用于喷砂保护层的光聚合树脂组合物制造技术

本发明专利技术涉及一种用于喷砂保护层的光聚合树脂组合物，其以含烷基末端的聚烷撑二醇一（甲基）丙烯酸酯化合物、选自聚烷撑二醇二（甲基）丙烯酸酯化合物的化合物、以及含（甲基）丙烯酸酯端基的氨基甲酸乙酯化合物为可光聚合的低聚物，其中的氨基甲酸乙酯化合物衍生自含羟基端基的聚醚或聚酯化合物、二异氰酸酯化合物和含羟基的（甲基）丙烯酸酯化合物。含这种光聚合树脂组合物的保护层与单独使用含（甲基）丙烯酸酯端基的氨基甲酸乙酯化合物或者和常规用于干膜的不饱和（甲基）丙烯酸酯化合物组合的保护层相比，其反应性有显著提高。特别是该保护层保证了在固化区显影后对光聚合树脂组合物表面的损伤方面有明显改善，而这种损伤对于使用含羧基的纤维素化合物作为可溶于碱性水溶液的聚合物的树脂组合物而言是非常严重的。因此，本发明专利技术可以提供一种用于实现高分辨率或者制造高分辨率ＰＤＰｓ的喷砂保护层。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于喷砂保护层的光聚合树脂组合物，更具体而言，涉及以(甲基)丙烯酸酯化合物为光聚合低聚物的光聚合树脂组合物， (甲基)丙烯酸酯化合物包括基于氨基甲酸乙酯的(甲基)丙烯酸酯与基于非氨基甲酸乙酯的环氧乙烷和氧化丙烯的共聚物，因此该光聚合树脂组合物满足干膜保护层所需的性质，例如合乎等离子体显示板(PDPs)维持高分辨率最新趋势的高分辨率和高粘附力。
技术介绍
干膜保护层在制作印刷电路板时被广泛用作电路图案的基础材料，近年来其应用已经扩展到不同的领域。人们对在通常在液态保护层上进行加工的领域中使用干膜保护层进行了许多努力，因而现在干膜保护层被广泛用于IC包装，或者引线框或BGA(球磨阵列)方法中。最近，在用作透明电极的ITO(氧化铟锡)的形成图案的方法中，或者在制作PDPs的PDP栏-肋(barrier rib)方法中大量使用干膜光致抗蚀剂。在使用干膜保护层(DFR)的PDP后玻璃基质上形成分区的方法包括用加热辊将干膜保护层层压在印有分区的PDP材料上的步骤。在该方法中，使用层压机将DFR的光致抗蚀剂层层压在隔离材料上，同时除去DFR的保护膜。一般而言，进行层压的条件如下层压速度为0.5～3.5m/min，温度为100～130℃，加热辊压为10～90psi。在层压过程之后，将所得的玻璃基质保持15分钟或更长时间，以使基质稳定，然后使用已经形成所需电路图案的光掩模，在DFR的光致抗蚀剂上进行曝光。该步处理中，在光掩模上进行UV照射，使光致抗蚀剂中所含的光引发剂引发光致抗蚀剂暴露区域的聚合。更具体而言，光致抗蚀剂中包含的氧被消耗光，然后活化单体发生聚合引起交联，随后更多的单体参与进来，从而引发聚合反应。光致抗蚀剂的未曝光区域依然保持原样，不产生交联。然后，进行显影处理以除去光致抗蚀剂的未曝光区域。对于可进行碱显影的干膜保护层，使用碳酸钾或碳酸钠水溶液(0.2～1.2重量％)作为显影液。该步处理中，光致抗蚀剂的未曝光区域是通过显影液和显影液中粘合剂聚合物的羧酸之间的皂化反应而被清洗除去的，而光致抗蚀剂的固化区依然保留在隔离材料表面上。对上述的其上已经将干膜保护层成图案的玻璃基质进行喷砂处理，形成分区图案。在喷砂处理中，形成在分区图案上的干膜图案起到了防止下面的隔离材料被剥蚀的保护层作用。