本发明专利技术涉及金属表面处理技术领域，提供一种利用镜面反射判断清除状况的铜金属处理装置，包括机体，所述机体的内壁活动连接有转轴，转轴的外壁活动连接有支撑架，转轴的外壁固定连接有平层。该利用镜面反射判断清除状况的铜金属处理装置，驱动机构带动转轴进行旋转，转轴和变速器共同作用使旋转块缓慢旋转，旋转块利用其外壁的滑轨使移动板向下移动，移动板带动摩擦板向下移动，摩擦板不断的对铜板进行摩擦，由于轨道痕迹为波浪形，旋转一定角度，移动板会向上移动，此时激光发射器会发射光线，光线反射程度判断氧化铜的处理状况，在光敏电阻的阻值到达固定的阀值，驱动机构停止旋转，利用铜板反射判断氧化铜处理状况。用铜板反射判断氧化铜处理状况。用铜板反射判断氧化铜处理状况。
【技术实现步骤摘要】
一种利用镜面反射判断清除状况的铜金属处理装置
[0001]本专利技术涉及金属表面处理
，具体为一种利用镜面反射判断清除状况的铜金属处理装置。
技术介绍
[0002]表面处理是在基体材料表面上人工形成和去除一层与基体的机械、物理和化学性能不同的表层的工艺方法，金属表面常常会有一层氧化物外衣，起因为金属在空气中与氧气，氧化物直接影响金属的导电、导热和强度，随着时代的发展，尽管储存方法已经很完善，但不可避免的出现氧化现象。
[0003]在现有技术中，清除铜板外壁的氧化铜通常利用摩擦去除，摩擦不仅消耗氧化铜，也将同层次的铜消耗，摩擦去除氧化铜后需要检测氧化铜去除干净，一点瑕疵也将影响整块铜板的性质，且铜板有一定的规格，摩擦过度则整块铜板将被严重打薄，导致无法使用，因此一种利用镜面反射判断清除状况的铜金属处理装置应运而生。
技术实现思路
[0004]为了解决上述技术问题，本专利技术提供一种利用镜面反射判断清除状况的铜金属处理装置，由以下具体技术手段所达成：
[0005]一种利用镜面反射判断清除状况的铜金属处理装置，包括机体，所述机体的内壁活动连接有转轴，转轴的外壁活动连接有支撑架，转轴的外壁固定连接有平层，转轴的外壁弹性连接有螺旋弹簧，螺旋弹簧的外壁活动连接有离心球，离心球的外壁活动连接有压电板，转轴的外壁活动连接有旋转块，旋转块的外壁固定连接有滑轨，滑轨的外壁活动连接有滑球，滑球的外壁移动板，移动板的内壁活动连接有变速器，变速器的外壁固定连接有摩擦板，摩擦板的内壁固定连接有光敏电阻，光敏电阻的外壁固定连接有激光发射器，摩擦板的外壁活动连接有推板，移动板的外壁活动连接有杠杆，杠杆的外壁固定连接有齿条块，齿条块的外壁活动连接有转轮，转轮的外壁活动连接有联动杆，联动杆的外壁活动连接有斜块，斜块的外壁活动连接有气囊，气囊的外壁活动连接有单向阀门，单向阀门的外壁弹性连接有扭矩弹簧，机体的内壁活动连接有垫板，转轮的外壁活动连接有转换杆。
[0006]优选的，所述转轴贯穿旋转块并延伸至摩擦板的外壁，转轴通过设置在其外壁的变速器活动连接有旋转块，摩擦板与变速器连接部分可以拉伸，摩擦板与变速器有折叠架进行弹性伸缩。
[0007]优选的，所述转轴通过设置在其外壁的螺旋弹簧活动连接有离心球，平层的外壁开设有纤维槽，平层限制离心球的最大移动距离。
[0008]优选的，所述旋转块通过设置在其外壁的滑轨活动连接有移动板，移动板的部分可进行伸缩，转换杆挤压推板使摩擦板向下移动。
[0009]优选的，所述推板的外壁活动连接有转换杆，转轮的外壁开设有凸块，转轮通过设置在其外壁的凸块活动连接有转换杆。
[0010]优选的，所述移动板通过设置在其外壁的杠杆活动连接有齿条块，转轮通过设置在其外壁的联动杆活动连接有斜块，单向阀门只能向内部打开，垫板的中心位置可以利用螺旋弹簧进行凹陷，铜板被摩擦板挤压进入凹陷不会因摩擦接触晃动。
[0011]本专利技术具备以下有益效果：
[0012]1、该利用镜面反射判断清除状况的铜金属处理装置，通过铜板放置在垫板的外壁，摩擦板对铜板挤压，铜板进入垫板的中心凹陷处防止铜板在摩擦时晃动，驱动机构带动转轴进行旋转，转轴和变速器共同作用使旋转块缓慢旋转，旋转块利用其外壁的滑轨使移动板向下移动，移动板带动摩擦板向下移动，摩擦板不断的对铜板进行摩擦，由于轨道痕迹为波浪形，旋转一定角度，移动板会向上移动，此时激光发射器会发射光线，由于铜板外壁形成的氧化铜粗糙不能进行镜面反射，可利用光线反射程度判断氧化铜的处理状况，若氧化铜处理完毕，光敏电阻接触到大量的光线，在光敏电阻的阻值到达固定的阀值，驱动机构停止旋转，移动板移动的同时，移动板利用杠杆使齿条块移动，由于，且支点靠近移动板，移动板移动小距离则可使齿条块移动大距离，齿条块带动转轮旋转，转轮利用联动杆使斜块挤压气囊，螺旋弹簧使斜块恢复原位，单向阀门只可向内移动，在气囊从收缩变为膨胀时，单向阀门打开，将氧化铜屑和铜屑回收，从而实现利用铜板反射判断氧化铜处理状况的效果。
