、环己酮、4-甲基-2-戊醇、异丙醇、乙醇、丙酮、碳酸亚丙酯、γ-丁内酯、乙酸异戊酯、丙二醇单乙醚、丙二醇单丙醚、乳酸乙酯、甲氧基丙酸甲酯、环戊酮、二异戊醚、二甲亚砜、N-甲基吡咯烷酮、二乙二醇、乙二醇、二丙二醇、丙二醇、碳酸亚乙酯、环丁砜、环庚酮及2-庚酮、丁酸丁酯、异丁酸异丁酯、十一烷、丙酸戊酯、丙酸异戊酯、乙基环己烷、均三甲苯、癸烷、3，7-二甲基-3-辛醇、2-乙基-1-己醇、1-辛醇、2-辛醇、乙酰乙酸乙酯、丙二酸二甲酯、丙酮酸甲酯及草酸二甲酯组成的组中的1种以上。
[0040]〔13〕根据〔10〕至〔12〕中任一项所述的药液收容体，其中，
[0041]上述药液的体积电阻率为500,000,000Ωm以上。
[0042]〔14〕根据〔10〕所述的药液收容体，其中，
[0043]上述药液为碱性显影液。
[0044]〔15〕根据〔10〕至〔14〕中任一项所述的药液收容体，其中，
[0045]上述药液相对于药液的质量含有0.1～100000质量ppt的沸点为250℃以上的有机
成分。
[0046]〔16〕根据〔10〕至〔15〕中任一项所述的药液收容体，其中，
[0047]在上述容器内的空隙部中填充有不活泼气体。
[0048]〔17〕一种反应槽，其用于使原料反应而得到作为反应物的药液，其中，
[0049]上述反应槽的接液部的至少一部分包含〔1〕至〔8〕中任一项所述的部件。
[0050]〔18〕一种蒸馏塔，其用于对被纯化物进行纯化而得到作为纯化物的药液，其中，
[0051]上述蒸馏塔的接液部的至少一部分包含〔1〕至〔8〕中任一项所述的部件。
[0052]〔19〕一种过滤器单元，其用于对被纯化物进行纯化而得到作为纯化物的药液，其中，
[0053]上述过滤器单元的接液部的至少一部分包含〔1〕至〔8〕中任一项所述的部件。
[0054]〔20〕一种存储罐，其存储用于进行反应而得到作为反应物的药液的原料或用于进行纯化而得到作为纯化物的药液的被纯化物，其中，
[0055]上述存储罐的接液部的至少一部分包含〔1〕至〔8〕中任一项所述的部件。
[0056]〔21〕一种管路，其为用于转移上述药液，其中，
[0057]上述管路的接液部的至少一部分包含〔1〕至〔8〕中任一项所述的部件。
[0058]本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种部件，其与药液接触，其中，所述部件的表面由含有铬原子及铁原子的不锈钢构成，从所述部件的表面沿着深度方向至10nm，测量所述铬原子相对于所述铁原子的原子比时，在从所述部件的表面沿深度方向3nm以内显示所述原子比的最大值，所述最大值为0.5～3.0，所述部件的表面的表面平均粗糙度为10nm以下。2.根据权利要求1所述的部件，其中，所述表面平均粗糙度为0.10nm～10nm。3.根据权利要求1或2所述的部件，其中，所述部件的表面的所述铬原子相对于所述铁原子的原子比为1.1～2.5。4.根据权利要求1至3中任一项所述的部件，其中，对所述部件的表面进行电解抛光。5.根据权利要求4所述的部件，其中，在所述电解抛光之前，对所述部件的表面还实施了除所述电解抛光以外的表面处理。6.根据权利要求4或5所述的部件，其中，在所述电解抛光之后，对所述部件的表面还实施了酸处理。7.根据权利要求1至6中任一项所述的部件，其用于选自由半导体制造用的药液的制造、储存、运输及转移组成的组中的至少1种。8.根据权利要求7所述的部件，其中，所述药液的体积电阻率为500,000,000Ωm以上。9.一种容器，其收容药液，其中，所述溶液的接液部的至少一部分包含权利要求1至8中任一项所述的部件。10.一种药液收容体，其含有权利要求8所述的容器及收容于所述容器的药液。11.根据权利要求10所述的药液收容体，其中，所述药液为混合溶剂，所述混合溶剂相对于所述药液的总质量含有20质量％～80质量％的相对于二十碳烯的汉森溶解度参数的距离为3MPa
0.5
～20MPa
0.5
的有机溶剂，且相对于所述药液的总质量含有20质量％～80质量％的相对于二十碳烯的汉森溶解度参数的距离不为3MPa
0.5
～20MPa
0.5
的有机溶剂。12.根据权利要求10所述的药液收容体，其中，所述药液含有选自由丙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇单甲醚、乙酸丁酯、环己酮、4-甲基-2-戊醇、异丙醇、乙醇、丙酮、碳酸亚丙酯、γ-丁内酯、乙酸异戊酯、丙二醇单乙醚、丙二醇单丙醚、乳酸乙酯、甲氧基丙酸甲酯、环戊酮、二异戊醚、二甲亚砜、N-甲基吡咯烷酮、二乙二醇、乙二醇、二丙二醇、丙二醇、碳酸亚乙酯、环丁砜、环庚酮、2-庚酮、丁酸丁酯、异丁酸异丁酯、十一烷、丙酸戊酯、丙酸异戊酯、乙基环己烷、均三甲苯、癸烷、3，7-二甲基-3-辛醇、2-乙基-1-己醇、1-辛醇、2-辛醇、乙酰乙酸乙酯、丙二酸二甲酯、丙酮酸甲酯及草酸二...
【专利技术属性】
技术研发人员：清水哲也，上村哲也，高桥智美，大松祯，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：
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