光敏性树脂组合物和含有该组合物的光敏性干膜制造技术

一种可得到具有平衡的防喷砂性能和显影性能的干膜的光敏性树脂组合物。含有酸值小于１０ｍｇＫＯＨ／ｇ、每分子含有两个或多个（甲基）丙烯酰基的含有羧基的氨基甲酸酯（甲基）丙烯酸酯化合物，碱性可溶聚合物化合物，光致聚合引发剂和在其结构中包括由式（Ⅰ）表示的结构单元的可光致聚合化合物（Ｄ）的光敏性树脂组合物可得到优良平衡的性能。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光敏性树脂组合物和含有该组合物的光敏性干膜，并且特别涉及一种当形成干膜时可获得优良的显影性能以及在防喷砂性能方面优良的抗蚀图形的光敏性树脂组合物。
技术介绍
传统上，作为用于选择性地把加工材料(例如玻璃和陶瓷)雕刻的方法，已知一种被称作喷砂处理的方法。在喷砂处理过程中，把在被加工的材料上的有图案的光敏性树脂层作为掩模材料并且随后通过将研磨剂吹到该光敏性树脂层上而选择性地使未掩模的部分雕刻。已经把喷砂处理用来形成肋(分区)，其确定了等离子显示器中每一单元，以及具有金属模和陶瓷与磷的绝缘模的电路基片的图案形成。已经把光敏性干膜用于形成喷砂处理用的掩模材料。该光敏性干膜是具有通过以下方式获得的三层结构的薄膜将光敏性树脂组合物涂覆在可移动的支承膜上，将该涂膜半干燥以形成光敏性树脂层和将可移动的保护膜层压覆在其上面。在其使用时，将保护膜从光敏性树脂层上剥离，将未覆盖的光敏性树脂层覆盖在将被加工的材料上，并且由施加压力通过支承膜将光敏性树脂层压粘。随后，通过将光敏性树脂层对穿过支承膜的光曝光、将支承膜剥离和将树脂层进行显影处理而来形成在喷砂处理中作为掩模材料的抗蚀图形。近年来，随着光刻和喷砂技术的发展，已经希望在等离子显示器中得到具精细图案的肋。针对高加工产率地有效生产这种精细的肋图案，已经报道了各种许多含有羧基改性的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物和光致聚合引发剂的光敏性树脂组合物。例如，专利文献1(JP-平8-54734-A)公开了一种含有酸值为20-70mgKOH/g的羧基改性的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、碱性可溶聚合物化合物和光致聚合引发剂的光敏性树脂组合物。专利文献2(JP-平11-181042-A)公开了一种光敏性树脂组合物，除了光致聚合引发剂之外其还含有酸值为10-100mgKOH/g、基于含有羧基的丙烯酸氨基甲酸酯的树脂和含有某链段部分、基于丙烯酸氨基甲酸酯的树脂。
技术实现思路
要求用于喷砂处理的掩模材料具有足够的强度(防喷砂性能)，从而即使把研磨剂吹送预定的时间时，也不会把掩模材料磨损。关于上述含有羧基改性的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物和光致聚合引发剂的光敏性树脂组合物，已经发现羧基改性的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物的酸值与防喷砂性能有关。羧基改性的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物的酸值越高，防喷砂性能会降低越多。因此，当防喷砂性能重要时，优选将光敏性树脂组合物中羧基改性的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物的酸值含量保持尽可能的低。然而，降低羧基改性的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物的酸值会导致未曝光的部分不充分显影，然后其会导致低的分辨率。由于这样的低分辨率，不能形成精细的图案。因此，在常规的光敏性树脂组合物中，已经必须使用其酸值至少为10mgKOH/g或更高的羧基改性的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物。还已经公知通过增加光敏性树脂组合物中羧基改性的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物的含量可以提高防喷砂性能。然而，在这种情况下，所得的抗蚀图形的交联密度降低。因此，已经存在在显影下的精细图案有时会皱摺并且薄膜有时会脱离的问题。为了解决该问题，如果通过加入固化性能优良的可光致聚合单体来增加交联密度的话，则防喷砂性能降低，这会造成在喷砂加工时图案的缺陷。本专利技术已经考虑到上面的情况，本专利技术的目的是提供一种防喷砂性能和显影性能优良的光敏性树脂组合物，和一种具有该组合物的优点的光敏性干膜。作为为了解决以上问题的深入研究的结果，本专利技术人已经发现通过将酸值小于10mgKOH/g、每分子含有两个或多个(甲基)丙烯酰基的羧基改性的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物(A)与含有特定结构单元的可光致聚合化合物(D)一起使用，可获得防喷砂性能和显影性能优良的光敏性树脂组合物。