光学头制造技术

本发明专利技术提供了一种即使在发光元件之间存在发光量的偏差时，也可以形成画质良好的图像的光学头。其包括：各自都具有多个发光元件的多个发光元件模块；控制多个发光元件的发光量的多个模块发光量控制部；按每个发光元件模块来校正多个发光元件的发光量的多个模块发光量校正部。优选模块发光量校正部对发光元件的发光量进行校正，以使各发光元件模块的发光量大致均匀。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及在电子照相方式的打印机、复印机等中的感光体上形成潜像的光学头。
技术介绍
在打印机或复印机等图像形成装置中，为了在被预先充电的感光体上形成静电潜像，使用了高速照射预定图案的曝光光的光学头。在日本专利文献特开昭61-182966号公报中公开了如下的图像形成装置，其中，在副扫描方向上排列多个发光元件，在感光体的同一位置上进行多次记录，从而即使使用的是发光输出低的发光元件，也无需加长一次的发光时间，就能实现了打印的高速化。该图像形成装置具有m×n个存储图像数据的存储单元，并通过使(A)向存储单元输入m个图像数据的一列；(B)通过存储单元中所存储的图像数据来点亮记录阵列头，在感光鼓上记录静电潜像；(C)通过将存储单元中的一列图像数据移向下一列这样的步骤反复n次来实现n次的多重曝光。专利文献1日本专利文献特开昭61-182966号公报。但是，在上述日本专利文献特开昭61-182966号公报的图像形成装置中，由于在排列于主扫描方向及副扫描方向上的发光元件之间在发光量上具有偏差，因而产生了无法形成画质良好的图像的问题。
技术实现思路
因此，本专利技术将解决上述问题，并提供一种在感光体上高速地形成潜像的光学头作为研究课题。为了解决上述问题，本专利技术的光学头包括多个发光元件模块，各发光元件模块具有多个发光元件；多个模块发光量控制部，用于控制多个发光元件的发光量；和多个模块发光量校正部，用于按每一个发光元件来校正多个发光元件的所述发光量。在所述结构中，在设置了多个发光元件模块的光学头中，按每个发光元件模块，对设置于所述发光元件模块中的多个发光元件的发光量一并进行调节。因此，根据所述结构，当发光元件模块之间在发光量上存在偏差时，即使在不具备调节各发光元件的发光量的结构时，也可以使光学头的发光量均匀。此外，根据所述结构，例如，虽然设置于有机EL元件等各发光元件模块上的多个发光元件之间的发光量的偏差很少，但是即使当发光元件模块之间的发光量偏差很大时，也能够以极其简易的结构来控制各发光元件模块的发光量。在所述光学头中，优选模块发光量控制部具有恒定电压电路，用于根据基准电压生成提供给多个发光元件的发光电压；模块发光量校正部通过对提供给对应的模块发光量控制部的基准电压进行校正来校正发光量。在所述结构中，按每个发光元件模块对多个发光元件一并调节使发光元件发光的电压进行。因此，根据所述结构，可以容易地调节发光元件模块间的发光量，因而可以提供发光量均匀的光学头。在该述光学头中，优选模块发光量校正部具有设定了阻值的电阻元件，以便校正基准电压，使得在多个发光元件模块之间多个发光元件的发光量大致均匀。在所述结构中，通过调节生成基准电压的电阻元件的阻值，从而发光元件模块的发光量得以调节。因此，根据所述结构，可以通过更为简易的结构来调节发光元件模块之间的发光量。此外，根据所述结构，还可以按每个发光元件模块，将设置成可调的电阻元件设置在各发光元件模块的外部。因此，根据该结构，即使在将多个发光元件模块作为光学头组装之后，也可以进行调节而使得发光元件模块之间的发光量均匀。本专利技术的另一光学头为光学头的控制装置，使得发光元件矩阵的各发光元件在副扫描方向上依次发光，并对配置于主扫描方向上的多个像素分别进行多重曝光，其中所述发光元件矩阵通过将排列在副扫描方向上的发光元件组进一步在主扫描方向上排列多列而形成，所述光学头包括存储器单元，其具有调节数据寄存器及与多个像素对应设置的多个像素数据寄存器，并接收用于校正提供给发光元件矩阵的电力的调节数据以及用于分别曝光多个像素的多个像素数据，并将该调节数据及该多个像素数据依次移位并分别存储到调节数据寄存器及多个像素数据寄存器中；元件驱动电路，其根据存储在像素数据寄存器中的像素数据，使与所述像素数据对应的发光元件发光；电力调节电路，其根据调节数据，对提供给发光矩阵的各发光元件的电力进行调节。