周缘曝光装置、涂敷显影装置及周缘曝光方法制造方法及图纸

本发明专利技术中包括：第１光路形成部件和第２光路形成部件，各自的入口侧配置在来自光源的光电子束的通路内；第１放置台，放置基板，绕垂直轴自由旋转，并且基板的周缘部位于来自第１光路形成部件的出口侧的光电子束照射区域；第２放置台，基板的周缘部位于来自第２光路形成部件的出口侧的光电子束照射区域；遮光机构，用于遮挡来自第１和第２光路形成部件的光的照射。由于可例如可采用共通的光源对第１放置台和第２放置台上的基板进行周缘曝光，所以具有较强的处理能力，并且能够抑制装置的大型化。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种将光照射到涂敷有抗蚀剂等感光材料的基板的周缘部上进行曝光的周缘曝光装置、采用了这种周缘曝光装置的涂敷显影装置及周缘曝光方法。
技术介绍
作为在半导体晶片(以下称为晶片)等基板上形成抗蚀剂图案的装置，例如是使用对晶片涂敷光致抗蚀剂(以下称为抗蚀剂)、并对在曝光装置中进行了曝光后的晶片进行显影的涂敷显影装置。具体地说，在这种涂敷显影装置中，抗蚀剂的涂敷是例如向旋转的晶片上供给抗蚀剂，由于在离心力的作用下，上述抗蚀剂在晶片的表面上宽展，从而抗蚀剂涂敷在晶片的整个表面上。但是，由于晶片的周缘部(端缘部)几乎不会被用作图案形成区域，所以在曝光装置中该周缘部有时不被曝光。在这种情况下，若采用正片型抗蚀剂作为上述抗蚀剂，则由于在显影后抗蚀剂仍残留在周缘部上，所以在例如晶片的输送时该抗蚀剂剥离，作为微粒而污染晶片表面，有可能成为导致成品率降低的原因。为了防止这种不良情况，在涂敷显影装置中设有对晶片的周缘部进行曝光的周缘曝光装置。这种周缘曝光装置例如设在接口部中，所述接口部起到连接上述涂敷显影装置和进行用于形成抗蚀剂图案的曝光处理的曝光装置的作用，例如通过该周缘曝光装置对在上述曝光装置中接受曝光处理前的晶片进行周缘曝光处理，然后进行显影处理，从而除去晶片的周缘部上不要的抗蚀剂。但是，近年来要求涂敷显影装置的晶片处理量上升，目前例如是要求实现每小时180片到200片的处理量。虽然为了提高处理量，可考虑在上述接口部内增设周缘曝光装置，但这样将导致接口部大型化，或有可能在接口部内用于进行该周缘曝光装置的维修或灯具(光源)的更换的空间不能确保。而且，若增设周缘曝光装置，则来自各周缘曝光装置所装备的各光源的散热量总和将增大，因该散热而对接口部内的其他模块产生的影响增大。在专利文献1(日本国特开平11-219894)中公开了一种实现了小型化的周缘曝光装置，但这种装置是以简化晶片的对位机构为目的，对于上述这种与处理量有关的问题的解决手段并没有启示。在专利文献2(特开2003-347187)中公开了一种实现了处理量提高的周缘曝光装置，不过是以具备多个光源为前提的装置结构，也没有上述问题的解决手段的启示。
技术实现思路
本专利技术是为了解决上述问题而提出的，其目的在于提供一种周缘曝光装置及周缘曝光方法，可抑制装置大型化，并且具有较强的基板处理能力。而且，本专利技术的目的还在与提供一种涂敷显影装置，通过采用上述的周缘曝光装置，能够实现处理量的提高。本专利技术是在通过曝光用的光源对形成有感光性薄膜的基板的周缘部进行曝光的周缘曝光装置中，包括第1光路形成部件和第2光路形成部件，各自的入口侧配置在来自所述光源的光电子束内；第1放置台，放置基板，绕垂直轴自由旋转，并且设置成该基板的周缘部位于来自所述第1光路形成部件的出口侧的光电子束照射区域；第2放置台，放置基板，绕垂直轴自由旋转，并且设置成该基板的周缘部位于来自所述第2光路形成部件的出口侧的光电子束照射区域；遮光机构，用于遮挡来自第1光路形成部件和第2光路形成部件的光的照射。遮光机构例如可具有用于遮挡由第1光路形成部件形成的光路的第1挡板，以及用于遮挡由第2光路形成部件形成的光路的第2挡板。在这种情况下，例如可以是第1光路形成部件和第2光路形成部件分别具有导光棒和对来自导光棒的光进行聚光的透镜，第1挡板和第2挡板设在导光棒与透镜之间。而且，遮光机构可以具有用于使第1光路形成部件及第2光路形成部件与所述光源在第1光路形成部件和第2光路形成部件的各根端侧的一个位于来自光源的光电子束内、另一个不位于所述光电子束内的状态，与第1光路形成部件和第2光路形成部件的各根端侧的两者均位于所述光电子束内的状态之间相对移动的机构。