随后，依次进行除去干膜保护层图案的剥离处理和固化隔离材料的焙烧处理，从而完成分区的形成。在除去UV固化的干膜保护层的烧蚀处理中，当使用NaOH或KOH水溶液这些印刷电路板主要使用的溶液时，没有烧结的隔离在烧蚀过程中可能倒坍。可以通过使用基于胺的专用烧蚀液或者修改处理方法来解决这一问题。但是，在使用基于胺的专用烧蚀液时，由于使用了研磨材料，少量的干膜保护层可能进入隔离材料表面中，从而产生严重的缺陷。此外，对于铅玻璃基质而言，其表面太粗糙了，以致于由于其表面的低一致性而产生干膜保护层的粘附问题，从而损害到隔离物。关于喷砂保护层的树脂组合物的现有技术实例包括日本公开专利Sho 60-10242，该专利公开了一种含以(甲基)丙烯酸酯基为端基的氨基甲酸乙酯化合物，基于单官能团乙烯的不饱和化合物，以及光引发剂的喷砂保护层树脂组合物；日本公开专利Sho 55-103554，该专利公开了一种含不饱和聚酯、不饱和单体和光引发剂的用于喷砂保护层的树脂组合物；以及日本公开专利Pyung 2-69754，该专利公开了一种含聚乙烯醇和重氮树脂的用于喷砂保护层的树脂组合物。这些树脂组合物都是液态的，难以处理，而且涂层厚度也很难控制。日本公开专利Pyung 6-161097和Pyung 6-161098描述了一种可光聚合的树脂组合物，该组合物包括以乙烯基不饱和双键作为其分子端基的氨基甲酸乙酯低聚物、纤维素衍生物或者含乙烯基不饱和双键的化合物、以及光引发剂。韩国专利No.198725，U.S.P Nos.6,200,733、5,924,912和6,322,947，日本专利公开Pyung 8-54734、Pyung 11-119430和2000-66391公开了制造喷砂保护层的方法，这种喷砂保护层包括光引发剂；可溶于碱的聚合物；以及衍生自含羟基端基的聚醚或聚酯化合物、二异氰酸酯化合物和含羟基的(甲基)丙烯酸酯化合物的含(甲基)丙烯酸酯端基的氨基甲酸乙酯化合物。依照上述方法，碱显影性好，而且弹性和柔软性高，但是使用含(甲基)丙烯酸酯端基的氨基甲酸乙酯化合物作为活性低聚物导致反应性低，因而耐碱显影性差且涂层强度低。因此，难以将这些方法应用于使用喷砂处理方法的高分辨率PDPs。换言之，常规的喷砂保护层树脂组合物包含光引发剂、可溶于碱的聚合物、以及衍生自含羟基端基的聚醚或聚酯化合物、二异氰酸酯化合物和含羟基的(甲基)丙烯酸酯化合物的含(甲基)丙烯酸酯端基的氨基甲酸乙酯化合物，如果使用含(甲基)丙烯酸酯端基的氨基甲酸乙酯化合物为活性低聚物，则反应性低且耐碱显影性差，使干膜保护层的粘附性变差，增加了显影后干膜保护层图案的溶胀，从而对分辨率产生不利影响。此外，树脂组合物中包含的上述可溶于碱的聚合物选自(甲基)丙烯酸和(甲基)丙烯酸酯共聚物，以及含羧基的纤维素化合物。特别是使用含羧基的纤维素化合物时，会造成对碱性水溶液化学稳定(耐受)性的极度下降，对在显影过程中形成的图案产生严重损害，因而难以形成高分辨率和高粘附力的图案。因此，本专利技术的专利技术者为了解决上述组合物存在的当使用纤维素化合物作为粘合剂聚合物和含(甲基)丙烯酸酯端基的氨基甲酸乙酯化合物作为活性低聚物时都使碱(化学)稳定性明显变差的问题，进行了研究，结果发现除了增塑剂外，使用特殊的单-或多官能团活性不饱和(甲基)丙烯酸酯，能够显著提高分辨率和碱稳定性，从而引人注目地改善了干膜保护层的粘附性，并由此完成了本专利技术。