照相乳剂面保护层转印膜及具有该保护层的光掩模制造技术

本发明专利技术涉及一种照相乳剂面保护层的转印膜，其特征在于，该转印膜在具有剥离性的支持体的任一表面上设计有具有粘合性的未固化的照相乳剂面保护层，该未固化的照相乳剂面保护层含有具有亲水性基团的单官能（甲基）丙烯酸酯以及多官能（甲基）丙烯酸酯所的电离辐射固化型树脂组合物。上述转印膜的粘合层，不仅耐损伤性优异，与乳剂面的紧密粘合性优异，而且耐溶剂性优异，因此特别是当将其用作光掩模乳剂面的保护层时，能够制备具有长时间使用稳定性的光掩模。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及为了将保护层转印到用于印刷电路板或显示板图形形成的光掩模以及制版用光掩模的乳剂面而使用的转印膜，以及通过保护层而使乳剂面受到保护的光掩模。
技术介绍
各种材料的表面保护方法，到目前为止已知的有，将在聚酯薄膜等薄膜表面设计有粘合剂层的保护层贴到对象物表面的方法，在具有剥离性薄膜上设计有保护层，通过粘合剂或粘着剂，将保护层转印到对象物表面上的方法等。当通过这种粘合剂或粘着剂将保护层转印到对象物表面时，虽然具有能够设计薄保护层的优点，但是粘合剂层或粘着剂层的强度比保护层的强度弱，因此具有无法获得整体上具备足够强度的缺点。为了解决该缺点，到目前为止进行了各种研究。例如特开昭64-18698号公报以及特开平4-201478号公报中，公开了在剥离性片材的剥离性表面上设计了由未固化状态下为固体，同时为热塑性电离辐射固化树脂构成的保护层及粘合层的专利技术。此外，特开平7-125496号公报公开了在具有剥离性基材薄膜上，通过照射使紫外线固化树脂涂料完全固化所必需的紫外线照射量的1/3～2/3，从而形成处于凝胶化状态的非粘合、半固化状态的固化层，并设计有其下涂层的转印膜。但是，在这些转印膜中，由于与对象物表面的粘合层为非粘合性的，因此为了使转印膜与对象物的表面粘着，在贴合时要进行加热，或需进一步对对象物的表面涂覆紫外线固化型树脂，具有过程复杂的缺点。此外，对于不耐热或溶剂的材料(例如用于光掩模等的照相薄膜的乳剂面等)，出现了无法进行转印的问题。此外，特开昭61-258742号公报公开了将能从支持体上剥离，同时具有粘着性的保护层，单独或通过热融着层以及压敏粘合层，转印到对象物表面的方法，但是，在使用该方法时，转印时需加热，如果为了避免加热而使用压敏粘合层，则具有保护层的表面强度降低的缺点。另一方面，光掩模通常为，由透明基材和在该基材上设计的乳剂层构成，通过摄影测图仪等装置曝光，经水洗等显影、定影、经干燥，用CAD系统等作成图形进行再现的薄层。此外，其中形成所需图形的光掩模，多数情况是作为所谓光刻过程的原版使用。即，含有感光性树脂层，通过接触或具有狭小空隙相粘着的光掩模进行曝光，随后显影、干燥，能够形成与光掩模图形相对应的图形。但是，用于光掩模的乳剂层的主要成分为明胶，其铅笔硬度为2B以下。因此，在上述光刻过程中，特别是对于没有设计保护层，对对象物感光性树脂的乳剂面进行接触曝光时，光掩模上产生瑕疵，图形的一部分丢失。此外，由于微生物的污染，其成为光掩模上的信息丢失的原因。因此，以往在未保护的光掩模(本专利技术说明书中，将没有设计保护层等，处于乳剂层表面暴露状态的光掩模称作未保护光掩模)的乳剂面上贴上市场上出售的带有粘合剂的薄膜，以拟补上述缺点。但是，这些带有粘合剂的薄膜，由于粘合剂层软，容易受到硬的异物的损伤，此外，还具有薄膜自身产生擦伤等缺点。因此，如果光掩模的使用次数增加，则必需替换粘贴的保护层，因此，不具备足够的保护层的功能。为了改善上述缺点，将带有粘合剂的薄膜的膜厚加大，从而使保护层的强度提高，但是其不仅产生作为光掩模光学特性之一的紫外线透过率降低，必须延长曝光时间，而且使光的反射、折射、乱射的影响明显，不能获得高精度的图形。即，当使用带有粘合剂的薄膜时，如果为了不出现上述在光学特性面出现的问题而使厚度加大，则保护层的强度不能得到保护(铅笔硬度为B)，而且也无法改善容易产生缺陷的缺点。此外，当薄膜薄而与未保护的光掩模贴合时，容易产生褶皱，操作性差。因此，带有粘合剂的薄膜，既满足其作为保护层的足够的强度，同时满足其具有良好紫外线透过率和操作性，是困难的。此外，如特开平11-305420号公报中记载的那样，其尝试在未保护的光掩模通过喷涂、旋转涂覆、浸渍涂覆等各种方法涂覆涂料，随后在进行干燥的同时，使其热固化，从而设计有保护层。但是，采用该方法，由于需要进行18～72小时的加热蚀刻，因此有损伤乳剂面的可能，而且在涂覆过程(未干燥涂覆过程)中，控制膜厚困难，难于实际使用。因此，本专利技术的第1目的在于，提供一种即使对于耐热性或耐溶剂性小的乳剂面，能够在与乳剂层很好地紧密结合的同时，易于形成耐损伤性优异的保护层的转印膜。本专利技术的第2目的在于，提供光学特性优异，同时具有优异的耐损伤性的带有保护层的光掩模。
