用于光聚合的酸稳定硼酸盐制造技术

＊＊＊ （Ⅰ） 通式（Ⅰ）的化合物：其中：Ｒ↓［１］是取代或未取代的Ｃ↓［１］－Ｃ↓［２０］烷基或苯基－Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基；Ｒ↓［２］、Ｒ↓［３］和Ｒ↓［４］相互独立地是取代或未取代的苯基或联苯基；芳族基团Ｒ↓［２］，Ｒ↓［３］和Ｒ↓［４］上的取代基的Ｈａｍｍｅｔｔσ常数之和（∑σ）在＋０．３６至＋２．５８之间；Ｒ↓［８］、Ｒ↓［９］、Ｒ↓［１４］、Ｒ↓［１５］、Ｒ↓［１６］例如是Ｃ↓［１］－Ｃ↓［１２］烷基，苯基－Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基或苯基，Ｇ是一个能形成正离子的基团，可用作含有酸性基团的可光聚合组合物的光引发剂，必要时可存在助引发剂。（*该技术在2016年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及在含酸介质中稳定的高活性硼酸盐光引发剂化合物，含有这些化合物的可光聚合的组合物，以及该化合物作为引发剂在聚合中的应用。在现有技术中，硼酸盐作为光引发剂结合助引发剂一起使用是已知的。如美国专利US4,772,530、4,772,541和5,151,520公开了含有作为抗衡离子的阳离子染料如花青、若丹明等的三芳基烷基硼酸盐阴离子。这些化合物被用作光引发剂。在美国专利4954414中，阳离子过渡金属配合物与三芳基烷基硼酸盐阴离子一起用在可光聚合的组合物中。从美国专利5055372中知道，可用季铵盐化合物，如四甲基铵、吡啶鎓、十六烷基吡啶鎓等作为三芳基烷基硼酸盐的阳离子抗衡离子。在本公开中，硼酸盐结合作为助引发剂的芳族酮引发剂化合物用在可光固化材料中。这些硼酸盐在含有具有酸性基团的组分的介质中是不稳定的，所以在这些介质中不能用作光引发剂。对于广泛使用的光引发剂，工业上需要稳定的活性化合物，尤其是在酸性介质中稳定的那些。现在已令人意外地发现，一些单硼酸盐化合物即使是在含酸介质中也是足够稳定并具有反应活性的。因此本专利技术提供了具有通式(I)的化合物 其中R1是C1-C20烷基，C3-C12环烷基，C2-C8链烯基，苯基-C1-C6烷基或萘基-C1-C3烷基，其中基团C1-C20烷基，C3-C12环烷基，C2-C8链烯基，苯基-C1-C6烷基或萘基-C1-C3烷基可以被一个或多个基团O，S(O)p或NR5所隔断，或者C1-C20烷基，C3-C12环烷基，C2-C8链烯基，苯基-C1-C6烷基，萘基-C1-C3烷基是未被取代的，或是被C1-C12烷基，OR6，R7S(O)p，R7S(O)2O，NR8R9，SiR10R11R12，BR13R14，R15R16P(O)q所取代；R2，R3，和R4相互独立地是苯基或联苯基，其中苯基或联苯基是未被取代的或是被以下基团所取代未取代的或OR6-，NR8R9-或卤素-取代的C1-C12烷基，OR6，R7S(O)p，R7S(O)2O，R8R9NS(O)2，NR8R9，NR8R9CO， ，SiR10R11R12，BR13R14，卤素，R15R16P(O)q， 或 其中，在芳基R2、R3和R4上的取代基的Hammettσ常数之和(∑σ)在+0.36至+2.58之间；X是O，S或NR21；R5是氢，C1-C12烷基，未取代的或被C1-C6烷基，C1-C12烷氧基或卤素取代一至五次的苯基-C1-C6烷基，或未取代的或被C1-C6烷基，C1-C12烷氧基或卤素取代一至五次的苯基；R6和R7是未取代的或卤素取代的C1-C12烷基、未取代的或被C1-C6烷基，C1-C12烷氧基或卤素取代一至五次的苯基-C1-C6烷基、或未取代的或被C1-C6烷基，C1-C12烷氧基或卤素取代一至五次的苯基；R8、R9、R10、R11、R12、R13、R14、R15和R16相互独立地是C1-C12烷基，C3-C12环烷基、未取代的或被C1-C6烷基，C1-C12烷氧基或卤素取代一至五次的苯基-C1-C6烷基，或未取代