[0013]2、该利用镜面反射判断清除状况的铜金属处理装置，通过铜板放置在垫板的外壁，摩擦板对铜板挤压，铜板进入垫板的中心凹陷处防止铜板在摩擦时晃动，驱动机构带动转轴进行旋转，转轴和变速器共同作用使旋转块缓慢旋转，旋转块利用其外壁的滑轨使移动板向下移动，移动板带动摩擦板向下移动，摩擦板不断的对铜板进行摩擦，由于轨道痕迹为波浪形，旋转一定角度，移动板会向上移动，此时激光发射器会发射光线，由于铜板外壁形成的氧化铜粗糙不能进行镜面反射，可利用光线反射程度判断氧化铜的处理状况，若氧化铜处理完毕，光敏电阻接触到大量的光线，在光敏电阻的阻值到达固定的阀值，驱动机构停止旋转，移动板移动的同时，移动板利用杠杆使齿条块移动，由于，且支点靠近移动板，移动板移动小距离则可使齿条块移动大距离，齿条块带动转轮旋转，转轮利用联动杆使斜块挤压气囊，螺旋弹簧使斜块恢复原位，单向阀门只可向内移动，在气囊从收缩变为膨胀时，单向阀门打开，将氧化铜屑和铜屑回收，利用铜板反射判断氧化铜处理状况，移动板移动的同时带动齿条块移动，齿条块使转轮旋转，转轮利用其外壁的凸块接触转换杆，转换杆倾斜将推板向下压，推板加大摩擦板的深度，由于滑轨为波浪状且波浪越来越大，推板不断向下，到达极限时不在移动，此时摩擦板不接触铜板，转轴的转速不受到摩擦力影响，转轴外壁的离心球离心力达到最大，离心球接触压电板使其外壁的小灯泡发光，表示已经摩擦到最低处仍有氧化铜，不能再进行摩擦，从而实现利用离心力判断摩擦到铜板限定最薄厚度仍有氧化物和表示铜板无法使用的效果。
附图说明
[0014]图1为本专利技术转轴结构主视示意图；
[0015]图2为本专利技术旋转块结构主视示意图；
[0016]图3为本专利技术转轮结构主视示意图；
[0017]图4为本专利技术摩擦板结构主视示意图；
[0018]图5为本专利技术气囊结构主视示意图。
[0019]图中：1、机体；2、转轴；3、支撑架；4、平层；5、螺旋弹簧；6、离心球；7、压电板；8、旋转块；9、滑轨；10、滑球；11、移动板；12、变速器；13、摩擦板；14、光敏电阻；15、激光发射器；16、推板；17、杠杆；18、齿条块；19、转轮；20、联动杆；21、斜块；22、气囊；23、单向阀门；24、扭矩弹簧；25、垫板；26、转换杆。
具体实施方式
[0020]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0021]请参阅图1-5，一种利用镜面反射判断清除状况的铜金属处理装置，包括机体1，机体1的内壁活动连接有转轴2，转轴2贯穿旋转块8并延伸至摩擦板13的外壁，转轴2通过设置在其外壁的变速器12活动连接有旋转块8，摩擦板13与变速器12连接部分可本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种利用镜面反射判断清除状况的铜金属处理装置，包括机体(1)，其特征在于：所述机体(1)的内壁活动连接有转轴(2)，转轴(2)的外壁活动连接有支撑架(3)，转轴(2)的外壁固定连接有平层(4)，转轴(2)的外壁弹性连接有螺旋弹簧(5)，螺旋弹簧(5)的外壁活动连接有离心球(6)，离心球(6)的外壁活动连接有压电板(7)，转轴(2)的外壁活动连接有旋转块(8)，旋转块(8)的外壁固定连接有滑轨(9)，滑轨(9)的外壁活动连接有滑球(10)，滑球(10)的外壁移动板(11)，移动板(11)的内壁活动连接有变速器(12)，变速器(12)的外壁固定连接有摩擦板(13)，摩擦板(13)的内壁固定连接有光敏电阻(14)，光敏电阻(14)的外壁固定连接有激光发射器(15)，摩擦板(13)的外壁活动连接有推板(16)，移动板(11)的外壁活动连接有杠杆(17)，杠杆(17)的外壁固定连接有齿条块(18)，齿条块(18)的外壁活动连接有转轮(19)，转轮(19)的外壁活动连接有联动杆(20)，联动杆(20)的外壁活动连接有斜块(21)，斜块(21)的外壁活动连接有气囊(22)，气囊(22)的外壁活动连接有单向阀门(23)，单向阀门(23)的外壁弹性连接有扭矩弹簧(24)，机体(1)的内壁活动连接有垫板(25)，转轮(19)的外壁活动连接有转换杆(26)。2.根据权利要求1所述的一种利用镜面反射判断清除状况的铜金属处理装置，其特征在于：所述转轴...
【专利技术属性】
技术研发人员：贾诚，
申请(专利权)人：贾诚，
类型：发明
国别省市：
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