根据其他的观点，本专利技术是在通过曝光用的光源对形成有感光性薄膜的基板的周缘部进行曝光的周缘曝光装置中，包括第1光路形成部件的入口侧和第2光路形成部件，来自所述光源的光电子束从各自的入口侧入射；使所述光源、第1光路形成部件和第2光路形成部件相对移动，使所述光电子束交替地通过第1光路形成部件的入口侧和第2光路形成部件的入口侧的机构；第1放置台，放置基板，绕垂直轴自由旋转，并且设置成该基板的周缘部位于来自所述第1光路形成部件的出口侧的光电子束照射区域；第2放置台，放置基板，绕垂直轴自由旋转，并且设置成该基板的周缘部位于来自所述第2光路形成部件的出口侧的光电子束照射区域。在本专利技术的周缘曝光装置中，例如所述第1放置台和第2放置台可以是上下配置的。而且，所述第1光路形成部件和第2光路形成部件可以分别包含方型的导光棒。各光路形成部件的入口侧可以是该导光棒的根端侧。进而，所述各光路形成部件也可以包含在石英棒的侧周面上成膜出发射膜而成的导光棒。根据其他的观点，本专利技术是在包括托架区，收放有多个晶片的晶片托架送入其中；处理区，设有将抗蚀剂液涂敷在从送入该托架区的托架上取出的晶片的表面上的涂敷单元、和将显影液供给到曝光后的晶片上进行显影的显影单元；接口部，相对于在晶片的表面上进行曝光的曝光装置进行连接的涂敷显影装置中，具有上述的周缘曝光装置。另外，根据其他的规定，本专利技术是在通过曝光用的光源对形成有感光性薄膜的基板的周缘部进行曝光的周缘曝光方法中，包括使来自所述光源的光电子束入射到各自的入口侧配置在该光电子束内的第1光路形成部件和第2光路形成部件上的工序；将基板放置在第1放置台上，使其绕垂直轴旋转，并且通过来自所述第1光路形成部件的出口侧的光电子束对该基板的周缘部进行曝光的工序；在对第1放置台上的基板的周缘部进行曝光时，遮挡来自第2光路形成部件的光的照射的工序；将基板放置在第2放置台上，使其绕垂直轴旋转，并且解除来自第2光路形成部件的光的照射的遮挡，通过来自所述第2光路形成部件的出口侧的光电子束对该基板的周缘部进行曝光的工序。另外，根据其他的观点，本专利技术是在通过曝光用的光源对形成有感光性薄膜的基板的周缘部进行曝光的周缘曝光方法中，包括使所述光源和第1光路形成部件相对移动到来自所述光源的光电子束通过第1光路形成部件的入口侧的位置，使放置在第1放置台上的基板绕垂直轴旋转，并且通过来自所述第1光路形成部件的出口侧的光电子束对该基板的周缘部进行曝光的工序；使所述光源和第1光路形成部件及第2光路形成部件相对移动到来自所述光源的光电子束偏离第1光路形成部件的入口侧，并且通过第2光路形成部件的入口侧的位置，使放置在第2放置台上的基板绕垂直轴旋转，并且通过来自所述第2光路形成部件的出口侧的光电子束对该基板的周缘部进行曝光的工序。在这些周边曝光方法中，所述第1放置台和第2放置台可以是上下配置的。而且，所述第1光路形成部件和第2光路形成部件可以分别包含方型的导光棒。各光路形成部件的入口侧可以是该导光棒的根端侧。根据本专利技术，能够采用共通的光源对例如第1放置台上的基板和第2放置台上的基板同时进行周缘曝光。因此，具有较强的处理能力，并且能够抑制装置大型化。而且，为了有效地对基板的周缘进行曝光，例如使作为光路形成部件的导光棒为方型是有效的，但在这种情况下，通过将方型的第1导光棒和第2导光棒收敛于光源的圆形的电子束光点中，能够减小电子束的浪费区域，其结果实现能源的节省。另外，在将第1放置台和第2放置台上下配置的情况下，能够减小设置本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种周缘曝光装置，通过曝光用的光源对形成有感光性薄膜的基板的周缘部进行曝光，其特征是，包括：第１光路形成部件和第２光路形成部件，各自的入口侧配置在来自所述光源的光电子束内；第１放置台，放置基板，绕垂直轴自由旋转，并且设置成该 基板的周缘部位于来自所述第１光路形成部件的出口侧的光电子束照射区域；第２放置台，放置基板，绕垂直轴自由旋转，并且设置成该基板的周缘部位于来自所述第２光路形成部件的出口侧的光电子束照射区域；遮光机构，用于遮挡来自第１光路形成部 件和第２光路形成部件的光的照射。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：岩下泰治，下村一郎，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]