的或被C1-C6烷基，C1-C12烷氧基或卤素取代一至五次的苯基；或者R8、R9和与它们相连的N原子一起形成6-元脂肪族环，作为其它杂原子，可以额外含有氧或硫；R17、R18、R19和R20相互独立地是氢、未取代的或被C1-C12烷氧基取代的C1-C12烷基、苯基或苯基-C1-C6烷基，其中苯基或苯基-C1-C6烷基是未取代的或是被C1-C6烷基，C1-C12烷氧基或卤素取代一至五次的；p是一个0-2的数；r是一个0-5的数；R21是氢或C1-C12烷基；R22、R22a、R23、R24相互独立地是氢、未取代的或C1-C12烷氧基-，OH-或卤素取代的C1-C12烷基、未取代的或C1-C12烷氧基-，OH-或卤素取代的苯基；和q是0或1；G是可以形成正离子的基团。本专利技术还提供了组合物，包含(a)至少一种烯属不饱和化合物；(b)至少一种含有酸性基团的化合物，酸性基团也可以存在于组分(a)中；(c)至少一种通式(I)的光引发剂；和(d)如果必要的话，至少一种助引发剂。不管是添加或不添加助引发剂，通式I的化合物都是高活性的烯属不饱和化合物的光聚合引发剂。在化合物中，在芳基R2、R3和R4上的取代基的Hammettσ常数之和(∑σ)在+0.36到+2.58之间。取代苯基或联苯基可以被取代一至四次，如一次，两次或三次，优选一次或两次。C1-C20烷基是直链的或支链的，如C1-C12、C1-C8、C1-C6或C1-C4烷基。因此，可以是甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、异丁基、叔丁基、戊基、己基、庚基、2，4，4-三甲基戊基、2-乙基己基、辛基、壬基、癸基、十一烷基、十二烷基、十四烷基、十五烷基、十六烷基、十七烷基、十八烷基、十九烷基或二十烷基。例如，R1是C1-C12烷基，特别是C1-C8烷基，优选C1-C6烷基，如甲基或己基。R1、R2、R3和R4是被R9R10R11Si取代的C1-C20烷基时，烷基的例子有C1-C12烷基，特别是C1-C8烷基，优选C1-C4烷基。甲基是特别优选的。C1-C12烷基和C1-C6烷基也可以是直链的或支链的，并且例如具有上面给出的高达相应的碳原子数的定义。R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13是例如C1-C8烷基，特别是C1-C6烷基，优选C1-C4烷基，如甲基或丁基。苯基-C1-C6烷基、苯基或联苯基的C1-C6烷基取代基特别是C1-C4烷基，如甲基或丁基。鲸蜡基是十六烷基。被-O-，-S(O)p-或-NR5-隔断一次或多次的C2-C20烷基例如被-O-，-S(O)p-或-NR5-隔断1-9次，如1-7次，或一次或两次。这产生了如-CH2-O-CH3，-CH2CH2-O-CH2CH3，-y-CH3， 其中y＝1-9，-(CH2CH2O)7CH2CH3，-CH2-CH(CH3)-O-CH2CH2-CH3或-CH2-CH(CH3)-O-CH2CH3的结构单元。C3-C12环烷基是环丙基、环戊基、环己基、环辛基、环十二烷基，特别是环戊基、环己基，优选环己基。C2-C8链烯基是单或多不饱和的，如烯丙基，甲代烯丙基，1，1-二甲基烯丙基，1-丁烯基，3-丁烯基，2-丁烯基，1，3-戊二烯基，5-己烯基或7-辛烯基，特别是烯丙基。作为C2-C8链烯基的R4是例如C2-C6链烯基，特别是C2-C4链烯基。苯基-C1-C6烷基是如苄基、苯乙基、α-甲基苄基、苯基戊基、苯基己基或α，α-二甲基苄基，特别是苄基。优选的是苯基-C1-C4烷基，特别是苯基-C1-C2烷基。取代苯基-C1-C6烷基是在苯环上被取代一至四次，如一次，两次或三次，特别是一次或两次。取代苯基在其苯环上被取代一至五次，如一次，两次或三次，特别是一次或两次。萘基-C1-C3烷基是如萘甲基，萘乙基，萘丙基或萘基-1-甲基乙基，特别是萘甲基。烷基单元可以在萘环系统的位置1或位置2上。取代萘基C1-C3烷基在其芳环上被取代一至四次，如一次，两次或三次，特别是一次或两次。