一种密封结构制造技术

本实用新型专利技术实施例提供了一种密封结构，属于密封件技术领域，所述密封结构包括：第一主体，所述第一主体包括：第一密封面，所述第一密封面为第一主体的一个端面；密封槽，所述密封槽内凹设置在第一密封面上；以及压力通道，所述压力通道贯通设置在第一主体内，且所述压力通道的第一端连通所述密封槽；第二主体，所述第二主体包括一第二密封面，且所述第二密封面对于第一密封面设置；以及密封圈，所述密封圈设置在密封槽内，且所述密封圈贴合所述第二主体；其中，所述压力通道的第二端连通一压力源，并通过压力源使得密封圈压在第二主体上。达到密封圈和第二主体之间贴合紧密的技术效果。密封圈和第二主体之间贴合紧密的技术效果。密封圈和第二主体之间贴合紧密的技术效果。

【技术实现步骤摘要】
一种密封结构


[0001]本技术涉及密封件
，尤其涉及一种密封结构。

技术介绍

[0002]目前端面之间的密封方式多为压合，如第二主体压合在第一主体上；为了进一步保证端面之间的密封性能，一般会在第一主体和第二主体之间垫设上密封垫，利用端面对密封垫的挤压作用，使得密封垫被挤压而贴合在上、下两个端面上，以使得上、下两个端面之间的缝隙被完全填充，达到密封的目的。
[0003]但是在实际使用过程中，密封垫会因为受到持续挤压和/或材质老化而逐渐变薄，导致密封垫容易和第二主体不完全贴合，影响密封件的密封性能。
[0004]所以，现有技术的技术问题在于：密封圈和第二主体之间贴合不够紧密。

