形成反光图案的方法及其制品技术

一种形成反光图案的方法及其制品，该方法包含下列步骤：（ａ）以光刻方式于一金属本体的表面上定义一包含数线条的图案，使该各线条部分显露该表面；（ｂ）以湿蚀刻方式移除部分位于各该线条处的金属本体，使对应于各该线条处形成断面呈弧形的凹纹，利用该各凹纹的反光效果呈现该图案的讯息。而依上述方法所制造的制品，则包含一具有一表面的金属本体，以及该包含数形成于该表面且断面呈弧形的凹纹的图案，由该各凹纹的反光效果呈现该图案的讯息。本发明专利技术可用于加工如信用卡等防伪的光学干涉图案，具有速度快、成本低、能直接于一金属表面形成反光图案的优点。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种形成供人观赏的图案的方法及其制品，特别是涉及一种于金属表面形成反光图案的方法及其制品。
技术介绍
现行于金属表面利用极细致的纹路形成具有干涉效果的反光图案的方式，主要是以如钻石刀等硬度较高的刀具进行机械雕刻，由于是以刀具进行金属表面加工，因此其能应用的金属材料较为广泛，且适合于物体表面形成纹路后，再实施如电镀钛或阳极处理等可增加其反光效果或耐久的表面处理；但当其所形成的纹路宽度限定在数百微米(μm)的数量级时，如图1及图2所示，便仅能以斜面形成彼此相互平行的直线，或同心的圆弧，而无法形成较为复杂的图案，甚至无法以线段的方式呈现，因此当应用于制造能产生光学干涉效果的图案时，由斜面仅能在特定角度形成一定的视觉效果，而由同心圆弧所形成的图案，则仅能产生部分旋光的效果，难以增加其变化态样与应用范围。另外，现有广泛应用于如信用卡等防伪的光学干涉图案，如彩虹全息图等的制作方式，则是以印刷转印的方式进行，一般是先将一具有欲呈现的光学讯息的图案成像于一底片上，如彩虹全息图的底片，随后以激光将该底片的图案以曝光显影的方式定义于一光阻层(photoresist)上，再以电镀法电镀一镍层于该光阻层上，从而形成一具有上述图案的冲模。最后，将该冲膜压印至一透明胶片上，以将该图案翻印至该透明胶片，并于该透明胶片受压印侧镀上一铝层，再将其贴附于一表面上，利用该铝层反射光线而呈现出该图案的讯息。上述形成具有光学干涉效果的图案的方式，不仅制作过程繁琐复杂，其中金属膜层电镀的过程，不仅使得所能选用的材料受限，其更存在速度慢及成本高的缺点。此外，由于无法直接将该图案形成于一如金属的物体表面上，而必须利用粘贴的方式间接地将该图案“转贴”至一表面上，使得其不仅必须考虑是否能融入最终产品的视觉外观外，由于其所使用的粘剂与粘贴技术，相当地限制了其使用寿限及使用环境。
技术实现思路
本专利技术的目的是在于提供一种于金属表面以蚀刻方式形成反光图案的方法及其制品。本专利技术的另一目的是在于提供一种于金属表面形成产生光学干涉效果的图案的方法及其制品。本专利技术的又一目的是在于提供一种速度快、成本低，且能直接于一金属表面形成反光图案的方法及其制品。为了达到上述目的，本专利技术提供一种形成反光图案的方法，其特征在于该方法包含下列步骤(a)以光刻方式于一金属本体的表面上定义一包含数线条的图案，使该各线条部分显露该表面；及(b)以湿蚀刻方式移除部分位于各该线条处的金属本体，使对应于各该线条处形成断面呈弧形的具反光效果的凹纹，利用该各凹纹的反光效果呈现该图案的讯息。所述的形成反光图案的方法，其特征在于该步骤(a)是形成宽度在15微米至200微米范围内的各该线条。所述的形成反光图案的方法，其特征在于该步骤(b)是形成深度不大于其宽度的二分之一的该各凹纹。所述的形成反光图案的方法，其特征在于该步骤(b)是形成深度不小于其宽度的十五分之一的该各凹纹。所述的形成反光图案的方法，其特征在于该步骤(a)是形成彼此间距在30微米至250微米范围内的该各线条。所述的形成反光图案的方法，其特征在于该步骤(a)包含下列步骤(a-1)制备一具有该图案的光罩；(a-2)涂布一光阻层于该金属本体的表面上；及(a-3)转移该光罩的该图案至该光阻层上。所述的形成反光图案的方法，其特征在于该步骤(b)包含下列步骤(b-1)利用该光阻层为蚀刻障蔽以一蚀刻液蚀刻该金属本体的表面；及(b-2)清除该光阻层，以完全显露包含该各凹纹的该表面。所述的形成反光图案的方法，其特征在于该方法还包含于步骤(b)之后的下列步骤(c)沉积一金属薄膜至该表面。