C1-C12烷氧基代表直链或支链基团，如甲氧基、乙氧基、丙氧基、异丙氧基、正丁氧基、仲丁氧基、异丁氧基、叔本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种通式（Ⅰ）的化合物： ＊＊＊ （Ⅰ） 其中： Ｒ↓［１］是Ｃ↓［１］－Ｃ↓［２０］烷基，Ｃ↓［３］－Ｃ↓［１２］环烷基，Ｃ↓［２］－Ｃ↓［８］链烯基，苯基－Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基或萘基－Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３］烷基，其中基团Ｃ↓［１］－Ｃ↓［２０］烷基，Ｃ↓［３］－Ｃ↓［１２］环烷基，Ｃ↓［２］－Ｃ↓［８］链烯基，苯基－Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基或萘基－Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３］烷基可以被一个或多个基团Ｏ，Ｓ（Ｏ）↓［ｐ］，ＮＲ↓［５］所隔断，或者Ｃ↓［１］－Ｃ↓［２０］烷基，Ｃ↓［３］－Ｃ↓［１２］环烷基，Ｃ↓［２］－Ｃ↓［８］链烯基，苯基－Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基，萘基－Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３］烷基是未被取代的，或是被Ｃ↓［１］－Ｃ↓［１２］烷基，ＯＲ↓［６］，Ｒ↓［７］Ｓ（Ｏ）↓［ｐ］，Ｒ↓［７］Ｓ（Ｏ）↓［２］Ｏ，ＮＲ↓［８］Ｒ↓［９］，ＳｉＲ↓［１０］Ｒ↓［１１］Ｒ↓［１２］，ＢＲ↓［１３］Ｒ↓［１４］，Ｒ↓［１５］Ｒ↓［１６］Ｐ（Ｏ）↓［ｑ］所取代；Ｒ↓［２］，Ｒ↓［３］和Ｒ↓［４］相互独立地是苯基或联苯基，其中苯基或联苯基是未被取代的或是被以下基团所取代：未取代的或ＯＲ↓［６］－，ＮＲ↓［８］Ｒ↓［９］－或卤素－取代的Ｃ↓［１］－Ｃ↓［１２］烷基，ＯＲ↓［６］，Ｒ↓［７］Ｓ（Ｏ）↓［ｐ］，Ｒ↓［７］Ｓ（Ｏ）↓［２］Ｏ，Ｒ↓［８］Ｒ↓［９］ＮＳ（Ｏ）↓［２］，ＮＲ↓［８］Ｒ↓［９］，ＮＲ↓［８］Ｒ↓［９］ＣＯ，＊＊＊，＊＊＊，ＳｉＲ↓［１０］Ｒ↓［１１］Ｒ↓［１２］，ＢＲ↓［１３］Ｒ↓［１４］，卤素，Ｒ↓［１５］Ｒ↓［１６］Ｐ（Ｏ）↓［ｑ］，＊＊＊，＊＊＊，＊＊＊或＊＊＊； 其中，在芳基Ｒ↓［２］、Ｒ↓［３］和Ｒ↓［４］上的取代基的Ｈａｍｍｅｔｔσ常数之和（∑σ）在＋０．３６至＋２．５８之间； Ｘ是Ｏ，Ｓ或ＮＲ↓［２１］； Ｒ↓［５］是氢，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［１２］烷基，未取代的或被Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［１２］烷氧基或卤素取代一至五次的苯基－Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基，或未取代的或被Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［１２］烷氧基或卤素取代一至五次的苯基； Ｒ↓［６］和Ｒ↓［７］是未取代的或卤素取代的Ｃ↓［１］－Ｃ↓［１２］烷基、未取代的或被Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［１２］烷氧基或卤素取代一至五次的苯基－Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基、...

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：AF库宁格哈姆，M库恩兹，H库拉，
申请(专利权)人：希巴特殊化学控股公司，
类型：发明
国别省市：CH[瑞士]