在所述结构中，电力调节电路基于调节数据寄存器中所保存的调节数据，对多个发光元件的发光量一并进行调节。因此，当光学头具有多个芯片时，即使各芯片之间在发光量上存在偏差，也可以对其进行抑制。此外，在所述结构中，通过调节数据来调节发光量。因此，芯片制造后或者光学头制之后，进而即使是打印机组装后，也可以适当改变调节数据寄存器中所保存的调节数据，并抑制发光量的偏差。此外，即使在光学头的发光量随时间变化等而发生变化时，也可以适当改变调节数据从而将发光量调节为期望的量。作为在光学头的发光量和/或形成图像中产生偏差的主要原因，例如有如下几点(1)将光学头安装在打印机装置上时，感光体与行头之间空隙的不均匀性；(2)由感光体的固体偏差而形成的表面电位的不均匀性；(3)由充电装置与感光体的关系而产生的表面电位的不均匀性；(4)显影辊与感光体之间空隙的不均匀性；(5)由转印带的固体偏差而形成的表面电位的不均匀性；(6)感光体与转印带之间空隙的不均匀性；(7)转印带与纸张之间空隙的不均匀性；(8)由制造工序上的综合原因所引起的印刷调色剂浓度的不均匀性等。根据上述结构，至少可以抑制由于这其中的任一个原因所导致的发光量和/或形成图像的偏差。上述光学头优选还包括对调节数据进行模拟转换的模拟转换电路，并且电力调节电路根据模拟转换后的调节数据来调节电力。根据上述结构，可以根据调节数据容易地调节被提供给各发光元件的电力。上述光学头还可以包括多个移位寄存器，所述多个移位寄存器具有多个转送寄存器，所述多个转存寄存器分别与主扫描方向上所配置的多个像素对应设置，并将从对应的图像数据寄存器接收的图像数据依次移位。附图说明图1是本专利技术中的有机EL阵列曝光头从上看到的俯视图；图2是安装在基板34上的状态下的、头芯片1之一的示意图，图2(a)是其俯视图，图2(b)是其长轴方向上的剖面图；图3是用于说明在把头芯片1配置成两列锯齿状时的、各列的每一列的头芯片1的间隔的俯视图；图4(a)为表示有机EL阵列曝光头的发光部的配置具体结构的俯视图，图4(b)为说明使用图4(a)所示的有机EL阵列曝光头，对感光体表面进行曝光时的曝光位置的俯视图；图5是图4(a)的变形例中的有机EL曝光头的元件配置的参考俯视图；图6是说明串联方式打印机中的、曝光头控制电路的整体结构的图；图7是有机EL阵列曝光头的电路结构的示意图；图8是在有机EL阵列曝光头中所使用的驱动IC的电路结构的示意图；图9是有机EL元件79的光量校正电路的结构的一个例子的示意图；图10是有机EL元件79的光量调节电路的结构的一个例子的示意图；图11是有机EL阵列曝光头驱动部的电路结构的示意图；图12是有机EL元件的驱动部的具体电路的示意图；图13是图11的变形例中的有机EL阵列曝光头驱动部的电路结构的示意图；图14是图12的变形例中的有机EL元件的驱动部的具体电路的示意图；图15(a)和图15(b)是与驱动IC的图像数据(发光时间数据)接收相关的时序的示意图；图16是向主轴方向的移位寄存器传送图像数据的时序的示意图；图17是表示控制有机EL阵列的通电的部分的主要信号，与PWM控制时序的图；图18是关于构成有机EL阵列的多行有机EL的通电时序的具体情况的示意图；图19是有机EL阵列曝光头中使用的驱动IC的电路结构的其他例子的示意图；图20本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学头，包括：多个发光元件模块，各发光元件模块具有多个发光元件；多个模块发光量控制部，用于控制所述多个发光元件的发光量；和多个模块发光量校正部，用于按每一个所述发光元件来校正所述多个发光元件的所述发光量。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：黑瀬光一，野村雄二郎，辻野净士，井熊健，
申请(专利权)人：精工爱普生株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]