显影剂支持体、显影剂支持体的制造方法、显影装置和成像装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种显影剂支持体，该显影剂支持体在经过粗糙化处理的中空圆筒状基体上具有由金属构成的表面层，其中，该表面层的６０°镜面光泽度Ｇｓ（６０°）在约１０～４０光泽度单位的范围内，本发明专利技术还提供了具有该显影剂支持体的显影装置和成像装置，以及制造所述显影剂支持体的方法。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显影剂支持体、制造所述显影剂支持体的方法和成像装置，特别是涉及使用电子照相法的复印机或打印机中所使用的显影剂支持体、制造显影剂支持体的方法、显影装置和成像装置。
技术介绍
在使用电子照相技术的复印机或打印机中，通过将显影剂静电吸附到形成在感光体上的静电潜像上，而对该静电潜像进行显影，且使用圆筒状显影剂支持体来供给显影剂。在该显影中，必须将数量对应于感光体带电电位的显影剂供给到静电潜像上。然而，当使用小粒径的显影剂或高带电性能的显影剂时，显影剂支持体上的显影剂根据显影历程而产生显影性能分布，结果，在一些情况下，不能供给数量对应于感光体带电电位的显影剂。该现象(称为显影重影)的原因可以定性解释如下。图5显示了使用磁性调色剂的显影装置的略图。显影装置由显影剂支持体11、磁体12、显影剂料斗13和显影刮板14构成。显影剂15储存在显影剂料斗13中，且通过磁体12的磁力作用将显影剂吸向显影剂支持体11。通过旋转显影剂支持体11，由显影刮板14来调整附着到显影剂支持体上的显影剂，使其具有预定厚度。通过显影剂颗粒之间的摩擦和显影剂与显影刮板14之间的摩擦使显影剂带静电。在靠近静电潜像保持体16的位置，通过库仑力将带电的显影剂转移到静电潜像保持体上的静电潜像上，从而使静电潜像可视化。在显影剂支持体11上的显影剂颗粒之中，在使潜像可视化时只消耗了位于与静电潜像对应的部分上的显影剂。通过显影剂支持体的旋转，将新的显影剂供给到所消耗的部分并通过显影刮板14使其带电。因为以该方式进行显影，供给到先前显影剂在显影过程中被消耗部分的新显影剂只在显影刮板的作用下经历了一次摩擦带电，而在显影过程中未消耗部分的显影剂则再次经历了摩擦带电。结果，显影剂支持体11上的显影剂的带电量根据显影历程进行分布。随着带电量增大，显影剂和静电潜像之间的库仑相互作用也增大，且由于镜像力，显影剂和显影剂支持体之间的吸引力也同时增大。由这些力之间的大小关系决定了转移到静电潜像上的显影剂量，即显影性能。因此，在实际的显影中，会出现新供给有显影剂的部分的显影性能变得高于或低于其他部分的显影性能的情况，相应地，在所得印刷物中出现了不同于静电潜像的图像。例如，如图6A中所示，考虑复印具有书写部分“AAAAA”和浓度均匀的网点区域的原稿。通常地，显影剂支持体11的圆周速度要高于静电潜像保持体16的圆周速度，然而为了说明的目的，假定两者具有相同的圆周速度。还假定在图5中显影向下方进行。因为显影剂支持体的周长通常要短于原稿的长度，为了复印一张原稿，显影剂支持体必须旋转多次。在图6B和6C中，假定长度“L”是显影剂支持体的周长。通过显影该部分，在显影剂支持体的表面上形成了其中显影性能根据静电潜像分布的显影剂层，且将该层用于下一部分的显影。在这种情况下，如果用于显影文字的显影剂的显影性能高于其他部分上的显影剂的显影性能，如图6B中所示，作为显影结果，在对应于显影剂支持体的周长(长度L)的位置上会出现在静电潜像中所没有的被称为正像重影(positive ghost)的图像。然而，如果该部分中的显影性能较低，如图6C中所示，则出现称为负像重影(negative ghost)的现象，其中尽管存在静电潜像，但该静电潜像并未显影。如上所述，显影重影与显影剂的带电性能有关，且因此在使用小粒径显影剂或改善了带电性能的显影剂时变得尤其显著。作为抑制显影重影产生的技术，例如，公开了通过在显影剂支持体表面上提供具有导电性和表面润滑性的酚醛树脂和含碳的树脂层，来抑制显影重影产生的方法(参见，例如日本特开2000-231257号)。而且，还公开了通过在显影剂支持体表面上提供钼涂层来抑制显影重影产生的方法(参见，例如日本特开平7-281517号)。然而，在其中包括向显影剂支持体表面提供树脂层的方法中，该树脂层易于磨损，因此在运行时使套筒的表面轮廓随时间而改变，会产生仅能在短时间内将显影重影抑制到特定水平的问题。在其中包括向显影剂支持体表面提供钼层的方法中，在使用最近开发的用于低温定影的调色剂的情况下，钼的带电性能很低，因此会产生所得图像的浓度降低的问题。