所述的形成反光图案的方法，其特征在于该步骤(c)是以电镀方式沉积该金属薄膜至该表面。所述的形成反光图案的方法，其特征在于该方法还包含于步骤(b)之后的下列步骤(d)对该金属本体的表面进行阳极处理。本专利技术还提供一种以如上所述的形成反光图案的方法所制造的一种具有反光图案的制品，其特征在于该制品包含一金属本体及形成于该金属本体一表面的图案，该图案包含数个断面呈弧形的具反光效果的凹纹。本专利技术还提供一种具有反光图案的制品，包含一金属本体及一图案，其特征在于该金属本体具有一表面；该图案包含数形成于该表面且断面呈弧形的具反光效果的凹纹，通过该各凹纹的反光效果以呈现该图案的讯息。所述的具有反光图案的制品，其特征在于该各凹纹是以湿蚀刻方式形成。所述的具有反光图案的制品，其特征在于该各凹纹的宽度在15微米至200微米的范围内。所述的具有反光图案的制品，其特征在于该各凹纹的间隔距离在30微米至250微米的范围内。所述的具有反光图案的制品，其特征在于该各凹纹的深度不大于其宽度的二分之一。所述的具有反光图案的制品，其特征在于该各凹纹的深度不小于其宽度的十五分之一。所述的具有反光图案的制品，其特征在于该具有反光图案的制品还包含一设置于该表面及该各凹纹处的金属薄膜。综上所述，无论是以光学干涉原理所设计的图案，或是运用薄膜干涉原理所设计具有如彩虹全息图般变色效果的图案，均能以本专利技术该等凹纹的宽度与间距，或者各该凹纹底部及边缘平面区域的变化加以制作完成，而相对于一般以印刷方式形成干涉及彩虹全息图的方法，不仅成本较低，制造程序上更为简单，且更能运用于各式金属材料上，大幅增加其可能态样与应用领域，此外，本专利技术更能轻易地利用光学蚀刻的方式形成以线段方式呈线的复杂图案，使得本专利技术形成反光图案的方法及其制品能直接地于金属本体的表面快速大量批造复杂且具有光学干涉效果的图案，并利用呈弧形断面的凹纹强化及深化光学效果，同时更能采用其他各种表面处理为后制造程序，以增加使用寿命与适用环境，充分达到本专利技术的目的。附图说明下面结合附图及实施例对本专利技术进行详细说明图1是现有一般以机械雕刻于金属表面形成图案的一显微照片；图2是沿图1中的线II-II的一剖面示意图；图3是本专利技术的较佳实施例的一流程图；图4是该较佳实施例的一剖面示意图，说明具有一图案的一光罩与涂布有一光阻层的一金属本体；图5是该较佳实施例的一剖面示意图，说明定义该图案于该光阻层图6是该较佳实施例的一剖面示意图，说明移除该金属本体的部份以形成数凹纹；图7是该较佳实施例的一剖面示意图，说明清除该光阻层；图8是该较佳实施例的一剖面示意图，说明镀设一金属薄膜于该金属本体上；图9是该较佳实施例的一显微照片；图10是图9的部分放大的一显微照片；图11是图10的部分再放大的一显微照片；及图12是沿图11中的线XII-XII的一剖面示意图。具体实施方式本专利技术形成反光图案的方法及其制品的较佳实施例是将一反光效果的图案形成于一如行动电话等携带型电子装置的金属壳体上，其中该金属壳体的材料为铝合金，如图3所示，本专利技术形成反光图案20的方法包含下列步骤步骤100，如图4所示，制备一具有一上述图案20的光罩3，该图案20包含数线条21。步骤102，涂布一光阻层4于一金属本体5的表面51上，其中，该金属本体5的表面51预先进行如酸洗等的表面清洁处理，而该光阻层4在本实施例中则是采用能以刮刀及离心等方式涂布5微米厚的湿式光阻剂所形成。步骤104，如图5所示，转移该光罩3的该图案20至该光阻层4上，以形成该等部分显露该金属本体5的表面51的线条41，在此便是以一般所谓的曝光显影方式将该图本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种形成反光图案的方法，其特征在于：该方法包含下列步骤：（ａ）以光刻方式于一金属本体的表面上定义一包含数线条的图案，使该各线条部分显露该表面；及（ｂ）以湿蚀刻方式移除部分位于各该线条处的金属本体，使对应于各该线条处形成断面呈 弧形具反光效果的凹纹，利用该各凹纹的反光效果呈现该图案的讯息。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：林叶煌，
申请(专利权)人：宏桥科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]