专利技术的公开内容本专利技术的一个目标是提供一种用于喷砂保护层的可光聚合的树脂组合物，该光聚合树脂组合物具有喷砂保护层所需的良好弹性和柔软性，提供通过光刻法形成图案的、和基质表面由高粘附力的抗蚀层，表现出良好的碱显影性且脱模时间短。本专利技术的另一个目标是提供一种用于喷砂保护层的可光聚合的树脂组合物，通过如下使用(甲基)丙烯酸酯化合物该(甲基)丙烯酸酯化合物含基于氨基甲酸乙酯的(甲基)丙烯酸酯与基于非氨基甲酸乙酯的环氧乙烷和氧化丙烯的共聚物，以及增塑剂，该光聚合树脂组合物提供了干膜所需的与PDPs维持高分辨率最新趋势相符的高分辨率和高粘附力。为了达到本专利技术的目标，本专利技术提供了一种用于喷砂保护层的光聚合树脂组合物，该组合物包括可溶于碱性水溶液的粘合剂聚合物、可光聚合的低聚物、光引发剂和添加剂。可光聚合的低聚物包括至少一种选自含烷基末端的聚烷撑二醇一(甲基)丙烯酸酯化合物和聚烷撑二醇二(甲基)丙烯酸酯化合物的化合物，其中前者选自如下通式I～IV所代表的化合物，后者选自如下通式V～VIII所代表的化合物。 上述通式中，R1是氢或甲基；R2是含1～30个碳原子的烷基；m为1～30的整数， 上述通式中，R1、R2和m如通式I所定义的；n为1～30的整数，其中n+m为2～50的整数， 上述通式中，R1、R2和m如通式II所定义， 上述通式中，R1、R2、m和n如通式II所定义；且x是1～30的整数，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于喷砂保护层的光聚合树脂组合物，该组合物包括可溶于碱性水溶液的粘合剂聚合物、可光聚合的低聚物、光引发剂和添加剂，可光聚合的低聚物包括至少一种含烷基末端的聚烷撑二醇一（甲基）丙烯酸酯化合物和聚烷撑二醇二（甲基）丙烯酸酯化合物，前 者选自如下通式Ⅰ～Ⅳ所代表的化合物，后者选自如下通式Ⅴ～Ⅷ所代表的化合物，＊＊＊（Ⅰ）其中Ｒ↓［１］是氢或甲基；Ｒ↓［２］是含１～３０个碳原子的烷基；ｍ为１～３０的整数，＊＊＊（Ⅱ）其中Ｒ↓［１］、Ｒ ↓［２］和ｍ如通式Ⅰ所定义；ｎ为１～３０的整数，其中ｎ＋ｍ为２～５０的整数，＊＊＊（Ⅲ）其中Ｒ↓［１］、Ｒ↓［２］、ｍ和ｎ如通式Ⅱ所定义，＊＊＊（Ⅳ）其中Ｒ↓［１］、Ｒ↓［２］、ｍ和ｎ如通式Ⅱ所定义； 且ｘ是１～３０的整数，其中ｍ＋ｎ＋ｘ为６～３０的整数，＊＊＊（Ⅴ）其中Ｒ↓［１］是氢或甲基；ｍ为１～３０的整数；ｎ为１～３０的整数，其中ｎ＋ｍ为３～３０的整数，＊＊＊（Ⅵ）其中Ｒ↓［１］、ｍ和ｎ如通式 Ⅴ所定义，＊＊＊（Ⅶ）其中Ｒ↓［１］、ｍ和ｎ如通式Ⅴ所定义；１是１～３０的整数；其中ｌ＋ｍ＋ｎ为３～５０的整数，＊＊＊（Ⅷ）其中Ｒ↓［１］、ｍ、ｎ和ｌ如通式Ⅶ所定义；ｐ是１～３０的整数，其中ｌ＋ｍ＋ｎ ＋ｐ为４～４０的整数。...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：崔埈赫，韩国贤，卢重铉，
申请(专利权)人：可隆株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]