技术实现思路

[0005]本申请实施例提供一种密封结构，解决了现有技术中密封圈和第二主体之间贴合不够紧密的技术问题；达到密封圈和第二主体之间贴合紧密的技术效果。
[0006]本申请实施例提供一种密封结构，所述密封结构包括：第一主体，所述第一主体包括：第一密封面，所述第一密封面为第一主体的一个端面；密封槽，所述密封槽内凹设置在第一密封面上；以及压力通道，所述压力通道贯通设置在第一主体内，且所述压力通道的第一端连通所述密封槽；第二主体，所述第二主体包括一第二密封面，且所述第二密封面对于第一密封面设置；以及密封圈，所述密封圈设置在密封槽内，且所述密封圈贴合所述第二主体；其中，所述压力通道的第二端连通一压力源，并通过压力源使得密封圈压在第二主体上。
[0007]作为优选，所述第一密封面和第二密封面均为平面，或第一密封面和第二密封面为互补的一组端面。
[0008]作为优选，所述第一密封面和第二密封面之间贴合。
[0009]作为优选，所述密封圈嵌设在密封槽内。
[0010]作为优选，所述密封圈包括：第二端面，所述第二端面为密封圈的底面，且所述第二端面为内凹状。
[0011]作为优选，所述第二端面具体为由边缘向中心内凹。
[0012]作为优选，所述第二端面具体为一个内外两侧对称的内凹状。
[0013]作为优选，所述第一主体上构建有一容置腔，且所述容置腔内可容置一定压力；其中，所述压力通道的第二端连通所述容置腔。
[0014]作为优选，所述密封槽的横截面形状为上宽下窄；且所述密封圈的横截面形状和所述密封槽的横截面形状一致。
[0015]作为优选，所述第一主体和第二主体之间为可拆卸式连接。
[0016]本申请实施例中的上述一个或多个技术方案，至少具有如下一种或多种技术效
果：
[0017]1、本申请实施例中，通过在第一主体上设置密封槽和压力通道，压力通道的两端分别连通压力源和密封槽，利用压力源的压力使得密封圈始终顶紧贴合在第二主体上；解决了现有技术中密封圈和第二主体之间贴合不够紧密的技术问题；达到密封圈和第二主体之间贴合紧密的技术效果。
[0018]2、本申请实施例中，通过优化密封圈的形状，将密封圈的第二端面设置为内凹状，且第二端面的内外两侧对称，使得压力源中的压力可以稳定推动密封圈，使得密封圈和第二主体之间贴合平整。
附图说明
[0019]图1为本申请实施例中一种密封结构的主视向剖视结构示意图；
[0020]图2为本申请实施例中第一主体的俯视向结构示意图；
[0021]图3为本申请实施例中一种密封结构的局部爆炸结构示意图；
[0022]图4为本申请实施例中密封圈的剖视结构示意图。
[0023]附图标记：1、第一主体；11、容置腔；12、密封槽；13、压力通道；2、第二主体；3、密封圈；31、第一端面；32、第二端面；33、第三端面；34、第四端面。
具体实施方式
[0024]本文中为部件所编序号本身，例如“第一”、“第二”等，仅用于区分所描述的对象，不具有任何顺序或技术含义。而本申请所说“连接”、“联接”，如无特别说明，均包括直接和间接连接(联接)。在本申请的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。
[0025]在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
[0026]本申请实施例提供了一种密封结构，通过在第一主体1上设置密封槽12和压力通道13，压力通道13的两端分别连通压力源和密封槽12，利用压力源的压力使得密封圈3始终顶紧贴合在第二主体2上；解决了现有技术中密封圈3和第二主体2之间贴合不够紧密的技术问题；达到密封圈3和第二主体2之间贴合紧密的技术效果。
[0027]为了更好的理解上述技术方案，下面将结合说明书附图以及具体的实施方式对上述技术方案进行详细的说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本申请，并不用于限定本申请。
[0028]一种密封结构，参考说明书附图1和3；密封结构包括：第一主体1、第二主体2以及密封圈3；其中，第一主体1和第二主体2贴合，密封圈3位于两者之间，密封圈3受到一个来自
压力源的压力，使得密封圈3可以紧密贴合在第二主体2上。
[0029]第一主体1，参考说明书附图2-3；第一主体1包括：第一密封面、密封槽12以及压力通道13；第一密封面为第一主体1的一个端面，优选第一密封面为第一主体1的上端面。密封槽12，密封槽12内凹设置在第一密封面上，密封槽12的横截面形状为上宽下窄；且密封圈3的横截面形状和密封槽12的横截面形状一致，以便于密封圈3在置入密封槽12内不出现晃动和移位；此外为了密封槽12和密封圈3之间的气密性，可以将密封槽12的横截面形状设置为上窄下宽，使得密封圈3向外运动时可以紧密的贴合密封槽12的槽壁。压力通道13，压力通道13贯通设置在第一主体1内，且压力通道13的第一端连通密封槽12。压力通道13可以采用浇筑成型，也可以采用钻孔的形式。需要说明的是，为了保证密封圈3可以均匀的受力，达到密封圈3均匀的向外运动，优选压力通道13分为至少两段，第一段位于密封槽12的下方，且第一段压力通道13垂直于密封槽12的底面连通密封槽12；第二段压力通道13用来连通第一段压力通道13和压力源，并通过压力源使得密封圈3压在第二主体2上。
[0030]需要说明的是，第一主体1上可以构建有一容置腔14，且容置腔14内可容置一定压力；压力通道13的第二端连通容置本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种密封结构，其特征在于，所述密封结构包括：第一主体，所述第一主体包括：第一密封面，所述第一密封面为第一主体的一个端面；密封槽，所述密封槽内凹设置在第一密封面上；以及压力通道，所述压力通道贯通设置在第一主体内，且所述压力通道的第一端连通所述密封槽；第二主体，所述第二主体包括一第二密封面，且所述第二密封面对于第一密封面设置；以及密封圈，所述密封圈设置在密封槽内，且所述密封圈贴合所述第二主体；其中，所述压力通道的第二端连通一压力源，并通过压力源使得密封圈压在第二主体上。2.如权利要求1所述的密封结构，其特征在于，所述第一密封面和第二密封面均为平面，或第一密封面和第二密封面为互补的一组端面。3.如权利要求1所述的密封结构，其特征在于，所述第一密封面和第二密封面之间贴合。4.如权利要求1所述的密封结构，...

【专利技术属性】
技术研发人员：单新华，陆建伟，
申请(专利权)人：无锡市冠星工业设备制造有限公司，
类型：新型
国别省市：