技术实现思路
本专利技术的专利技术者们，发现通过在支持体的表面上特别设计具有粘合性的未固化照相乳剂面保护层(以下称之为粘合层)，能够获得转印操作性优异的转印膜。本专利技术涉及一种照相乳剂面保护层的转印膜，其特征在于，该转印膜在具有剥离性的支持体的表面上设计有至少由电离辐射固化型树脂构成的粘合层，上述电离辐射固化型组合物含有由具有亲水性基团的单官能(甲基)丙烯酸酯以及多官能(甲基)丙烯酸酯。本专利技术还涉及使用该转印膜的照相乳剂面保护层的形成方法以及通过该形成方法而制造的带有保护层的光掩模。在支持体与粘合层之间可以存在固化层。本专利技术的转印膜，进一步通过使上述粘合层含有热固性的树脂以及/或聚胺，粘着力的调整变得特别容易，特别适于赋予与光掩模乳剂面紧密结合性高，强度高的保护层。这样制备的带有保护层的光掩模的光学特性不仅毫不逊色于无保护层的情况，而且其耐损伤性显著改善。附图的简要说明第1图为显示本专利技术的转印膜形态的结构图，第2图为显示用本专利技术的转印膜，在光掩模设计有转印单元的形态的结构图。本专利技术实施的最佳形态以下对本专利技术进行详细说明。用于本专利技术转印膜，具有剥离性的支持体可以从设计在支持体上的粘合层或固化层能够剥离的已知材料中选取，聚丙烯、聚乙烯、聚氯乙烯、聚苯乙烯、聚碳酸酯等为主要成分的塑料膜特别适合。支持体的厚度没有特别的限制，如果为大约20μm～大约150μm，则向对象物转印时不易产生褶皱或气泡，操作性优异。另外，在本专利技术中，为了使粘合层的转印变得容易，可以将对片状基材进行剥离处理的剥离处理基材用作支持体。作为该剥离处理基材，可以在除被硅氧烷、或特氟隆等涂覆的市场上出售的剥离薄膜之外的片状基材上涂覆聚氨酯树脂、蜜胺树脂、氟树脂、硅氧烷树脂、聚酯树脂、聚烯烃树脂的任何一个，或含这些的混合物的涂覆液，使其干燥后的厚度为0.1～5μm，更优选地，为1～2μm，从而能够在设计有干燥的剥离层下使用。此外，当在剥离层中添加颜料作为消光剂时，由于其上面涂覆有粘合层或必要时，消光图形形成于所设计的固化层上，因此能够提供给对象物最外表面被消光化的保护层。即，从本专利技术的转印膜被转印的保护层的最外表面，具有与转印膜支持体的剥离面相同的表面形状。如果支持体的剥离面平滑，则被转印的保护层的最外表面平滑，剥离面消光时，被转印的保护层的最外表面也被消光化。对于100份的树脂，通过添加0.5份以上上述填料容易制得消光剥离层。即使最外表面被消光化，但由于在保护层的内部无颜料存在，因此层内的光线没有散乱。因此，可以再现精细的图形，能够有利地用作光掩模的保护层。例如，在印刷线路板上的光致抗蚀剂上形成图形时，通过对光掩模和印刷线路板上的光致抗蚀剂表面之间减压，在使其充分紧密结合后进行曝光。此时，如果光掩模的保护层被消光化，则光掩模与光致抗蚀剂之间的空气抽出变得顺利，因此能够抑制两者间的残存气泡的产生。残存气泡是图形曝光时导致光线折射、反射、散乱的原因，从而妨碍图形的再现。使光本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种照相乳剂面保护层的转印膜，其特征在于，转印膜在具有剥离性的支持体的任一表面上设计有具有粘合性的未固化照相乳剂面保护层，该未固化的照相乳剂面保护层含有由含有亲水性基团的单官能（甲基）丙烯酸酯以及多官能（甲基）丙烯酸酯构成的电离辐射固化型树脂组合物。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：高田俊彦，佐久间真，永岛和夫，大村知伸，
申请(专利权)人：日本制纸株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]