高压深刻蚀石英盖板制造技术

本实用新型专利技术公开了一种高压深刻蚀石英盖板，包括石英盖板本体、散热片、第一支撑板、第二支撑板、盖板合页以及加固槽，所述石英盖板本体的表面设置有散热片，所述第一支撑板设置于石英盖板本体的左侧，所述第二支撑板设置于石英盖板本体的右侧，所述盖板合页设置于石英盖板本体的下侧，所述加固槽活动安装于石英盖板本体的后部，辅助使用承载装置进行多枚硅片的盛放，需要通过盖板辅助承载装置进行硅片的保存，可用于保温筒使用，从而保存硅片。本实用新型专利技术适用于高压深刻蚀作用，其表面刻蚀液不易被自然风干燥及与硅片接触造成磨损碰撞，有助于提高散热效率，延长硅片的保存时长。延长硅片的保存时长。延长硅片的保存时长。

【技术实现步骤摘要】
高压深刻蚀石英盖板


[0001]本技术涉及石英盖板
，具体的说是一种高压深刻蚀石英盖板。

技术介绍

[0002]在石英半导体装置的制造过程中，为了对被处理的硅片进行氧化、扩散及退火等处理，需使用各种热处理装置。其中对多枚硅片能同时作批处理的热处理装置，在热处理的过程中，使用承载装置进行多枚硅片的盛放，需要通过盖板辅助承载装置进行硅片的保存。其中现有的石英盖板在加工过程中通常通过各种刻蚀设备进行刻蚀加工，有助于提高散热效率，延长硅片的保存时长，为此，提供一种高压深刻蚀石英盖板显得十分必要。

技术实现思路

[0003]针对现有技术中存在的上述不足之处，本技术目的是提供一种高压深刻蚀石英盖板。
[0004]本技术为实现上述目的所采用的技术方案是：高压深刻蚀石英盖板，包括石英盖板本体、散热片、第一支撑板、第二支撑板、盖板合页以及加固槽，所述石英盖板本体的表面设置有散热片，所述第一支撑板设置于石英盖板本体的左侧，所述第二支撑板设置于石英盖板本体的右侧，所述盖板合页设置于石英盖板本体的下侧，所述加固槽活动安装于石英盖板本体的后部。
[0005]作为上述技术方案的进一步描述：所述石英盖板本体的两侧均设置有边板、限位块，所述边板分别设置于石英盖板本体的两侧，所述限位块分别设置于石英盖板本体下侧的两端。
[0006]作为上述技术方案的进一步描述：所述散热片的长度小于石英盖板本体的长度，所述散热片下表面固定有绝缘塑料。
[0007]作为上述技术方案的进一步描述：所述第一支撑板、第二支撑板均设置有通孔，所述通孔均贯穿第一支撑板、第二支撑板。
[0008]作为上述技术方案的进一步描述：所述盖板合页设置的数量为二个。
[0009]作为上述技术方案的进一步描述：所述加固槽设置为长方体结构，且所述加固槽的左右两侧均设置有衔接滑槽。
[0010]本技术的有益效果：该种高压深刻蚀石英盖板适用于高压深刻蚀作用，其表面刻蚀液不易被自然风干燥及与硅片接触造成磨损碰撞，有助于提高散热效率，延长硅片的保存时长。
附图说明
[0011]图1为本技术整体的结构示意图；
[0012]图2为本技术石英盖板本体的左视图；
[0013]图3为本技术加固槽的结构示意图。
[0014]图中：1石英盖板本体、12边板、13限位块、2散热片、3第一支撑板、4第二支撑板、5盖板合页、6加固槽、61衔接滑槽。
具体实施方式
[0015]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0016]在本技术的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“内”、“外”“前端”、“后端”、“两端”、“一端”、“另一端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0017]请参阅图1-3，高压深刻蚀石英盖板，包括石英盖板本体1、散热片2、第一支撑板3、第二支撑板4、盖板合页5以及加固槽6，石英盖板本体1的表面设置有散热片2，第一支撑板3设置于石英盖板本体1的左侧，第二支撑板4设置于石英盖板本体1的右侧，盖板合页5设置于石英盖板本体1的下侧，加固槽6活动安装于石英盖板本体1的后部。
[0018]本技术中，进一步地作用原理是：
[0019]再进一步的是，石英盖板本体1的两侧均设置有边板12、限位块13，边板12分别设置于石英盖板本体1的两侧，限位块13分别设置于石英盖板本体1下侧的两端，便于限位固定。
[0020]再进一步的是，散热片2的长度小于石英盖板本体1的长度，散热片2下表面固定有绝缘塑料，有助于提高散热效率。
[0021]再进一步的是，第一支撑板3、第二支撑板4均设置有通孔，通孔均贯穿第一支撑板3、第二支撑板4，利用第一支撑板3、第二支撑板4进一步增强石英盖板本体1的稳定性。
[0022]更进一步的是，盖板合页5设置的数量为二个，便于石英盖板本体1的安装使用。
[0023]更进一步的是，加固槽6设置为长方体结构，且加固槽6的左右两侧均设置有衔接滑槽61，便于加固石英盖板本体1。
[0024]本技术的工作原理是：使用时，可利用辅助使用承载装置进行多枚硅片的盛放，需要通过石英盖板本体1辅助承载装置进行硅片的保存，通过加固槽6进一步稳定石英盖板本体1，便于与保温筒安装使用，从而延长保存硅片的时长。本技术适用于高压深刻蚀作用，其表面刻蚀液不易被自然风干燥及与硅片接触造成磨损碰撞，有助于提高散热效率，延长硅片的保存时长。
[0025]对于本领域技术人员而言，显然本技术不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本技术的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本技术。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本技术的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本技术内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
[0026]此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.高压深刻蚀石英盖板，包括石英盖板本体(1)、散热片(2)、第一支撑板(3)、第二支撑板(4)、盖板合页(5)以及加固槽(6)，其特征在于：所述石英盖板本体(1)的表面设置有散热片(2)，所述第一支撑板(3)设置于石英盖板本体(1)的左侧，所述第二支撑板(4)设置于石英盖板本体(1)的右侧，所述盖板合页(5)设置于石英盖板本体(1)的下侧，所述加固槽(6)活动安装于石英盖板本体(1)的后部。2.根据权利要求1所述的高压深刻蚀石英盖板，其特征在于：所述石英盖板本体(1)的两侧均设置有边板(12)、限位块(13)，所述边板(12)分别设置于石英盖板本体(1)的两侧，所述限位块(13)分...

【专利技术属性】
技术研发人员：兰锋，
申请(专利权)人：浙江泓芯半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：