技术实现思路
鉴于上述问题，已完成了本专利技术，本专利技术提供了显影剂支持体、制造显影剂支持体的方法、显影装置和成像装置。本专利技术的一个方面是提供在粗糙化中空圆筒状基体上具有由金属构成的表面层的显影剂支持体，其中，所述表面层的60°镜面光泽度Gs(60°)在约10～40光泽单位的范围内。本专利技术的另一个方面是提供显影装置，该装置包括本专利技术的一个方面所述的显影剂支持体，将显影剂供给到所述显影剂支持体上的显影剂供应单元，和使由所述显影剂供给单元供给的显影剂带电的带电单元。本专利技术的另一个方面提供了成像装置，该装置至少包括潜像支持体，使所述潜像支持体的表面带电的带电单元，在所述潜像支持体的表面上形成潜像的潜像形成单元，本专利技术另一方面所述的显影装置，该显影装置使用调色剂对所述潜像进行显影以形成调色剂图像， 将所述调色剂图像转印到转印接收材料上的转印单元，和将所述调色剂图像定影在转印接收材料上的定影单元。本专利技术的另一方面提供了制造本专利技术的一个方面所述的显影剂支持体的方法，该方法包括使用含金属的电解液对粗糙化中空圆筒状基体进行电解，以便在所述基体表面上形成60°镜面光泽度Gs(60°)为约10～40光泽单位的由金属构成的表面层。附图说明本专利技术的优选实施方式将基于以下附图进行详细描述，其中图1A和图1B是显示常规显影剂支持体的一个实例的示意图，其中图1A是整体图，图1B是显影剂支持体的表面层的放大图；图2是本专利技术的显影剂支持体的表面层的放大图；图3是显示本专利技术的显影装置的一个实例的示意图；图4是显示本专利技术的成像装置的一个实例的示意图；图5是显示显影装置的一般构成的视图；和图6A、6B和6C是显示在印刷中产生重影的说明图。具体实施例方式<显影剂支持体> 本专利技术的显影剂支持体具有在粗糙化中空圆筒状基体上的由金属构成的表面层，其中，所述表面层的60°镜面光泽度Gs(60°)在10～40光泽度单位的范围内。通过对中空圆筒的表面进行粗糙化而得到本专利技术中的基体。通过表面粗糙化，该表面变得凹凸不平。当在基体的凹凸表面上形成由金属构成的表面层时，由于基体的凹凸也使得表面层的表面变得凹凸不平。该状态示于图1中。当使显影剂附着到所制得的显影剂支持体11上时，可容易地将显影剂捕获到由基体10的凹凸所致的表面层20的表面的凹凸(图1中的宏观凹凸“R”)内，从而有助于将显影剂传送到潜像支持体上。然而，过度凹凸不平的表面导致了显影重影的频繁产生。当如图1中所示放大该表面的凹凸时，存在着更微小的凹凸。据显示，调色剂颗粒残留在该微小凹凸(图1B中的微观凹凸“r”)的凹部，从而引起进一步产生显影重影。即，残留在表面层的微观凹凸“r”上的调色剂颗粒继续残留，而未被转移用于显影，因此残留调色剂在随后的带电步骤中带电。因此，可以认为新供给的调色剂的带电不能平稳进行，导致产生重影。因此，在本专利技术中优选将光泽剂加入表面层，从而使得如图2中所示使微观凹凸“r”平坦化，且同时使宏观凹凸“R”比基体的凹凸更平滑。结果，本专利技术的显影剂支持体的表面层具有合适的宏观凹凸“R”本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显影剂支持体，该显影剂支持体在经过粗糙化处理的中空圆筒状基体上具有由金属构成的表面层，其中，所述表面层的６０°镜面光泽度Ｇｓ（６０°）在约１０～４０光泽度单位的范围内。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：安藤雅宏，野田明彦，尾崎善史，大场正太，
申请(专利权)人：富士施乐株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]