从而本专利技术人基于该发现完成了本专利技术。本专利技术的光敏性树脂组合物的特征在于含有酸值小于10mgKOH/g、每分子含有两个或多个(甲基)丙烯酰基的羧基改性的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物(A)，碱性可溶聚合物化合物(B)，光致聚合引发剂(C)和在其结构中包括由下式(I)表示的结构单元的可光致聚合化合物(D)OCH2CH2 …(I)传统上，为了获得好的显影性能，必须使用酸值为10mgKOH/g或更高的羧基改性的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物，从而干膜中的防喷砂性能并不总是足够的。相反，根据本专利技术，通过使用在结构中包括由式(I)表示的结构单元的可光致聚合化合物(D)，即使使用酸值小于10mgKOH/g的羧基改性的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物，也可以保持好的显影性能。由此可以获得具有优良平衡的防喷砂性能和显影性能的光敏性树脂组合物。本专利技术的光敏性干膜具有在支承膜与保护膜之间的由本专利技术的光敏性树脂组合物形成的光敏性树脂组合物层。在其使用时，可以通过以下方式容易地将光敏性树脂层提供到将被加工的材料上将保护膜从光敏性树脂层上剥离，将未覆盖的光敏性树脂层覆盖在将被加工的材料上，并且随后将支承膜从光敏性树脂层上剥离。通过本专利技术的光敏性树脂组合物，可以形成防喷砂性能和显影性能优良的光敏性树脂层。由本专利技术的光敏性树脂组合物形成的光敏性树脂层适合用作用于喷砂处理用的掩模材料，因为该层的防喷砂性能和显影性能优良。因为可用容易剥离的可移动薄膜保护本专利技术的光敏性干膜的两面，光敏性干膜易于储存、运输和处理。尽管该膜具有有效期，该光敏性干膜可以制备并储存特定的时期。因此，该膜可以现成用于喷砂处理，并且可以有效地促进喷砂处理步骤。本专利技术的其他目的、特征和优点将由下面的专利技术详述具体说明或者说明得更清楚。具体实施例方式下面将以下列顺序阐述本专利技术的实施方案。光敏性树脂组合物 (A)羧基改性的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物(B)碱性可溶聚合物化合物(C)光致聚合引发剂(D)包括特定结构单元的可光致聚合化合物(E)其他可光致聚合单体(F)其他组分(G)组分的比例光敏性干膜光敏性树脂组合物本专利技术的光敏性树脂组合物包括酸值小于10mgKOH/g、每分子含有两个或多个(甲基)丙烯酰基的羧基改性的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物，碱性可溶聚合物化合物，光致聚合引发剂和在其结构中包括由下式(I)表示的特定结构单元的可光致聚合化合物。(A)羧基改性的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物用于本专利技术的光敏性树脂组合物的羧基改性的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物可以通过以下方式获得首先将多异氰酸酯化合物与含有羧基的二醇化合物反应以使得-NCO基团(异氰酸酯基团)保留在其两端，然后将该反应产物的末端-NCO基团与含有羟基的(甲基)丙烯酸酯化合物反应。将过量的多异氰酸酯化合物与二醇化合物反应以将-NCO基团留在反应产物的两端。特别地，羧基改性的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物可以通过以下步骤制备将多异氰酸酯化合物和含有羧基的二醇化合物加入配有冷却器和搅拌器的圆底烧瓶中。然后将溶剂(例如二噁烷)和催化剂加入其中。将混合物加热并且搅拌2-15小时。然后将含有羟基的(甲基)丙烯酸酯化合物(例如2-羟乙基丙烯酸酯和2-羟乙基甲基丙烯酸酯)和聚合引发剂(例如氢醌)加入其中。进一步将混合物加热并且搅拌1-8小时以生产目标化合物。当把多异氰酸酯化合物与含有羧基的二醇化合物反应时，可以通过本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光敏性树脂组合物，包括：酸值小于１０ｍｇＫＯＨ／ｇ、每分子含有两个或多个（甲基）丙烯酰基的羧基改性的氨基甲酸酯（甲基）丙烯酸酯化合物（Ａ），碱性可溶聚合物化合物（Ｂ），光致聚合引发剂（Ｃ）和在其结构中含有由下式（Ⅰ）表示的结构单元的可光致聚合化合物（Ｄ）：－（－ＯＣＨ↓［２］ＣＨ↓［２］－）－…（Ⅰ）。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：中里俊二，水泽龙马，带谷洋之，小野贵司，不二门勇介，
申请(专利权)人：东京応化工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]